本研究成功的建立了一套CFPI 量測系統，量測層狀介質表面聲 波的相速度頻散曲線，並探討具限制條件、無限制條件之準牛頓法與 簡單體法反算材料常數的效能。CFPI 光學量測系統與材料常數反算 的演算法均仍有待改進。本章節綜合反算分析與實驗的結果，並提出 相關的改進建議，作為日後參考。
6.1 材料常數的反算
本研究根據第一模態的表面聲波(及雷利波)相速度頻散曲線，進 行鍍膜材料常數的反算。本文採用隨機亂數選定多猜測起始點，兼顧 反算的可靠度及測試區域與全域極小值。頻率在1GHz 以下的雷利波 相速度數據之反算，不論是可靠度，或是精確度，都已達到可接受的 程度。證實具限制條件，無限制條件的準牛頓法及簡單體法都適用於 表面聲波相速度反算鍍膜材料常數的需求。倘若實驗系統可激發與接 收更高頻的表面聲波，本研究的演算程式必須克服失根的數值問題。
6.2 量測系統
6.2.1 共振腔CFPI 具有高靈敏度與解析度，適合量測波長短且頻率高的表面 聲波。本研究設計的CFPI 共振腔長度為 1 m，共振腔長度越長，受 到環境擾動的影響也越高。當 Nd: YAG 脈衝雷射激發時，所引致的 振動致使共振腔發生低頻振動，增加共振腔控制的難度，影響共振腔 的穩定性。以下有幾點仍須改進與注意的地方：
(1) 共振腔基座應採用剛性較強的結構，增加反射鏡面間距調整裝置
的接觸面積，以免發生較大的局部變形，減少共振腔受到環境擾 動的影響。
(2) 雷射光在共振腔中來回反射共振時，腔體內空氣粒子的布朗運動 和凹面鏡鏡面的潔淨度都將會減低雷射光強度，影響量測訊號的 訊雜比，造成共振腔腔體長度控制的難度與量測上的誤差，建議 增設外罩包裹腔體以改善此現象。
CFPI 量測前的校準是一個相當重要的步驟，初始校準越精確，
共振腔中將只存在單一頻率的雷射光參與共振，透射或反射的光強度 將會越強，可以大幅提高量測訊號的訊雜比。共振腔腔體各元件的同 軸性會影響初始校準的效率，製作過程需要相當的精準，但各元件加 工時，皆會有些許的誤差，可在共振腔體前後鏡座加上θ與φ維度的 微調機構，作為補償。微調後，腔體兩端凹面鏡仍必須共焦，保持與 腔體同軸。
本研究在共振腔體長控制部分，採用壓電管作為腔體長度微調的 主動機構，以PID 控制器進行回饋控制。當外界擾動較低的狀況下，
只需設定I 參數，即能將腔體長度維持在操作點處，若外界擾動過大，
腔體便無法鎖於定操作點。光學干涉儀為寬頻量測系統，量測時將會 引入許多來自系統以外的雜訊，未來系統可針對量測訊號作頻寬分 析，採用主動或被動濾波器濾掉不需要的訊號。
6.2.2 物鏡與工作平台
頻率越高的表面聲波，波長越短，量測時須將光點聚焦在試片 上，光點須小於表面聲波波長的四分之一。若表面聲波的波長小於光 學繞射尺寸的極限
(
0.61λ N.A.)
時，便達到干涉儀的量測極限。目前 這部分的設置為採用焦距 50 mm 的透鏡將雷射光聚焦在試片上。要 將雷射光準確地聚焦在試片上，是一件很不容易的事情，倘若量測的試片厚度皆不同，每換一次試片，就要重新調整光路，使得量測複雜 且耗時。建議可以 XYZ 三維平台放置試片，只要試片的厚度差異不 大，微調平台的Z 軸，便可將雷射光輕易地聚焦在試片上，不會改變 初始校準的狀況。
6.2.3 光源
光源是影響干涉儀量測品質的主要因素之一，若以穩頻雷射為光 源，共振腔較容易校正且控制，但是一般穩頻雷射功率通常較低，無 法使用在表面粗糙度高的試片的量測，能量較高的氣體雷射之頻率通 常較不穩定，若要提高干涉儀的實用性，必須慎選能量高且頻率穩定 的雷射光源。
為能確定干涉儀量測表面聲波的工作範圍，製作標準試片測試干 涉儀的工作範圍將是必要的。