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2-6. 潤濕(Wetting)現象

在文檔中 中 華 大 學 (頁 37-42)

潤濕( Wetting )簡單來說亦指液體在固體表面擴展(Spread)的行為,當液體接觸到 固體表面時,液體、固體及環境氣體間存在有界面張力,因此,在這張力的作用下,

液體與固體間之接合處存一接觸角(Contact angle)。如圖2-9為界面張力示意圖。在此 指的是銲錫在基材表面擴展的情形。判定潤濕性有許多量測方試,表達的潤濕性的指 標也就各有不同。常見的方法有濕潤天平(Wetting balance)、液珠法(Globule method)、

接觸角量測(Contact angle measurement)、散佈面積法(Area of spread)、沾錫測試(Dip testing)等[39]。

而本研究是以接觸角(Contact angle)的角度來判斷的。接觸角(Contact angle)是表 示銲液與固體基材表面接觸點所做之切線與液固界面間之夾角[40]。一般定義接觸角 接近0˚為完全潤濕 (Perfect Wetting),0˚~30˚為良好潤濕(Good Wetting),30˚~90˚為不 好潤濕(Bad Wetting),90˚以上則為不潤濕 (Non Wetting)[41]。影響接觸角之因素很 多,如材料本身的表面粗糙度,潤濕時間、助銲劑的使用與否、助銲劑的種類以及製 程溫度的高低等等,而這些因素亦會受到製程環境之要求而限制。

在電子構裝產業中,銲錫主要拿來當做接點焊接時所使用的材料,一般來說,焊 料在熔融時與基材之間的潤濕效應(wetting effect)往往嚴重影響其接合之效用,另 外,可銲錫性(solder ability)為銲錫是否能在基材表面濕潤而完成接合之能力,而此能 力也往往以銲錫與基材間潤濕情形加以判斷。而影響銲錫性的因素有[42]:

(1) 材料表面自然生成的氧化物

(2) 銲錫與基材本身擴散的難易度

(3) 助銲劑去除氧化物的能力

(4) 材料的表面能,表面能較低反應較難進行

(5) 銲錫與基材本身的物性

焊接過程添加助銲劑(Flux),助溶劑清除基材表面汙物(氧化膜),使銲錫與基材 產生潤濕現象(如圖2-10),依焊接能力( Solderability)的定義,其發生之機制可分 為潤濕(Wetting)、無潤濕(Non wetting)與抗潤濕(De wetting)三種;以下將針對 這三種潤濕機制加以描述:

(1) 潤濕機制:指焊料能與基板的金屬形成緊密的接合,在接合界面上有介金屬 化合物產生成為接合的媒介為其特徵。

(2) 無潤濕機制:指焊料與基板的金屬不能形成緊密的接合,銲錫不與基板金屬 進行合金反應,在接合界面上銲錫的潤濕角(Wetting angle)為 負值。

(3) 抗潤濕機制:無關焊料與基板金屬間的反應,它的定義一直到1973 年才被 確定,目前抗潤濕是指任何破壞銲料與基板金屬潤濕的機制。

最常見於焊接過程中元件水分蒸發造成熔融銲錫與基板基屬表 面氧化,當水蒸氣使介金屬表面暴露而氧化時,於是接合鍵結 被破壞。其發生主要特徵為銲錫潤濕表面出現微粒狀的隆起,

它是屬於局部、小區域的潤濕破壞,有別於大面積的無潤濕機 制。

而在平衡狀態下,接觸角與界面張力之關係,可利用Young-Dupre 方程式來加 以描述[39]:

γ

SV =

γ

SL +

γ

LVcosθ

式中的

γ

γ

γ

分別為固體與氣體、固體與液體、液體與氣體之界面張

力。通常接觸角越小者代表液體在固體表面的潤濕性愈好。

根據Young-Dupre 方程式,可以了解到控制

γ

SV

γ

SL

γ

LV的大小將會得到最 佳之接觸角的角度,然而影響因素的甚多,如銲錫熔點、接觸空氣之種類、基材種類 及基材上是否有吸附水氣、灰塵等,皆會影響其潤濕效果。

助焊劑可能為液體、固體或氣體,當加熱後可加速或增進金屬和銲錫的接合。助 焊劑的目的是去除表面氧化物,且作用溫度應於熔點之下。當銲錫於液態時能應有去 除氧化物的能力。

助熔劑一般分為三類:(1)無機類(Inorganic materials)、(2)有機類(Organic

materials),以及(3)松香類(Rosin)[43],表 2-5[44]為目前常用的助熔劑種類及其特性與 應用範圍。

助銲劑一般分為三種[45]:

(1) 無機類(Inorganic Materials):

無機類之助熔劑包括無機酸(如氫氯酸、氫氟酸和正磷酸)、無機鹽類(如 氯化鋅、氯化銨和氯化錫),及無機氣體(如氫氣和乾燥之氯化氫)等,無機類 助熔劑的優點是熱穩定性佳、去污能力強、助熔能力強,而其最大的缺點是腐蝕 性強,因此反應後殘渣之去除是相當重要的。

(2) 有機類(Organic Materials):

有機類之助熔劑包括有機酸(如乳酸、油酸、硬脂酸和麩酸)、有機鹵化物

(如氫氯酸苯胺和Glutamic acid hydrochloride),及氨基或胺基化合物(如尿素 和乙二胺)等,有機類助熔劑的熱穩定性較無機類稍差,去污能力與助熔能力也 稍弱,但較不具腐蝕性,有效的使用溫度為90℃~320℃。

(3) 松香類(Rosin):

松香類助熔劑具有的活性最低,優良的絕緣性與疏水性及易於以一般溶劑除 去的優點,使其最常應用於電子材料,但由於純松香助熔劑的助熔能力較差,因 此松香類之助熔劑常添加活性媒體(Activator)以增強其助熔能力,當加熱到127℃

便可去除氧化銅。而松香也分為三大類 : (a)R :

指的是未經處理的water-white rosion,沒有添加任何活性劑,助銲的能力 有限。

(b) RMA :

在松香中加入一些活性劑,加強助銲的效果。此種助銲劑最常被使用於電 子工業上。

(c) RA :

加入更強的活性劑,使助銲的效果更好,可將殘留物完全的消除。但也因 如此,使它的用途在電子產業上受到限制。

圖2-9. 介面張力示意圖[39]

圖2-10. 焊接過程添加助焊劑(flux),助溶劑清除基材表面汙物(氧化膜),使焊錫與基 材產生潤濕現象[42]

表2-5. 目前常用的助熔劑種類及其特性與應用範圍[44]

助熔劑種類 熱穩定性 去污能力 腐蝕性 應用範圍

無機類 無機酸 甚佳 甚佳 強 結構材料

無機鹽類 甚佳 甚佳 強 結構材料

無機氣體 甚佳 佳 無 電子材料

有機類 有機酸 佳 佳 弱 結構材料

電子材料

有機鹵化物 佳 佳 弱 結構材料

電子材料

氨基或胺基化合物 差 佳 弱 結構材料

電子材料

松香類 強活性松香 差 佳 弱

結構材料 電子材料

弱活性松香 甚差 差 無 電子材料

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