行政院國家科學委員會專題研究計畫 期中進度報告
(La,Sr )n+1 MnnO3n+1 低磁場巨磁阻之研究(2/3)
計畫類別: 個別型計畫 計畫編號: NSC91-2112-M-110-017-執行期間: 91 年 08 月 01 日至 92 年 07 月 31 日 執行單位: 國立中山大學物理學系(所) 計畫主持人: 周雄 共同主持人: 洪夢聰 報告類型: 精簡報告 報告附件: 出席國際會議研究心得報告及發表論文 處理方式: 本計畫可公開查詢中
華
民
國 92 年 8 月 5 日
The abnormal antiferromagnetic and ferromagnetic interaction in
manganite colossal magnetoresistance bilayer
錳系龐磁雙層薄膜之奇異反鐵磁/鐵磁交互作用
周 雄
a)(計劃主持人)
孫士傑
b),黃智俊
a),陳書香
a),洪振湧
a)a): Department of Physics, National Sun Yat-Sen University, Kaohsiung, R.O.C. b): Department of Applied Physics, National Chiayi University, Chiayi, R.O.C.
摘 要
多層反鐵磁/鐵磁薄膜之交互作用一直以來都是研究的重點。在吾人初步以 混合反鐵磁 La0.67Sr1.33MnO4 (214)及鐵磁 La0.67Ca0.33MnO3 (113)塊材之研究上,發 現低磁場磁阻之增強效益極為明顯,可以進一以多層薄膜的方式,研究穿隧磁阻 (TMR)。 初步研究上,由雙層薄膜開始,在 SrTiO3 (100)基板上,以離軸高週波 濺鍍法成長 113/ 214/ STO 雙層薄膜,研究磁性交互作用及磁阻特性。 實驗結果顯示,在高於 214 之相變溫度 TN時,電性已因出現的磁擾動而顯 現小凸峰。溫度在小凸峰溫度之上的磁阻特性完全和一般 CMR 薄膜相彷,但在 小凸峰溫度之下卻出現完全無法理解之奇異特性,在外加電流、磁場及樣品相對 位置完全相同的幾何結構下,磁阻曲線隨樣品的姿態而改變!前 言
CMR(Colossal Magnetoresistance)材料的發現引起學術界與產業界的極大重 視,因該材料的磁阻(>99%)較一般的常磁阻或巨磁阻高出許多,若能以此為 基礎,應用於感應器上必能為現今之科技注入一股動力;若應用到磁頭或磁記憶 體上,則其靈敏度及記憶元密度都可大幅度的提高。然而,由於這類氧化物有著 過低的居禮溫度(Tc)及過高的飽和磁場,在應用上仍保有許多挑戰性。 在本人去年之研究上發現,將反鐵磁 La0.67Sr1.33MnO4 (214)粉末及鐵磁 La0.67Ca0.33MnO3 (113)粉末以適當比例混合,再加以燒結後,發現低磁場下的磁 阻獲得明顯的提升,若能更進一步借由多層薄膜的技術,希望能以反鐵磁的特性 來增益在低場下鐵磁薄膜的磁阻效應。以反鐵磁的特性而言,在其相變溫度點TN時,因此時的量子擾動(quantum fluctuation)最大,當通入電流時,電子受到反
鐵磁層磁矩擾動的影響,電阻值會較大。在外加磁場作用下,可使得量子擾動減 少,因此即可產生較單層薄膜更大的磁阻效應。如此一來,或可以如穿隧式磁阻 結構提升在應用於感測元件上之可行性。
實驗方法
實驗利用 RF 磁控射頻濺鍍系統(Radio Frequency Magnetron Sputtering System),在 SrTiO3 (100) 先成長 120nm La0.67Cr0.33MnO3(113)薄膜,再成長類似
厚 度 之 La0.67Sr1.33MnO4(214) 薄 膜 , 其 成 長 條 件 如 表 一 所 列 。 由 於 鈦 酸 鍶
(100)SrTiO3(a=3.905Å ) 基 板 與 La0.67Ca0.33MnO3(113) 之 晶 格 異 位 (mismatch) 為
1.01%,當薄膜甚薄時,受界面之影響而產生形變,其物性也隨之改變,而當厚 度大於 100nm,形變情況較弱,近似塊材之行為,故初步以 120nm 為目標。 成長之薄膜以 X-ray 繞射法觀測其結構,以 Auger 分析其成份及界面之狀 況,待確定如所設計之結構後,以四點量測法量測其電阻與溫度及磁阻之曲線。 表一 雙層薄膜之成長條件表
結果與討論
雙層薄膜特性 巨磁阻材料的發現,雖然在磁阻效應上可高達 99.99%,但在強磁場下才可 有較大的效應,因此仍然欠缺實質上的應用。有鑑於此,吾人以一雙層結構薄膜 樣品 AFM(214)/FM(113)/STO La0.67Sr1.33MnO4 La0.67Ca0.33MnO3 100W 成 長 功 率 (113) 60min (214) 60min 成 長 時 間 成 長 溫 度 Off axis 6 cm 成 長 位 置 Ar:O2=2:1 100 mTorr 環 境 總 壓 La0.67Sr1.33MnO4 : 700oC La0.67Ca0.33MnO4 : 750oC 樣品 AFM(214)/FM(113)/STO La0.67Sr1.33MnO4 La0.67Ca0.33MnO3 樣品 AFM(214)/FM(113)/STO La0.67Sr1.33MnO4 La0.67Ca0.33MnO3 100W 成 長 功 率 (113) 60min (214) 60min 成 長 時 間 成 長 溫 度 Off axis 6 cm 成 長 位 置 Ar:O2=2:1 100 mTorr 環 境 總 壓 La0.67Sr1.33MnO4 : 700oC La0.67Ca0.33MnO4 : 750oC來 增 加 磁 阻 效 應 。 設 計 此 實 驗 目 的 及 在 於 以 上 層 的 LSMO(214) 薄 膜 來 對 LCMO(113)薄膜的磁矩產生作藉此以提高低磁場磁阻(LFMR)。
LSMO(214)當溫度在相變溫度點 TN 時其量子擾動(quantum fluctuation)最
大,因此在電流流入 LSMO(214)再流經 LCMO(113)時,受到量子擾動的作用, 使得電子在經過受 LSMO(214)干擾的部份 LCMO(113)(擾動層)時電阻值大增, 造成高電阻態。但在外加磁場下,LSMO(214) 磁矩與擾動層磁矩因受到外加磁場的作用, 量子擾動效應有效減少,形成低電阻態。其 示意圖如圖一。所以由圖一可得知,在相變 溫 度 點 附 近 時 其 磁 阻 效 應 應 較 單 層 LCMO(113)為大。 雙層薄膜電性量測 圖二是雙層薄膜橫向電流的 R-T 曲線。曲線中有兩個明顯的彎折。其一,當 溫度由室溫 330K 降溫至 240K 時,其 R-T 曲線呈現隨著溫度遞減而電阻值增加, 是一絕緣體特性。在
T
P = 240K 時,可推測為一相變點。隨著溫度遞減至 70K 附 近,曲線則是呈現金屬的特性。特別的是,當溫度降溫至 70K 以下,有一較為 明顯的起伏,呈現小凸峰。當溫度再降溫至 50K 以下,電阻值再恢復隨溫度降 低而遞減。由於 LSMO(214)在高溫區為絕緣態,故雙層薄膜的 R-T 曲線在呈現 小凸峰溫度(~70K)以上應該是下層 LCMO(113)之表現。因此,70K 以下可能是 LSMO(214)反鐵磁本質影響 LCMO(113)交界處之磁矩,故電阻曲線出現上升。 待溫度降至更低溫,LCMO(113)之鐵磁性愈趨穩定,而 LSMO(214)在低溫為 spin glass 相,故對 LCMO(113)量子擾動之影響變小,R-T 曲線再次呈現金屬特性。 STO H STO AFM FM 擾動層 STO H STO STO STO AFM FM 擾動層 圖一 高電阻態與低電阻 態示意圖 圖二 雙層薄膜之 R-T 曲線圖 Temperature (K) 0 50 100 150 200 250 300 350 R e s is ta n c e ( o h m ) 0 200 400 600 800 1000 1200 1400 1600 1800 T vs R with normal H T vs R with paraH T vs R with vertH 240K 248K 20 30 40 50 60 70 80 32 33 34 35 36 T 0 50 100 150 200 250 300 350 MR -0.5 -0.4 -0.3 -0.2 -0.1 0.0 0.1當外加磁場垂直或平行於基板(皆與外加電流垂直)時,樣品呈現負磁阻現 象,而且平行磁場之磁阻較垂直磁場者大。圖二中較低的兩條曲線為外加磁場為 1Tesla 時之 R-T 圖,其最大磁阻發生在 220K 附近,該溫度磁阻均呈現一般單層 CMR 之行為,磁阻並不隨量測時之樣品姿態而變。而小凸峰之溫度因量子擾動 的關係,小凸峰不只出現在零磁場時的 R-T 曲線,也出現在有外加磁場之狀態, 為進一步明瞭此有趣現象,吾人選取在 T=60K 時做定溫的 MR 量測,並藉此推 敲鐵磁與反鐵磁之間的相互作用力。 雙層薄膜磁阻量測 垂直磁場
圖三、圖四是經由 ZFC(Zero Field Cooling)的方式,由室溫降溫至 60K,定 溫 60K 掃磁場,此時的磁場方向與試片垂直,且與電流垂直。圖三是雙層薄膜 的 MR 曲線;圖四是單層薄膜 LCMO(113)的 MR 曲線,以此作為對照組。圖中 雙層薄膜的 MR 曲線大致與單層 LCMO(113)薄膜的曲線相似,唯在低磁場區之磁 阻行為不盡相同,可能是上層的LSMO(214)發揮作用部份作用,進而對 LCMO(113) 的磁矩產生擾動的影響。 平行磁場 圖五、圖六與圖三、圖四所不同的是外加磁場方向與試片平行但與電流垂 直。圖五是雙層薄膜的 MR 曲線。圖六則是 LCMO(113)單層的 MR 圖。由圖五、 圖六,不難發現在磁場大於±2000Oe~±10000Oe 時,曲線具體的表現上皆是 LCMO(113)的特性。但在磁場小於±2000Oe 時卻與圖六有著明顯的不同。觀察 圖五的小圖,在磁場等於±800Oe 時有最大電阻值,當磁場等於±100Oe 時,有 明顯蝴蝶結狀的曲線。但確與 LCMO(113)單層薄膜於所量測到的蝴蝶結狀的 MR H (Oe) -10000 -8000 -6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 800010000 R e s is ta n c e 39.40 39.42 39.44 39.46 39.48 39.50 39.52 39.54 39.56 39.58 H vs R -2000-1500-1000-500 0 500100015002000 39.48 39.50 39.52 39.54 39.56 39.58 I H x y z I H x y z x y z H (Oe) -10000 -8000-6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 800010000 R e s is ta n c e ( o h m ) 74.4 74.6 74.8 75.0 75.2 75.4 75.6 H vs R -2000-1500-1000-500 0 500 100015002000 75.32 75.34 75.36 75.38 75.40 75.42 圖三 60K 垂直磁場雙層薄膜之 MR 曲線 圖四 60K 垂直磁場時 LCMO(113) 單層薄膜之 MR 曲線
曲線恰巧顛倒。因此可推測造成此種現象的原因必是 LSMO(214)對 LCMO(113) 的磁矩產生擾動所導致。
垂直磁場與平行磁場磁阻曲線之不同表明樣品具有極強的各向異性
垂直磁場
-
樣品(0oand 90o)
圖七、圖八所量測的方式皆是經由 ZFC(Zero Field Cooling)的方式,由室溫 降溫至 60K,定溫 60K 掃磁場,此時的磁場方向與試片垂直,且與電流垂直。 但圖七、圖八所不同的是將樣品整個換貼 90o。再就其試片的電流、磁場的相對 位置對照圖中的小圖,可以發現試片的電流、磁場的相對位置並未改變但 MR 曲 線卻呈現姿態的異向性。 儀器驗證 由圖七與圖八,可發現一個問題。試片的電流方向與磁場的相對位置皆相 同,為何其 MR 曲線會不相同?是否儀器的問題或是真實情況呢?因此須驗證儀 器。因此取 CMR 塊材依圖七與圖八的條件進行量測,所得數據如圖九、圖十所 示。由此數據看來,試片只要保持電流方向與磁場的相對位置相同然則 MR 曲線 H (Oe) -10000 -8000-6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 800010000 R e s is ta n c e ( o h m ) 39.0 39.1 39.2 39.3 39.4 39.5 39.6 39.7 H vs R -1000 -800 -600 -400 -2000200 400600800 1000 39.52 39.54 39.56 39.58 39.60 39.62 H (Oe) -10000 -8000-6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 8000 10000 R e s is ta n c e ( o h m ) 69.0 70.0 71.0 72.0 73.0 74.0 75.0 76.0 H vs R -1000 -800 -600 -400 -2000200400600800 1000 75.24 75.26 75.28 75.30 75.32 75.34 x y z H I x y z H I H I 圖五 60K 平行磁場雙層薄膜之 MR 曲線 圖六 60K 平行磁場 LCMO(113) 薄膜之 MR 曲線 H(Oe) -10000 -8000-6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 800010000 R e s is ta n ce (o hm ) 39.50 39.55 39.60 39.65 39.70 39.75 H vs R -2000-1500-1000 -5000500 1000 1500 2000 39.64 39.66 39.68 39.70 39.72 39.74 39.76 HI x y z HI HI x y z x y z H (Oe) -10000 -8000 -6000 -4000 -2000 0 20004000 6000800010000 R e s is ta n c e 39.40 39.42 39.44 39.46 39.48 39.50 39.52 39.54 39.56 39.58 H vs R -2000-1500-1000-500 0 500100015002000 39.48 39.50 39.52 39.54 39.56 39.58 I H x y z I H x y z x y z 圖七 60K 垂直磁場雙層薄膜之 MR 曲線 圖八 60K 垂直磁場雙層薄膜換 貼 90o之 MR 曲線
就不會改變。因此可以確定儀器並無問題。
結論
本實驗以鐵磁性薄膜 La0.67Ca0.33MnO3(113)與反鐵磁性薄膜 La0.67Sr1.33MnO4 (214)形成一雙層薄膜的結構,冀望以此雙層薄膜結構能明顯增強低場磁阻效應 (LFMR),並了解界面間的相互作用力關係。實驗發現 LSMO(214)反鐵磁的特性 在 70K 至 50K 明顯影響雙層薄膜之電傳輸性,而出現小凸峰。高溫區(T>70K) 雙層薄膜呈現標準式 CMR 負磁阻曲線,然而在凸峰溫區,樣品不只是出現強烈 各向異性之磁阻曲線外,量測結果卻與樣品的姿態有關,顯現出姿態異向性。 此姿態異向性是否因薄膜的不均勻性、因地磁的相對方位不同而引起或因重 力而產生,都不可知!因此下一步吾人需要更多不同的量測,交叉比對才能進一 步了解其發生機制。參 考 資 料
[1] Priya. Mahadevan. , K. Terakura, and D.D. Sarma, Phys. Rev. Lett. 87, 6404 (2001).
[2] Y. Murakami, H. Kawada, H. Kawata, M. Tanaka, T.Arima, Y. Moritomo, and Y. Tokura , Phys. Rev. Lett. 80, 1932 (1998).
[3] C. Baumann, G. Allodi, B. Buchner, De Renzi, P. Reutler, A. Revcolevschi, Physica B 326, 505-508 (2003).
[4] A. Bedyayev, D. Bagrets, A. Bagrets and B. Dieny, Phys. Rev. B 63(05), 4429 (2001).
[5] R. Mahesh, R. Mahendiran, A. K. Raychaudhuri, and C.N.R. Rao, J. Solid State Chem. 122, 448-450 (1996).
[6] J. H. Jung, J. S. Ahn, Jaejun Yu, and T. W. Noh, Phys. Rev. B 61, 6902 (2000). [7] Y. Moritomo and A. Nakamura, S. Mori and N. Yamamoto, K. Ohoyama and M.
H (Oe) -10000 -8000-6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 800010000 R e s is ta n c e ( o h m ) 10.0 11.0 12.0 13.0 14.0 15.0 H vs R I H x y z I H x y z x y z H (Oe) -10000 -8000 -6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 8000 10000 R e s is ta n c e ( o h m) 10 11 12 13 14 15 H vs R HI x y z HI HI x y z x y z H (Oe) -10000 -8000 -6000-4000-2000 0 2000 4000 6000 8000 10000 R e s is ta n c e ( o h m) 10 11 12 13 14 15 H vs R HI x y z HI HI x y z x y z 圖九 60K 垂直磁場 CMR 塊材 MR 曲線圖 圖十 60K 垂直磁場 CMR 塊材 換貼 90o之 MR 曲線
Ohashi, Phys. Rev. B 56(23), 14879 (1997).
[8] T. Mizokawa and A. Fujimori, Phys. Rev. B 56, 6669 (1997).
[9] S. Larochelle, A. Mehta, N. Kaneko, P. K. Mang, A. F. Panchula, L. Zhou, J. Arthur, and M. Greven, Phys. Rev. Lett. 87, 5502 (2001).
[10] P. Seneor, A. Fert, J. L. Maurice, F. Montaigne, F. Petroff and A. Vaures, Appl. Phys. Lett. 74, 4017-4019 (1999).
[11] R. K. Li and C. Greaves, J. Solid State Chem. 153, 34-40 (2000).
[12] Y. Moritomo, Y Tomioka, A. Asamitsu, and Y. Tokura, Phys. Lev. B 51(5), 3297 (1995).
[13] W Prellier, Ph Lecoeur and B Mercey, J. Phys: Condens Matter 13, R915-R944 (2001).
[14] E. Favre-Nicolin,L. Ranno,C. Dubourdieu,M. Rosina,Thin Solid Films 400, 165-168 (2001).
[15] J. G. Siimmons, J. Appl. Phys. 34, 1794 (1963).
[16] Yoshinori TOKURA, JSAP international No.2 (July 2000). [17] A. P. Ramirez, J. Phys. Condens. Matter 9, 8171 (1997).
[18] J. M. D Coey, M. Viret, L. Ranno, Phys. Rev. Lett. 75, 3910 (1995).
[19] Elbio DAGOTTO, Takashi HOTTA, Adriana MOREO, Physics Reports 344, 1-153 (2001).
[20] M. Ziese, H.C. Semmelhack, and K.H. Han, S.P. Sena and H. J. Blythe, J. Appl. Phys. 91(12), 15 (2002).
[21] Guo-meng Zhao, H Keller and W Prellier, J. Phys:Condens Matter 12, L361-L36 (2000).
[22] Patric W. Anderson, Phys. Rev. 100, 675 (1995).
[23] S. M. Dunaevskii, Physics of the Solid State 40, 1687 (1988).
[24] A. J. Millis, Boris I. Shraiman, and R. Mueller, Phys. Rev. Lett. 77, 175 (1996). [25] J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey, Phys. Rev. Lett. 74,
3273 (1995).
[26] John B. Goodenough, J. Appl. Phys. 81, 5330 (1997).
[28] D. Suess, M. Kirschner, T Schrefl, and J. Fidler, Phys. Rev. B 67(05),4419 (2003).
[29] J. Fassbender, S. Poppe, T. Mewes, A. Mougin, B. Hillebrands, Phys. Stat sol. (a)