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薄膜量測技術

在這章,將會把Michelson干涉儀、Fizeau干涉儀和橢圓偏振儀的工作原理及

量測方法做詳細的解說,報告的順序分別為第2-1節的Michelson干涉儀,第2-2節 的Fizeau干涉儀跟最後一節2-3的橢圓偏振儀。其中橢圓偏振儀的工作原理不同於 前面兩項儀器,在2-3節會有詳細的原理推導。

2-1 Michelson干涉儀原理

麥克森干涉儀如 Fig2-1 所示,圖中的 S 為燈源,L 為毛玻璃,G1 為分光鏡,

G2 為與 G1 平行,且材料、厚度均為與 G1 完全相同的平行平面透明玻璃;M1 與 M2 為平面鏡。由 S 所發出的光經 L 而形成一個擴展光源再經 G1 而形成二部 分其中一部份的光程為 G1=>M1=>G1=>E;另一部份的光程為

G1=>G2=>M2=>G2=>G1=>E。在此 G2 稱為補償片,其主要功能是保證兩部分的 光線均穿過相同厚度的玻璃,但對單色光而言,光線經分光鏡不會有色散產生,

故可以不加此補償片。

Fig2- 1 Michelson 干涉儀結構圖

Fig2- 2 Michelson 內部結構圖

使光源 L、鏡片 M1,鏡片影像 M2´和偵測器等均在同一方向,(如 Fig2-2)

M1 和 M2´面互相平行,即兩者相距均為 d,則我們由前面之討論可得到一組同心 圓干涉條紋(等傾角環紋),其中亮紋滿足的條件是

δ= kΛ+π=2mπ 或 2dcosθ= (m-1/2)λ

δ是相位差,Λ是光程差(Λ=2nrdcosθt),d 為玻璃的厚度,λ為光線的 波長,m 為條紋數。加π的原因是兩條光程中經反射面時,其中一條多經過一個 反射面(說明:光由光疏介質射至光密介質時,相位加π)。

而暗紋滿足的條件是

2dcosθ=mλ

( 1 ) 當 d=0 時,則對所有θ角,δ均為π,所以應得到全黑的干涉結果。

( 2 ) 自 d=0 開始移動,在觀察中心點(θ=0)明暗的變化。則會發現,當 d 移動

ym=f [ ²-m²)/ ²]½

λ/4 時,光程差改變λ/2,則相位改變了π值,所以干涉條紋由暗變亮;若 d 再移動λ/4 時,則中心點又變成暗點,所以當 d 一直增大時,中心點一直 作明暗的變化,由這些變化量,可得知光源波長。

(3)在某一 d 值時,環紋的半徑可計算如下:若產生之平行光經透鏡(眼睛或 望遠鏡)。聚在網膜或屏障上,則θ=y/f(如 Fig2-3),y 為環紋半徑,f 為透 鏡焦距,對於第 m 條暗紋滿足(θ很小時)

2dcosθ=mλ

或 2d(1-sin²θ)½=mλ~2d(1-θ²)½ 而中心點滿足 2d=mmaxλ

mmax=2d/λ

將θ=y/f 代入 mλ~2d(1-θ²)½中,得 (mmax mmax

Fig2- 3 Michelson 內部光路圖

若 M1 和 M2´ 不平行,則會觀察到類似 Fizeau 的干涉條紋,如 Fig2-4。

Fig2- 4 干涉條紋圖

2-1-1 Michelson 干涉實驗架構

在此篇報告討論,我們是使用人工架設的Michelson干涉儀來測量,而非使 用市售現成的干涉儀。

第一:先使用鏡子上的測微器量測有鍍薄膜和無薄膜之間零路徑長度(zero

path length)的差別。

第二:使用在干涉條紋中步階高度(step height)的改變。建構出實驗架構如 Fig 2-5。

Fig2- 5 Michelson 干涉儀結構圖

實驗結構的校正是非常重要的。所有的鏡面一定要盡可能的垂直。也就是

本容易被發現。在干涉圖像中間的垂直邊緣位置把水平線垂直分成一半。因此干

2-2 Fizeau 干涉原理[7]

本實驗所採用的Fizeau干涉儀結構如Fig 2-7。雷射光經由顯微物鏡擴束,在

經由透鏡轉換成平行光。之後光入射到分光鏡分光,其光會分別投射到參考端面 跟待測端面。由兩個端面反射回來的光會形成干涉現象,最後入射到攝影機中,

由攝影機擷取影像。就實驗結構和原理而言,第二個量測技術和Michelson相似。

藉由放大干涉條紋,能夠應該看見條紋向上或向下彎曲,然後再次回到水平(見 Fig 2-8)。藉由物理量測並且比較條紋之間地量測間隔,然後計算膜厚度

2-2-1 Fizeau 干涉實驗架構

Fizeau 的原理和 Michelson 的差異並不大。用一張紙擋住先前結構的鏡子。

用 X4 物鏡取代 X40 顯微物鏡。在物鏡和樣本之間取一個適當的地方來增加一面

Fizeau 平鏡(Fizeau flat),使樣本可以和光學平面相接觸。實驗結構圖如 Fig 2-7。

Fig2- 7 Fizeau 干涉儀結構圖

從樣本平台上移除薄膜樣本,並且用玻璃鍍鋁的載波片來取代,其高度有梯

Fig 2-8 是干涉條紋圖。薄膜中的梯度步階高度(graded step height)會產生條紋 線的位移,位移的總量即表示步階高度(即薄膜厚度)。干涉條紋間的距離正好

2-3 Ellipsometry

參考橢圓偏振儀的實驗步驟。在開始進行實驗時,必須先讓儀器暖機最少十 分鐘(可利用這段時間進行校正動作)。

2-3-1 原理

橢偏儀是量測反射光和其在偏振光上影響的儀器。當反射材料以薄膜的形式 鍍在基板上,由測量所得的薄膜厚度和光學常數等訊息增益可以解釋反射材料產 生的光學常數。當光線由材料反射後會發生什麼事呢?一束平面偏振光由表面反 射後會變成橢圓偏振光(見Fig 2-9)。

Fig2- 9平面極化反射

定義:

AP@:一個位於傳播偏振片平面之間的角度,其角度大小和材料表面(入 射平面或是表面平面)有關。

AA@:根據AP@是否為一個在傳播偏振片平面和入射平面或是材料表面之 間的角度,AA@可細分成A @和s Ap@。(s:垂直入射面方向,p:平行入射面方向)

橢圓率是介於Ap@As@反射光元件中所產生的相位變化(δ)和振幅比值 改變的結果,以Ψ表示(見 Fig 2-10)。

Fig2- 10 入射波和反射波相位移的比較關係圖

相位改變會隨著不同的材料和不同的入射角phi(Ψ)而有不同(見

Fig2-11),相位角在橢偏儀中的改變可以參考定義為Δ。

Fig2- 11 三種材料的入射角和相位改變的關係圖

介於元件R 和Rp s中的方位角Ψ,是兩個反射材料成分的相關消耗的量測。

Fig2- 12 Rp 和 Rs 的關係圖

在完整的三階觀點的表達中,必須考慮的不只psi(Ψ)的值,還要把相位差也 一起考慮進去。因此,完整的公式變成:

(tan )(exp i )

{absorbtion change} & {phase change}

p

s

R

R = ψ Δ

(2-3)

橢偏儀的運作原理和上敘現象的相反,顛倒。Fig 2-13是橢偏儀的基本元件。

Fig2- 13 橢偏儀結構圖

準直單色光,通常是使用綠光光源5460.73 A)。架設偏振片是為了極化光源

但是已足夠記得相關AP@和AA@的值。

由先前△和Ψ的定義,方程式可變成,

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