第五章 第五章 實驗結果與討論 實驗結果與討論 實驗結果與討論 實驗結果與討論
在這一章裡,將會量測Al0.3Ga0.7As/InxGa1-xAs/GaAs 異質結構場效 電晶體的特性。之後會討論元件特性,包括直流特性、射頻特性、功 率特性、雜訊特性以及溫度變化特性。
5 55
5- -- -1 11 1 在 在 在 在 300 K 的直流特性 的直流特性 的直流特性 的直流特性
對所有的元件來說,閘極的面積都為1.2×100µm2。而源極到汲極 的距離為10µm。之後所有元件的測量是使用 KEITHLEY4200 所完成 的。
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5- -- -1 11 1- -- -1 11 1 電流 電流 電流-電壓特性 電流 電壓特性 電壓特性 電壓特性
圖 5-1、5-2、5-3 各代表在室溫下樣本 A、樣本 B、樣本 C 的汲 極電流密度相對於汲極-源極電壓的特性。顯然地,從所研究的元件 能發現好的夾止與飽和特性。由於 Al0.3Ga0.7As 位障層的高電阻率與 高能隙,所以能夠大大地減少電子進入緩衝層以及能抑制基座的漏電 流,而擁有優越的載子侷限能力與夾止特性。
0 1 2 3 4 5
Drain-Source Voltage (V)
0 50 100 150 200 250 300
Drain Current Density (mA/mm)
VGS=1V -0.5V/step
圖5-1 樣本 A 在 300K 時,電流-電壓特性圖
0 1 2 3 4 5
Drain-Source Voltage (V)
0 50 100 150 200 250 300 350
D ra in C ur re nt D en si ty ( m A /m m )
VGS=1V -0.5V/step
圖5-2 樣本 B 在 300K 時,電流-電壓特性圖
0 1 2 3
Drain-Source Voltage (V)
0 100 200 300 400
D ra in C ur re nt D en si ty ( m A /m m )
VGS=1V -0.5V/step
圖5-3 樣本 C 在 300K 時,電流-電壓特性圖
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5- -- -1 11 1- -- -2 22 2 外部轉導值特性 外部轉導值特性 外部轉導值特性 外部轉導值特性
圖5-4、5-5、5-6 各表示樣本 A、樣本 B、樣本 C 在 VDS=3 V 下,
所量測到的閘極到源極電壓是以外部轉導值(gm)與飽和汲極電流密度 (IDS)為函數所得到的。
圖5-4 樣本 A 在 VDS=3 V 下外部轉導值與飽和汲極電流密度的曲線圖
圖5-5 樣本 B 在 VDS=3 V 下外部轉導值與飽和汲極電流密度的曲線圖
圖5-6 樣本 C 在 VDS=3 V 下外部轉導值與飽和汲極電流密度的曲線圖 在表 5-1 裡,能觀察到樣本 B 的 gm值大於樣本 A 以及樣本 C。
那是因為樣本 B 減少了雜質散射效應與增加在砷化銦鎵通道裡的電 子傳輸,所以gm值才會比較大。
Sample A Sample B Sample C Idss (mA/mm) 99.9 193.6 167.9
Id,max (mA/mm) 342 363 360
gm,max (mS/mm) 140 182 164
Vth(V) -1.05 -1.36 -1.30 GVS(V) 1.25 0.75 1.07
表5-1 三種元件的 gm.IDS.Vth以及GVS
而表 5-1 裡也列出了汲極到源極的飽和電流密度(Idss)與最大飽和
此外,在這裡我們定義閘極偏壓擺幅與 IDS 的操作區域為最大外 部轉導值下降10%的範圍。圖 5-7 為三種樣本的外部轉導值與汲極電 流密度的特性比較圖。顯然地,通道摻雜式結構表現出較大的閘極電 壓擺幅(GVS)與較好的線性度。這是因為在通道裡載子均勻分佈的原 因。當操作電壓固定為VDS=3 V 時,樣本 A、樣本 B、樣本 C 相對應 的線性IDS操作範圍分別是 175、152、170 mA/mm。
0 100 200 300 400
Drain current density (mA/mm)
0 40 80 120 160 200
Extrinsic Transconductance (mS/mm) Sample ASample B
Sample C
@VDS=3V
圖5-7 為三種樣本的外部轉導值與汲極電流密度的特性曲線圖
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5- -- -1 11 1- -- -3 33 3 兩端崩潰電壓特性 兩端崩潰電壓特性 兩端崩潰電壓特性 兩端崩潰電壓特性
圖 5-8 表示三種樣本在室溫下的兩端閘極-汲極崩潰電壓(BVGD) 與順向導通電壓(Von)特性。當閘極電流與閘極寬度(IG/W)值到達 1 mA/mm 時,定義閘極-汲極電壓為兩端崩潰電壓。
(a)
(b)
0 0.3 0.6 0.9 1.2 1.5
Gate-Drain Voltage (V)
0 0.25 0.5 0.75 1
Gata Current Density (mA/mm)
Sample A Sample B Sample C
圖5-8 在 300k 下,三種樣本的(a)兩端點崩潰電壓與(b)導通電壓的特 性比較圖
表5-2 三種樣本的兩端特性
表5-2 中可以發現樣本 A 有較高的閘極-汲極崩潰電壓與順向導通 電壓,這是因為在通道與閘極金屬間的摻雜通道沒有載子供應層的因 故。而從閘極漏電流形成兩個主要問題:
(1) 電子入射經由熱電子場發射效應(Thermionic-Field Emission)。
(2) 穿隧機制穿過蕭基閘極位障。
對於樣本 B 與 C 而言,上層的 δ-摻雜載子供應層可能造成蕭基 位障降低,而導致電子更容易從閘極穿透到通道,因此讓閘極漏電流 上升。
55 5
5- -- -1 11 1- -- -4 44 4 輸出傳導性 輸出傳導性 輸出傳導性 輸出傳導性
圖5-9、5-10、5-11 各表示每一種樣本的外部轉導值、輸出傳導值 與電壓增益特性。而本質電壓增益可以以下式表示:
d m o
m
v
g
r g g
A = ⋅ = (5.4)
Sample A Sample B Sample C BVGD (V) 27.9 22 24.3 Turn-on (V) 1.2 0.95 1.0
Sample A Sample B Sample C
Drain Voltag (V)
0 40 80 120 160
Extrinsic transconductance(mS/mm) and Output conductance(mS/mm)
0
0 1 2 3 4
Drain Voltag (V)
0 40 80 120 160
Extrinsic transconductance(mS/mm) and Output conductance(mS/mm)
0
Drain Voltag (V)
0
E xt ri ns ic t ra ns co nd uc ta nc e( m S/ m m ) an d O ut pu t co nd uc ta nc e( m S/ m m )
0
55 5
2 (
GS GD)
0.1 1 10 100
0.1 1 10 100
Sample A Sample B Sample C
Input Power (dBm)
-10
Power Gain (dB) & Output Power (dBm)
0
Power Add Efficiency (%)
Pout Power Gain Power-Added Efficiency
圖5-16 當閘極面積為 1.2×200 μm2時,樣本B 的輸出功率、功率 增益和功率增加效能(P.A.E)與輸入功率相對比的特性曲線圖
圖5-17 當閘極面積為 1.2×200 μm2時,樣本C 的輸出功率、功率 增益和功率增加效能(P.A.E)與輸入功率相對比的特性曲線圖
-20 -16 -12 -8 -4 0 4
Input Power (dBm)
-5
Power Gain (dB) & Output Power (dBm)
0
Power Add Efficiency (%)
Pout
Power Gain Power-Added Efficiency
-20 -16 -12 -8 -4 0 4
Input Power (dBm)
-5
Power Gain (dB) & Output Power (dBm)
0
Power Add Efficiency (%)
Pout Power Gain Power-Added Efficiency
55 5
Associated gain(dB) 13.75 18.74 15.62表5-6 在 2.4GHz 下,三種元件的雜訊特性
表 5-6 列出最小雜訊數值(NFmin)與相關增益與頻率相比照的值。
從方程式(12)得知,由於較高的 gm值,所以樣本 B 與 C 具有比樣本 A 低的 NFmin值。
Minimum Noise Figure (dB)
4 8 12 16 20
Associated Gain (dB)
NFmin = 1.33dB
Associated Gain = 13.75 dB
@ Frequency = 2.4 GHz
Minimum Noise Figure (dB)
4
Associated Gain (dB)
NFmin = 1.2dB
Associated Gain = 18.74 dB
@ Frequency = 2.4 GHz
Minimum Noise Figure (dB)
4
Associated Gain (dB)
NFmin = 1.29dB
Associated Gain = 15.62 dB
@ Frequency = 2.4 GHz
由於砷化銦鎵通道層沒有摻雜,因此當電子在此區域移動時並沒有雜
Gate Voltage (V)
0 40 80 120 160
E xt ri ns ic T ra ns co nd uc ta nc e (m A /m m )
0 100 200 300 400
Sa tu ra ti on F ra in C ur re nt D en si ty ( m A /m m )
300K
圖5-22 樣本 B 在 VDS=3 V,且溫度從 300K 到 450K 下,以外部轉導 值與飽和汲極電流密度和閘極到源極電壓相比較的特性曲線圖
圖5-23 樣本 C 在 VDS=3 V,且溫度從 300K 到 450K 下,以外部轉導 值與飽和汲極電流密度和閘極到源極電壓相比較的特性曲線圖
-2 -1 0 1 2
Gate Voltage (V)
0 40 80 120 160
Extrinsic Transconductance (mA/mm)
0 100 200 300
Saturation Frain Current Density (mA/mm)
300K
Gate Voltage (V)
0
Extrinsic Transconductance (mA/mm)
0 100 200 300 400
Saturation Frain Current Density (mA/mm)
300K
圖5-24 三種樣本的外部轉導值與溫度的關係圖
280 320 360 400 440 480
Temperature (K)
E xt ri ns ic T ra ns co nd uc ta nc e (m A /m m )
Sample ASample B Sample C
圖5-26 三種樣本的臨限電壓與溫度的關係圖
280 320 360 400 440 480
Temperature (K)
-1.6 -1.4 -1.2 -1
T hr es ho ld V ol ta ge ( V )
Sample A
Sample A Sample B Sample C
Gate-Drain Voltage (V)
-1 -0.5 0 0.5 1
Gata Current Density (mA/mm)
300K
-30 -20 -10 0 10
Gate-Drain Voltage (V)
-1 -0.5 0 0.5
Gata Current Density (mA/mm)
300K
Gate-Drain Voltage (V)
-1 -0.5 0 0.5 1
Gata Current Density (mA/mm)
300K
5
0.1 1 10 100
(a)
(b)
圖5-33 當溫度從 300K 到 440K 時,三種元件的微波特性曲線圖 (a)fT (b) fmax