108年公務人員特種考試警察人員、一般警察人員考試及 108年特種考試交通事業鐵路人員、退除役軍人轉任公務人員考試試題
考 試 別:鐵路人員考試
等 別:高員三級考試
類 科 別:電子工程 科 目:半導體工程
考試時間:2 小時 座號:
※注意: 可以使用電子計算器。
不必抄題,作答時請將試題題號及答案依照順序寫在試卷上,於本試題上作答者,不予計分。
本科目除專門名詞或數理公式外,應使用本國文字作答。
代號:70480 頁次:2-1
一、請說明什麼是「外質半導體(extrinsic semiconductor)」?(5 分)
請列舉兩項影響外質半導體導電率(conductivity)之可能因素,並說 明其影響方式。(10 分)
二、請說明「質量作用定律(mass action law)」之物理意義。(10 分)
三、漂移(drift)及擴散(diffusion)為半導體中載子傳輸之主要方式,請 分別說明其物理機制。(10 分)
試 列 出 「 愛 因 斯 坦 關 聯 式 (Einstein relation )」 之 數 學 表 示 式
(mathematical equation),並說明其物理意義。(10 分)
四、金屬鎢(W)與 n-型矽(Si)半導體接面,溫度 T = 300 K,其相關參數如下:
鎢之功函數 Φm = 4.55 V、n-型矽半導體之摻雜濃度 ND = 1016 cm-3、 矽之電子親和力χ = 4.01 V、矽之等效導電帶狀態密度 NC = 2.8 ×1019 cm-3、 矽之介電常數ε = 11.7 × ε0 = 11.7 × 8.85 × 10-14 F/cm、單位電量 q = 1.6 × 10-19 C、
波茲曼常數(Boltzmann’s constant)k = 8.62 × 10-5 eV/K。試求在零偏壓 情況下:(每小題 5 分,共 15 分)
理想之蕭特基能障高度(ideal Schottky barrier height)ΦB0 = ?
內建電位能障(built-in potential barrier),qVbi = ?
金屬-半導體接面之最大電場強度|Emax| = ?
五、具有均勻摻雜陡峭接面(abrupt junction)之 p+-n 二極體,請說明如何以 電容-電壓(C-V)量測技術,萃取如下參數:(每小題 5 分,共 10 分)
n-型區之施體摻雜濃度 ND = ?
內建電位能障,qVbi = ?
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六、具有 n-型通道金屬-氧化物-半導體接面場效電晶體(MOSFET),其相關 參數如下:
通道長度 L = 1.25 μm、電子遷移率 μn = 650 cm2/V-s、閘極氧化層電容 Cox = 6.9 × 10-8 F/cm2、臨界電壓 VT = 0.65 V。在閘-源極偏壓 VGS = 5 V 之下,試求:(每小題 5 分,共 10 分)
當逐漸增加汲-源極偏壓,致使電晶體由線性區進入飽和區之汲-源極 電壓 VDS, sat = ?
已知汲極飽和電流ID(sat)= 4 mA,試求電晶體之通道寬度 W = ? 七、假設以熱氧化製程形成二氧化矽(SiO2),其相關參數值表列如下:
(每小題 10 分,共 20 分)
材料 原子量或分子量 密度
Si 28.9 g/mole 2.33 g/cm3 SiO2 60.08 g/mole 2.21 g/cm3
試求 1 莫耳(mole)矽及 1 莫耳二氧化矽所占的體積分別為?
如欲成長厚度為 100 nm 之二氧化矽層膜,需消耗矽之厚度為?