【11】證書號數：I566917
【45】公告日： 中華民國 106 (2017) 年 01 月 21 日
【51】Int. Cl.： B29C67/00 (2006.01) B33Y30/00 (2015.01)
發明 全 5 頁
【54】名 稱：光固化立體造型裝置及方法
LIGHT STEREOLITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD
【21】申請案號：104119216 【22】申請日： 中華民國 104 (2015) 年 06 月 15 日
【11】公開編號：201643031 【43】公開日期： 中華民國 105 (2016) 年 12 月 16 日
【72】發 明 人： 鄭正元 (TW) JENG, JENG-YWAN；鄭逸琳 (TW) CHENG, YIH-LIN；陳定 閒 (TW) CHEN, FREEMAN；李漢軒 (TW) LEE, HANHSUAN
【71】申 請 人： 國立臺灣科技大學 NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
臺北市大安區基隆路四段 43 號
【74】代 理 人： 何秋遠
【56】參考文獻：
CN 202608063U JP 2006-43953A
CN 203665954U US 6423260B1 審查人員：陳章德
[57]申請專利範圍
1. 一種光固化立體造型裝置，其包括：一槽體，其具容置空間可用來容置光固化材料，該 槽體包含：一底板，其為透明或半透明者；和一牆結構，其設置於該底板周圍且與該底 板形成該容置空間；一保持板；一昇降機構，其用以使該保持板上下移動；一光源模 組，其設置於該槽體下方；及一控制單元，其用來控制該光源模組和該昇降機構；其中 在該光固化立體造型裝置中，經由該光源模組照射使該光固化材料發生光固化反應，在 該保持板上形成一光固化層後，再以該昇降機構移動該保持板，接著返復進行前述光照 射形成光固化層，進而逐層地製作成一立體造型物體；並且在形成該光固化層期間，藉 由在該底板利用電場來使該槽體內該光固化材料不在該底板表面發生光固化，使愈接近 該底板表面的該光固化層之黏滯度愈小。
2. 如請求項 1 所記載之光固化立體造型裝置，其中該底板包括：一基板；一第一導電層，
其被設置於該槽體所容置之該光固化材料和該基板之間；及一第二導電層，其中該基板 係設置於該第一導電層和該第二導電層之間；其中 在形成該光固化層期間，藉由在該第 一導電層和該第二導電層充電而構成電場，來使該槽體內該光固化材料不在該底板表面 發生光固化，使愈接近該底板表面的該光固化層之黏滯度愈小。
3. 如請求項 2 所記載之光固化立體造型裝置，其中該基板為玻璃或陶瓷。
4. 如請求項 1 至 2 中任一項所記載之光固化立體造型裝置，其中該光源模組包含：可見光 光源、可見光雷射光源、和紅外光雷線光源中之一光源，其中藉由該光源之照射使該光 固化材料發生光固化反應。
5. 一種光固化立體造型方法，其包括：提供一光固化立體造型裝置；在該光固化立體造型 裝置之一槽體之一底板構成電場或磁場；以及經由該光固化立體造型裝置之一光源模組 照射使該光固化材料發生光固化反應，在該保持板上形成一光固化層後，再以該光固化 立體造型裝置之一昇降機構移動該保持板，接著返復進行前述光照射形成光固化層，進 而逐層地製作成一立體造型物體；其中在形成該光固化層期間，藉由在該底板利用電場
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來使該槽體內該光固化材料不在該底板表面發生光固化，使愈接近該底板表面的該光固 化層之黏滯度愈小。
6. 如請求項 5 所記載之光固化立體造型方法，其中在形成該光固化層期間，藉由在該底板 之相對的兩導電層充電而構成電場，來使該槽體內該光固化材料不在該底板表面發生光 固化，使愈接近該底板表面的該光固化層之黏滯度愈小。
7. 如請求項 5 至 6 中任一項所記載之光固化立體造型方法，其中光源模組照射可見光、可 見光雷射、和紅外光雷線中之一者使該光固化材料發生光固化反應。
圖式簡單說明
圖 1 顯示依據本發明之一實施態樣的一種光固化立體造型裝置的示意圖。 圖 2A 和圖 2B 顯示藉由本發明之實施例令光固化不在底板表面發生的示意圖。 圖 3 顯示本發明之一實施例 中之槽體之部分剖面圖。 圖 4 顯示本發明之一實施例中之槽體之部分剖面圖。 圖 5 顯示本發 明之一實施例中之槽體之部分剖面圖。 圖 6 顯示依據本發明之一實施態樣的一種光固化立體 造型方法的示意圖。
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