• 沒有找到結果。

4.2 製作高密度單層人造鑽石顆粒導熱固晶層

4.2.3 熱阻值量測之原理

本實驗量測熱阻的結構是將一 LED 以銀膠與焊錫固晶於一 star 板 上,打上金線接出正負極,並蓋上一密封劑(Encapsulant)保護金線與 LED 晶片,接著以導熱膠帶(thermal pad)將三明治結構與 star 板以及量測載 盤結合(如圖 4-13 所示)。此種量測方法是將 LED 封裝體(PKG)視為一發 熱源,當有電流注入時,由於焦耳熱效應的關係晶片溫度上升,搭配 量熱熱阻的儀器可以得到試片的熱阻值,實際量測模組照片如圖 4-14 所示。

量測的方式是利用 T3Ster (thermal transient tester)的儀器,可量測 得 LED 元件的接面溫度(Junction Temperature)與各層封裝結構的熱阻抗 值(Thermal Resistance),對於 LED 元件特性的分析,封裝結構的改質,

可靠度的實測等方面均提供了詳細的資訊。其量測的可以分為兩個部 分:首先先量測出 LED 的接面溫度,再將得到的資料利用數學的轉換 搭配上結構累積函數的想法,最終獲得每一層封裝材料的熱阻值。

量測接面溫度(Junction Temperature)的方式有很多種,在 T3Ster 量測模組裡是利用順向偏壓(Forward Voltage)的方式,其中又可以分成 校準量測(calibration measurement)與實際溫度量測(actual junction temperature measurement) 兩部分。

59

1. 校準量測(calibration measurement)

目標:得 LED 順向偏壓與溫度的相關係數(dVf/dT)。

原理:

方法:將 LED 置於一溫控箱內,施予脈衝電流驅動 LED,Duty Cycle=0.1% 避免 LED 產生的熱能影響溫控箱的溫度,示波器記錄下在 不同溫度不同脈衝電流下的順向電壓值,得圖表如圖 4-15 [30],由各 曲線的斜率可得順向偏壓與溫度的相關係數(dVf/dT)。

2. 實際溫度量測(actual junction temperature measurement)

由 calibration measurement 可得到上式1之 A 與 B,接著施加恆定 電流驅動 LED,測得在該電流下的順向電壓值,再代入式2即可得到 Tj (junction temperature)。

下一步就是結構熱阻值的量測,其原理是,當 LED 通以一小電流

60

或是在一個控溫的環境下,整體封裝溫度會達到一熱平衡,接著增加 一小功率使得 LED 接面溫度上升,整體封裝結構會再一次達到熱平衡,

此時紀錄溫度變化與時間的關係圖(圖 4-16),再經由一連串的數學模型 轉換可得到熱容與熱阻抗的積分與微分函數關係圖,藉由關係圖的轉 折點可對應得到某一層封裝結構的熱阻抗值,示意圖如圖 4-17。

圖 4-13 熱阻量測結構示意圖

61

圖 4-14 熱阻量測結構圖

圖 4-15 不同溫度下脈衝電流與電壓關係圖

圖 4-16 提升功率記錄溫度變化與時間關係式意圖

62

圖 4-17 熱容與熱組關係圖,積分(上圖)、微分(下圖)

4.2.4

熱阻值量測之結果與討論

量測得到的熱容與熱阻抗微分圖如下圖 4-18 紅線所示,曲線主要 可以分為封裝體(PKG)、焊錫與 star 板(Solder+ Star)、導熱膠帶(thermal pad)+試片(sample)+導熱膠帶(thermal pad)三個部分,可以發現在導熱膠 帶(thermal pad)+試片(sample)+導熱膠帶(thermal pad)這部分並無明顯 的波峰可區別導熱膠帶(thermal pad) 與試片的熱阻抗值,因此我們先 量測單一 thermal pad 結構(圖 4-19)的熱阻值,可得到圖 4-18 藍線所示,

再把紅線所得的熱阻值扣去 thermal pad 的熱阻抗即可得知試片的熱阻 值。

63 個觀點可以從 DB30S 的熱阻值(0.78K/W)間接得到證明,從結構上來看 少了一層矽晶圓本身的熱阻之外,鑽石顆粒將與導熱膠帶直接接觸,

64

結果與實驗值如表 4-3 所示。可以發現理論計算的值都小於實驗值,其 原因推測有兩點:

1. 介面熱阻(interface thermal resistance):

介面熱阻的定義是指當熱經過兩個不同材料時,在介面的溫度會

2. 接觸熱阻(contact thermal resistance)

接觸熱阻是指兩量個材料接觸的時候,兩邊的表面不可能是完全

65

所示,熱阻值為 9.34(K/W),相較於市售比較高階的銀膠(圖 4-23),熱 阻值為 2.01,是高了約 4.6 倍。其原因除了銀膠很薄(小於 5μm)之外,

另一個主因是我們所選取的接著層(鈦)與藍寶石基板的附著性不好,可 以從圖 4-24 看到遺落下的材料經過 EDX 的分析可以發現其成分是少量 的鈦與銅,可以證明鈦與藍寶石基板的附著力不足以承受後續的製程 而造成 LED 晶片的脫落,及使沒有脫落的試片也很可能在介面的地方 有著空隙,使得添加鑽石的固晶材料的熱阻值大增。

圖 4-18 熱容對熱阻微分圖

66

圖 4-19 單一導熱膠帶結構示意圖

圖 4-20 溫度與位置關係圖[31]

67

圖 4-21 接觸熱阻示意圖[32]

圖 4-22 添加鑽石固晶材料熱阻量測圖

68

0 2 4 6 8 10 12 14 16 18

1e-4 0.01 1 100 10000

Rth [K/W]

K [W²s / K²]

T3Ster Mas ter: differential s tructure function(s )

2.01051 13.2694 1.01708

Chip_L_Ag_Star_25C_No5 - Ch. 0

圖 4-23 市售高階銀膠熱阻量測圖

圖 4-24 LED 晶片脫落表面 SEM 及成分分析圖

表 4-1 各種試片熱阻實驗值

69

表 4-2 理論計算中各種材料的參數

表 4-3 各種試片理論計算值與實驗值

70

五、 結論與未來工作

5.1 結論

5.1.1 製作結構化矽晶圓填充人造鑽石顆粒之高散熱復合基板

在 LED 封裝散熱領域提出一個全新的想法,利用結構化矽晶圓,

在其凹洞陣列中填充人造鑽石顆粒。這樣的結構是將鑽石當作導熱的 通道,矽晶圓的部分是提供導電以及切割的空間。若成功製作出元件 相信可以進一步增加散熱的能力、提升 LED 性質。

5.1.2 製作密度單層人造鑽石顆粒導熱固晶層

在 LED 封裝散熱領域提出一個全新的想法,利用單層高密度散佈 的鑽石顆粒與晶元接合技術,選擇接合材料與其搭配的接著層或金屬 反應層即可當作固晶材料使用。若提高鑽石與晶片的接觸程度可以大 大降低熱阻值。此類高散熱固晶材料不僅可以使用在高亮度 LED 的封 裝,也可以使用在其他高功率的晶片(power chip)的封裝。

71

5.1 未來工作

1. 預先將 LED 磊晶片的藍寶石基板端研磨拋光在進行後續製程。

2. 重新設計圖案以提供鑽石與電極圖案的對位基準(alignment key)。

3. 將試片尺寸放大以便於切割,並使用雷射切割機切割試片。

4. 選用更高品質的人造鑽石顆粒,不僅是尺寸會較為相同,在表 面形貌上也會更加平整。

5. 選用更小尺寸的人造鑽石顆粒進一步減少固晶材料的厚度。

72

六、 參考文獻

1. W. C. Peng, Y. S. Wu, “High-power AlGaInP light-emitting diodes with metal substrates fabricated by wafer bonding”, Appl. Phys.

Lett., vol.84, no.11, p1841, 2004.

2. 材料世界網,工業材料雜誌,170

3.

http://www.materialsnet.com.tw/MagCatalog.aspx?magid=1

4. 吳耀銓 交通大學材料所 材料接合技術與應用課程講義 5. 李天鍚等編著,「晶圓鍵合技術及其應用」,工業材料雜誌,170

期,146 頁,民國 90 年 2 月。

6. T. Suga, M. M. R. Howlader, T. Itoh, “A new wafer-bonder of ultra-high precision using surface activated bonding (SAB) concept”, Electronic Components and Technology Conference, p1013, 2001.

7. Nakamura S, Senoh M, Mukai T. “P-GaN/n–InGaN/n–GaN

double-heteros tructure blue-light-emitting diodes”, Jpn. J. Appl.

Phys., 32, pL8, 1993

8. Kettel, Introduction to Solid State Physics, Ch4-5.

9. U. Lafont, H. v. Zeijl , S. v. d. Zwaag “Increasing the reliability of solid state lighting systems via self-healing approaches: A review” , Microelectronics Reliability, Vol. 52, P 71, 2012 10. J. Haisma, G. A. C. M. Spierings, U. K. P. Biermann J. A. Pals

“Silicon-on-Insulator Wafer Bonding-Wafer Thinning

73

Technological Evaluations” Jpn. J. Appl. Phys. , vol. 28, p1426, 1989.

11. T. Detchprohm, H. Amano, K. Hiramatsu, I. Akasaki, ”

The growth of thick GaN film on sapphire substrate by using ZnO buffer layer” , J. Cryst. Growth, vol. 128, p384, 1993.

12. W. S. Wong, M. Kneissl, Ping M., D. W. Treat, M. Teepe, N. M.

Johnson, “Integration of InxGa1−xN Laser Diodes with Dissimilar Substrates by Laser Lift-off”, MRS Proceedings, vol. 639,pG12.2, 2000

13. W. S. Wong, T. Sands, and N. W. Cheung, “Damage-free

separation of GaN thin films from sapphire substrates” Appl. Phys.

Lett. Vol. 72, p 599, 1998.

14. M. K. Kelly, O. Ambacher, R. Dimitrov, R. Handschuh, M.

Stutzmann“Optical Process for Liftoff of Group III-Nitride Films”

Physica Status Solidi (A), vol. 159, pR3, 1997.

15. J. M. Poate, J. W. Mayer, editors, “Laser Annealing of Semiconductors”, Academic Press, New York, p.54, 1982.

A. Zakauskas, M. S. Shur and R. Caska, “Introduction to Solid-State Lighting” John Wiley and Sons, 2002.

16. X.A Cao, E.B Stokes, P Sandvik, N Taskar, J Kretchmer, D Walker

“Optimization of current spreading metal layer for

GaN/InGaN-based light emitting diodes” Solid-State Electronics, Vol.46, p1235, 2002.

17. Kwak, J. S. ; Park, Y. ; Seong, T. Y., “Improvement of the light

74

output of InGaN-Based light-emitting diodes using Cu-doped

indium oxide/indium tin oxide p-type electrodes”, Appl. Phys. Lett.

Vol.86, p213505, 2005.

18. S.S. Schad, M. Scherer, M. Seyboth and V. Schwegler, “Extraction Efficiency of GaN-based LEDs” Phys. Stat. Sol.(a) Vol.188, p127, 2001.

19. D. A Steigerwald, M. R. Krames, J. J. OShea, M.

J. Ludowise, G. Christenson, Y. C Shen, C. Lowery, P. S. Martin, S. Subramanya, W. Gotz, N. F. Gardner, R. S. Kern, S. A.

Stockman, “High-power AlGaInN flip-chip light-emitting diodes”, Appl. Phys. Lett. Vol.78, p3379, 2001.

20. K. S. Lee, E. J. Kang, S. J. Park, “Improved light-output and electrical performance of InGaN-based light-emitting diodes by microroughening of the p-GaN surface”, J. Appl. Phys. Vol.93, p9383, 2003.

21. Y. Gao, R. Sharma, E. L. Hu, S. P. DenBaars,S. Nakamura, S.,

“Increase in the extraction efficiency of GaN-based light-emitting diodes via surface roughening”, Appl. Phys. Lett., Vol.84, p855, 2004.

22. E. F. Schubert, J. W. Graff, K. Streubel, C. Karnutsch,

“Omnidirectional Reflective Contacts for Light-Emitting Diodes”, IEEE electron device letters, Vol.24, p683, 2003.

23. R. H. Horng, S. H. Huang,D. S. Wuu, Y. Z. Jiang, “Characterization of Large-Area AlGaInP/Mirror/Si Light-Emitting Diodes Fabricated by Wafer Bonding”, Jpn, J. Appl. Phys., Vol.43, p2510, 2004.

75

24. B. H. Yu, Y. H. Wang, “Junction Temperature and Thermal

Resistance Restrict the Developing of High-power LED,” Chinese Journal of Luminescence, Vol.26 ,p761, 2005.

25. N. Linder, R. Wirth, A. Jaeger, “High-Brightness AlGaInP light-emitting diodes”, Proc. SPIE, Vol. 3938, p321, 2000.

26. D. S. Wuu, S. C. Hsu, S. H. Huang, R. H. Horng,

“Vertical-conducting p-side-up GaN/mirror/Si light-emitting

diodes by laser lift-off and wafer-transfer techniques”, Phys. Stat.

sol.(a) Vol.201, p2699, 2004.

27. R. H. Horng, C. E. Lee, S. C. Hsu, S. H. Huang, C. C. Wu, C. Y.

Kung, D. S. Wuu, “High-Power GaN Light-Emitting Diodes with patterned copper substrates by electroplating”, Phys. Stat. Sol.(a), Vol.201, p2786 , 2004 .

28. S. I. Na, G. Y. Ha, M. K. Kwon, I. K. Park, J. H. Lim, S. J. Park, M. H.

Kim, D. Choi, K. N. Min, “Thermally stable and highly reflective AgAl alloy for enhancing light extraction efficiency in GaN

light-emitting diodes” Appl. Phys. Lett., vol. 88 ,p043507, 2006 29. C.J. Chen, C.M. Chen, R.H. Horng " Thermal Management and

Interfacial Properties in High-Power GaN-Based Light-Emitting Diodes Employing Diamond-Added Sn-3 wt.%Ag-0.5 wt.%Cu Solder as a Die-Attach Material" Journal of ELECTRONIC MATERIALS, Vol. 39, p2618, 2010

30. Y. Xi and E. F. Schubert" Junction–temperature measurement in GaN ultraviolet light-emitting diodes using diode forward voltage

76

method" Appl. Phys. Lett., Vol. 85, p2163, 2004

31. A.M. Khounsary, D. Chojnowski, and L. Assoufid “Thermal contact resistance across a copper-silicon interface” Proc. SPIE, Vol. 3151, p45, 1997

32. M. Bahrami, J. R. Culham and M. M. Yovanovich, “Thermal Resistances of Gaseous Gap for Conforming Rough

Contacts” ,42nd AIAA Aerospaces Meeting and Exhibit Reno, Nevada, USA, Jan 5-8, 2004

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