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第四章 結果與討論

4.1 影響試片表面形貌的因素

4.1.3 TiN 基板上鍍銀量之影響

圖 4-14 TiN 基板蒸鍍銀 40nm

圖 4-15 TiN 基板蒸鍍銀 30nm

圖 4-16 TiN 基板蒸鍍銀 50nm

4.2 偵測 Rhodamine 6G 分子之表面增強拉曼散射譜線 降低(d<2R),導致電磁效應所需的作用場無法產生,使 Rhodamine 6G 的訊號峰無法明顯增強。圖 4-18 及 4-19 為 Rhodamine 6G 的濃度由 1x10-5M 稀釋至 1x10-6M 以及 1x10-7M 後經過偵測所得到的散射圖譜,

結果顯示在偵測不同濃度的 Rhodamine 6G 分子時,皆只有鍍銀 30nm 的試片能夠較明顯地將訊號增強放大。

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wavenumber (cm-1) intensity (a.u.)

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wavenumber (cm-1) intensity(a.u.)

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0 400 800 1200 1600 2000

wavenumber (cm-1)

intensity(a.u.)

4.2.1.2 以氮化鈦為蒸鍍基材

以氮化鈦作為基板時,控制蒸鍍銀的厚度分別為 30nm、40nm、

50nm,分子 Rhodamine 6G 的濃度為 1x10-5M 時,拉曼散射圖譜如圖 4-20。由圖中可見,當氮化鈦基板鍍銀厚度為 40nm 時,數個 Rhodamine 6G 的主要訊號峰都明顯的表現出來,因為其試片表面 d/2R 的比值很

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Intensity(a.u.)

Rh6G(1x10-5M)

wavenumber(cm-1)

Ag40nm

Ag30nm

Ag50nm

圖 4-20 在 TiN 基板上,Rhodamine 6G 濃度為 1x10-5M

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Intensity(a.u.)

wavenumber(cm-1) Rh6G(1x10-6M)

Ag40nm

Ag30nm

Ag50nm

圖 4-21 在 TiN 基板上,Rhodamine 6G 濃度為 1x10-6M

4.2.2 Rhodamine 6G 分子濃度的影響與偵測極限 4.2.2.1 以碳化矽為蒸鍍基材

拉曼散射的表面增強效應發現之後,便廣泛地被應用在生醫領域 的研究。因為這個發現改善了傳統拉曼散射低靈敏度的缺點,使得待 測物的特徵峰值可以被明顯地表現出來。本小節要討論待測染色分子 Rhodamine 6G 濃度的改變對於拉曼散射的增強效應之影響,以及偵 測此分子的濃度極限。

銳,容易判的別程度會稍微優於較低濃度 1x10-6M 之 Rh6G 分子,

圖 4-24 為 SiC 基板固定鍍銀厚度 20nm 的偵測結果,對三種不同 濃度所偵測到的拉曼譜線,其 Rh6G 分子的特徵峰值皆沒有明顯表現 出來,只有在濃度 1x10-5M 時各個主要峰值處皆有微弱勉強可供判斷 的波峰。 這個現象可印證前一段所說,使用表面增強拉曼散射判定 Rh6G 分子時,其較佳的濃度約為 1x10-5M 左右。

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Ag30nm

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wavenumber (cm-1)

intensity(a.u.)

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wavenumber (cm-1)

intensity(a.u.)

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Intensity(a.u.)

wavenumber(cm-1) TiN-Ag40nm

Rh6G(1x10-5M)

Rh6G(1x10-6M)

Rh6G(1x10-7M)

圖 4-25 在 TiN 基板上,蒸鍍銀之厚度為 40nm 偵測不同濃度之 Rh6G 分子

4.2.3 Rhodamine 6G 分子於試片的吸附時間對拉曼散射譜線的影響 之 Rh6G 溶液,時間分別為 5min、30min、60min 後進行偵測所得的拉 曼譜線。由圖中可見,基板浸泡於溶液時間 5 分鐘所得的譜線其峰值

30min、60min 進行偵測如圖 4-27。發現當浸泡時間為 30 分鐘時的增

強效果優於 60 分鐘,可能是因為浸泡的時間過久,吸附在基板上局 部的分子過多而導致增強效果下降。

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wavenumber (cm-1) Intensity (a.u.) 時間分別為 5min、30min、60min

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wavenumber (cm-1) Intensity (a.u.)

SiC-Ag30nm Rh6G(1x10-6M)

30min

60min

5min

圖 4-27 SiC 基板蒸鍍銀厚度 30nm,浸泡於濃度 1x10-6M 之 Rh6G 溶液 時間分別為 5min、30min、60min

4.2.3.2 以氮化鈦為蒸鍍基材

圖 4-28 是以氮化鈦基板蒸鍍銀厚度 40nm,浸泡於濃度 1x10-5M 之 Rh6G 溶液,時間分別為 5min、30min、60min 後進行偵測所得的拉 曼譜線。和碳化矽基板比較,氮化鈦基板浸泡時間 5 分鐘的偵測譜線 其增強效果明顯較佳,這是因為該表面形貌較適合增強效應的的發 生。時間拉長至 30 分鐘及 60 分鐘時,峰值皆略為增強,但此時浸泡 五分鐘時的偵測譜線已足夠可以對於待測分子進行判別。將 Rh6G 溶 液置換為較低濃度 1x10-6M,時間一樣分為 5min、30min、60min 進行 偵測如圖 4-29,可得到相同的結論證實浸泡 30 分鐘之效果較佳。

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Intensity(a.u.)

wavenumber(cm-1) TiN-Ag40nm

Rh6G(1x10-5M)

30min

60min

5min

圖 4-28 TiN 基板蒸鍍銀厚度 40nm,浸泡於濃度 1x10-5M 之 Rh6G 溶液

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Intensity(a.u.)

wavenumber(cm-1)

TiN-Ag40nm Rh6G(1x10-6M)

30min

60min 5min

圖 4-29 TiN 基板蒸鍍銀厚度 40nm,浸泡於濃度 1x10-6M 之 Rh6G 溶液 時間分別為 5min、30min、60min

第五章 結論

Rhodamine 6G 分子的量測結果。SiC 基板上控制鍍銀厚度為 30nm 時,

拉曼散射的表面增強效應最佳;TiN 基板上控制鍍銀厚度為 40nm 時 為最佳。

3.本實驗製備的偵測基板對於 Rhodamine 6G 分子的偵測極限約 為 1x10-6M,意即利用拉曼散射的表面增強效應能偵測濃度 1x10-6M 以

第六章 參考文獻

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