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銀/錫/銅無鉛銲料與金基材界面反應與銀/錫/銅/金四元合金相平衡研究

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Academic year: 2021

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(1)

行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告

銀-錫-銅無鉛銲料與金基材界面反應與銀-錫-銅-金四元合 金相平衡研究

計畫類別: 個別型計畫

計畫編號: NSC93-2218-E-011-027-

執行期間: 93 年 10 月 01 日至 94 年 07 月 31 日 執行單位: 國立臺灣科技大學材料科技研究所

計畫主持人: 顏怡文

計畫參與人員: 蕭憲明、張書豪、饒建中

報告類型: 精簡報告

處理方式: 本計畫可公開查詢

中 華 民 國 94 年 10 月 12 日

(2)

行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 ■ 成 果 報 告

□期中進度報告

銀-錫-銅無鉛銲料與金基材界面反應與 銀--錫-銅-金四元合金系統相平衡研究

計畫類別:■ 個別型計畫 □整合型計畫 計畫編號:NSC 93-2218-E-011-027-

執行期間: 93 年 10 月 01 日至 94 年 07 月 31 日

計畫主持人:顏怡文 共同主持人:

計畫參與人員:蕭憲明、張書豪、饒建中

成果報告類型(依經費核定清單規定繳交):■精簡報告 □完整報告

本成果報告包括以下應繳交之附件:

□赴國外出差或研習心得報告一份

□赴大陸地區出差或研習心得報告一份

□出席國際學術會議心得報告及發表之論文各一份

□國際合作研究計畫國外研究報告書一份

處理方式:除產學合作研究計畫、提升產業技術及人才培育研究計畫、列 管計畫及下列情形者外,得立即公開查詢

□涉及專利或其他智慧財產權,□一年□二年後可公開查詢

執行單位:國立台灣科技大學材料科技研究所

中 華 民 國 94 年 10 月 11 日

(3)

銀-錫-銅無鉛銲料與金基材界面反應與銀--錫-銅-金四元合金系統相平衡研究 摘 要

銀-錫-銅三元與錫-銅二元合金皆為目前市售熱門的無鉛銲料,而金則是覆晶(filp chip)或 捲帶式自動接合(TAB)技術中常見的金屬凸塊(bump)材料。本研究將探討錫-銅-金三元系統與 銀-錫-銅-金四元合金在 200℃下的相平衡,以及數種錫-銅與銀-錫-銅合金與金基材反應偶之 界面反應。錫-銅-金三元系統在 200℃下,AuSn 與 Cu

6

Sn

5

會形成一單相區,且存在三個三元 介 金 屬 相 , 分 別 為 Au

46

Cu

33

Sn

20

-Au

43

Cu

37

Sn

20

, Au

35

Cu

45

Sn

20

-Au

20

Cu

60

Sn

20,

and Au

34

Cu

33

Sn

33

-Au

32

Cu

35

Sn

33,

。實驗結果也發現並無銀-錫-銅-金四元化合物的生成,而三元或四 元相平衡之金-錫、銀-錫、或錫-銅等三個系統之二元介金屬相,對於另兩個元素,如錫、銅,

或金、銅,或金、銀,皆有很大的溶解度,因為銀、錫與銅皆為 FCC 之結構。而各錫-銅/金 與銀-錫-銅/金反應偶在 200、180 與 150℃下,其所生成介金屬相厚度皆隨反應時間增加與溫 度增加而變厚,均符合拋物線定律。此外,介金屬相界面形態發現,隨反應時間增長與銅濃 度的增加,於界面所生成之 AuSn

4

相會逐漸消失,取而代之的為(Au,Cu)Sn 與(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

兩相。銅含量的增加,會抑制金、錫原子的擴散,具有阻障的效果。

關鍵字:無鉛銲料、相平衡、反應偶、三元介金屬化合物、拋物線定律

Ag-Sn-Cu (ASC) ternary and Sn-Cu binary alloys are the commercial Pb-free solders and widely used in electronic industries. The Au is commonly used in flip-chip technology, tape automated bonding as under bump metallurgy and substrate materials in printed circuit boards. In this study, the phase equilubria of the ASC ternary, Ag-Sn-Cu-Au quaternary system, and interfacial reactions between Sn-Cu and Ag-S-Cu alloys and Au were experimentally investigated at specific temperatures. The experimental results indicate that there exists a complete solid solubility between AuSn and Cu

6

Sn

5

at 200℃. Three ternary intermetallic compounds having the homogeneity ranges Au

46

Cu

33

Sn

20

-Au

43

Cu

37

Sn

20

, Au

35

Cu

45

Sn

20

-Au

20

Cu

60

Sn

20,

and Au

34

Cu

33

Sn

33

-Au

32

Cu

35

Sn

33,

are found at 200℃. The isoplethal section of Ag-Sn-Cu-Au quaternary system has been etsabilished, and no quaternary intermetallic compounds have been found. The several Sn/Au, Sn-Cu/Au and Ag-Sn-Cu/Au reaction couples were prepared and reacted at 150, 180, 200 ℃ for various lengths of time. Three intermetallic compounds, AuSn, AuSn

2

, AuSn

4

are found in all couples, and (Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

is found in all Sn-Cu/Au and Ag-Sn-Cu/Au couples except the Sn/Au couple. The thicknesses of these reaction layers increases with higher temperature and longer reaction time, and the growth mechanism can be described by using the parabolic law. In addition, with increasing reaction time and added more Cu in alloys, the intermetallic compound AuSn

4

disappears gradually, and turns into (Au,Cu)Sn and (Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5 . Experimental results also

indicate that the more Cu is added in the solders, the thicker (Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

layer is found, but anyhow that reduces the total IMCs thicknesses. It seems that (Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

is the diffusion barrier in Sn-Cu/Au and Ag-Sn-Cu/Au reaction coupled system.

Key words: Pb-free solder, phase equilibria, reaction couple,

ternary intermetallic compounds, parabolic law, diffusion barrier

1、前言

在電子元件或產品的製造過程中,電子元件 與基板間的連接技術是電子構裝製程中相當重要 的一環。伴隨著製程技術的進步,與電子產品輕 薄、短小、高功能的要求,直接將銲球製作於基 板下方的技術以成為當今主流,如上游的IC 製程

中的覆晶(flip chip)或下游的面板後段模組製程裡 COB(chip on board)等製程技術。如此趨勢均使 得相關電子產業對於銲料使用與日遽增,其於製 程技術的也愈顯重要。

傳統的銲料皆以具有共晶(eutectic)組成的 Sn-37 wt.% Pb 合金為主,因為其具備低熔點

(4)

(melting point=183℃)、良好的機械強度與性質、

低成本以及材料取得的容易,廣泛的被應用在各 種產業之中。但隨著環保意識的抬頭以及因為鉛 所具有的毒性會對人體造成嚴重的危害,如醫學 報導指出當人體血液含鉛量超過250µg/l,即會引 起鉛中毒[1]。所以基於環保的要求,禁用含鉛的 材料已是無法避免的趨勢。美國參議院已於1990 年正式提出減少使用含鉛材料[2],而歐盟更是決 定自 2004 年 1 月 1 日起實施電子產業無鉛方案 [3] , 制 訂 了 WEEE(Waste from Electrical and Electronic Equipment)與 RoHS(Restriction of Use of Hazardous Substances),規定在 2006 年 7 月 1 日前將所有含鉛材料的電器產品改為無鉛來取 代。所以使得使用無鉛銲料(lead-free solder)的趨 勢已無法避免。而接點的可靠度也是影響電子產 品性能與壽命的重要因素。所以明瞭無鉛銲料與 基材間的相平衡或界面反應之關連性,用以提供 業界相關的製程參數,在電子子構裝業中是甚為 重要的一項研究。

2、研究目的

本計畫所欲探討的系統為銀-錫-銅-金無鉛銲 料與錫-銅/金與銀-錫-銅/金等系統間界面反應與 相平衡的研究。因為銅的成本遠較其他無鉛銲料 添加物低廉且錫流中尚不易發生氧化,浮渣也不 多[4],所以錫-銅無鉛銲料經常應用於高溫製程之 中。金有良好的抗蝕性、不易氧化、低電阻、高 導電率、優異的可銲性等特性,廣泛地應用於PCB 中的基材材料,也是捲帶式自動接合(TAB)或覆晶 (FC)製程中主要的凸塊材料,也常被應用在凸塊 下金屬化(UBM)的金屬層材料。然而文獻中對上 述系統的研究十分欠缺,甚者並無任何關於錫-銅 /金系統文獻的發表。基於上述原因,本研究的目 的希望能對銀-錫-銅無鉛銲料與錫-銅/金與銀-錫- 銅/金等系統進行相關的研究,並將此研究結果提 供給國內相關產業參考,以確保台灣在無鉛化過 程與電子構裝領域保有領先的地位。

3、文獻探討

在銲接製程中,銲料與基材接觸、濕潤,進 而因為彼此間的化學勢(chemical potential)差異,

造成原子間的相互擴散,使得在銲接點處發生界 面反應,產生介金屬相(IMC)。適度的介金屬相成 長有助於元件與基板的接合,然而過厚的介金屬

層則可能會導致銲點的拉伸強度(tensile strength) 與抗撕強度(peel strength)的降低。文獻中有關銲 料與金的界面反應很少見,大多數研究是針對純 錫 或 錫-鉛合金與金的界面反應之探討[5-7]。

Nakahara 等人[6]研究發現金與錫在室溫下的反應 發現在金-錫界面處有 ζ-solid solution、AuSn、

AuSn

2

AuSn

4

四相的生成,且在錫與介金屬相 的界面有孔洞產生。Hannech 等人[7]則是研究錫- 鉛銲料(Pb-72at.% Sn)與金在 80℃至 160℃下的反 應,僅發現在界面生成AuSn、AuSn

2

AuSn

4

相,介金屬相的厚度與 t

1/2

成正比。Chen[8]探討 數種錫-銀/金系統的界面反應,在不同溫度下與金 進行固/固相的界面反應發現其所生成的介金屬 相的種類不因反應合金比例不同而有所改變,分 別生成AuSn、AuSn

2

AuSn

4

三種介金屬,此錫 -銀系統中各相的介金屬厚度皆隨反應溫度上升 而變厚、反應時間延長變厚,錫含量增加也會變 厚。

探討金-錫-銅三元系統前,理應先探討金- 錫、錫-銅與金-銅三個二元系統。二元系統已有眾 多 的 學 者 提 出 平 衡 相 圖 或 相 關 的 熱 力 學 資 料 [9-13],在此著重在銀-錫-銅三元部分。Kim 研究 金-錫-銅三元系銅在 250℃下富銅區中會存在一 Cu+Cu

3

Sn+AuCu

3

三相[14]。Karlsen 等人[15-17]

則針對金-錫-銅三元系統有深入的研究,並決定出 該系統在 360℃的等溫橫截面圖。在此等溫橫截 面圖下該系統存在三個三元化合物,分別是:錫 原子的濃度約在 20 at%與 33.3 at%。其濃度範圍 分 別 為 : Au

43

Cu

37

Sn

20

Au

49

Cu

31

Sn

20

Au

12

Cu

68

Sn

20

Au

36

Cu

44

Sn

20

,與 Au

330

Cu

337

Sn

333

Au

370

Cu

297

Sn

333

。在此溫度會存在兩個連續的固 體溶液,分別是金-錫系統中的 AuSn 與錫-銅的 Cu

6

Sn

5

,以及金與銅會形成連續的 FCC 相。而 Peplinski 與 Zakel[18]製備數各金-錫-銅三元合 金,以 X-ray 粉末繞射與電子顯微鏡觀察,發現 該系統存在一個新的三元化合物-Au

8

Cu

8

Sn

4

。而 Zakel[19]也發表了金-錫-銅三元系統在 190℃下的 等溫橫截面圖,雖於Karlsen 等人[15-17]所探討的 溫度不同,但 Zakel 僅發現一三元介金屬相才在 於此系統中,且 AuSn 與 Cu

6

Sn

5

並不會形成連續 之固體溶液。文獻中並無銀-錫-銅-金的四元系統 相平衡的研究,僅有銀-錫-銅[20-29]、銀-錫-金 [30-33]與上述錫-銅-金[14-19]的三元系統。

鑑於文獻並無關於錫-銅/金或銀-錫-銅/金的

(5)

界面反應的探討。對於錫-銅-金的文獻也相當欠 缺,也無銀-錫-銅-金的四元相平衡資料。因此本 實驗將著重在這方面的界面反應並觀察其IMC 成 長動力趨勢。並且改變錫、銅比例,明瞭銅原子 濃度改變對界面反應的影響。並且希望建立錫-銅 -金與銀-錫-銅-金在 200℃下等溫橫截面相圖。配 合界面反應的結果,來描繪錫-銅/金反應偶的反應 路徑。因為本研究所進行的系統為文獻中首見,

希望所獲得的研究結果能對於國內正如火如荼的 無鉛化製程,提供相關重要的製程參數。以使台 灣相關電子產業在無鉛化的製程中,保有領先且 關鍵的地位。

4、研究方法

4.1 界面反應

以電子天平秤取高純度 Ag(99.95%)、Sn(99.95%) Cu(99.9%)元素,依不同的反應偶系統來配製錫 -銅二元或銀-錫-銅三元合金,其總重約 10 克左 右。將配置好、不同比率的合金置於石英玻璃管 中,管內壓力必須抽氣達到低於10

-5

bar 以下,進 行真空密封。隨後將封好的合金樣品置於1000℃

高溫爐中靜置72 小時,使錫、銅合金可以均勻混 合,72 小時之後取出合金用冰水淬冷。將這些不 同比例的合金使用鑽石切割機加以剪裁成厚度 2mm 的圓形狀薄片。與長寬為 3.5mm×3.5mm,厚 度為100µm 的金箔,以不鏽鋼模具加以固定,形 成合金/金/合金的三明治形式反應偶,如 Fig. 4.1 所示。將此裝置置於石英玻璃管內抽真空密封。

分別將反應偶放置於高溫爐中反應,反應溫度為 200℃、180℃、150℃,反應時間為 12 至 1200 小 時不等。

Stainless steel tube

Ag-Sn-Cu or Sn-Cu alloys

Au Boron nitride Fig. 4.1 Schematic diagram of the

Sn-Cu/Au reaction couple.

將熱處理之後的合金取出,以冰水淬冷。先 以氧化樹脂鑲埋,再以砂紙將表面處理過後,用 0.3µm 的氧化鋁粉拋光,使合金界面光滑平整,

便於使用光學顯微鏡(OM)與掃瞄式電子顯微鏡 (SEM),觀察反應偶的界面。如果界面有 IMC 的 生長,則以能量分散光譜儀(EDS)與電子微針探測 儀(EPMA)來分析確切的組成,以確認各種金屬相 的種類。並且利用光學顯微鏡配合影像分析軟體 (Measure Tool V. 4.06)量取 IMC 的區域面積,再除 以量取區域的長度,以得到平均的IMC 厚度。重 複量取五次以上區域,以得到具代表性IMC 厚度。

4.2 相平衡

以 電 子 天 平 秤 取 高 純 度 Ag(99.95%) 、 Sn(99.95%)、Au(99.9%)與 Cu(99.9%)元素,依不 同的原子重量比率來製備錫-銅-金三元或銀-錫- 銅-金四元合金,總重約 1 克左右。將配置好、不 同比率的合金置於石英玻璃管中,管內壓力必須 抽氣達到低於10

-5

bar 以下進行真空密封,避免合 金氧化。將封好的合金樣品置於1000℃高溫爐中 靜置72 小時,使 Ag、Sn、Cu、Au 合金可以均勻 混合,之後取出合金用冰水淬冷。將這些不同比 例的合金放入 200℃的高溫爐中進行熱處理一個 月以上,使錫-銅-金或銀-錫-銅-金合金達到相平 衡。Fig. 4.2 為合金配製示意圖。

Cu

To vacuum pump

Sealed here

Sn or Ag

(Sn,Cu,Au) or (Ag, Sn, Cu, Au) molten alloys Heating to 1000℃

Solid state alloys Annealing at 200℃

(a) (b) (c)

Au

Fig. 4.2 Schematic diagram of the preparation of Sn-Cu-Au or Ag-Sn-Cu-Au alloys.

將熱處理之後的合金取出,以冰水淬冷。以 鑽石切割機將熱處理之後的合金切成兩半,其中 一半先以氧化樹脂鑲埋,進行金相處理,使表面 光滑平整。使用OM 與 SEM 觀察合金的表面,並 且使用EDS 或 EPMA 分析組成成分,以確認各種 金屬相的種類。將另一部份的合金使用銼刀或研 缽 敲 碎 並 磨 成 粉 狀 , 用 X 光 繞 射 儀 (X-ray diffractometer, XRD 得到合金的 X-ray 繞射圖形,

再 將 這 些 圖 形 與 國 際 粉 末 繞 射 委 員 會(Joint Committee of Powder Diffraction Standard, JCPDS) 所建立的標準繞射圖譜比對,用來判斷存在此合

(6)

0 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20 22 0

10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 110 120 130 140 150

Thickness of IMCs (µm)

Square root of time (hr0.5) 200oC

Sn Sn-0.3Cu Sn-0.5Cu Sn-0.7Cu Sn-1.0Cu

金中的金屬相。將XRD 的結果與 EDS 或 EPMA 所分析的組成相對照,以確認合金中所存在的各 種金屬相。

5.結果與討論

5.1 界面反應

Sn 與 Au 在 200℃下,反應 100 小時的背 射影像(BEI),在界面可以發現共有三個不同的層 狀結構,經由 EPMA 分析與對照金-錫二元相圖 [9],發現此三層由金基材至錫依序為:AuSn、

AuSn

2

AuSn

4

等三相。當在銲料錫湯中添加銅 時,則會改變整個 IMC 的分佈。Fig. 5.1 為添加 Sn-0.3wt.%Cu/Au 反應偶於 200℃反應 200 小時的 BEI 影像,可以清楚的發現比純 Sn 銲料的界面多 出了 2 個相:在最靠近銲料、顏色最深的相經 EPMA 分 析 , 其 組 成 為 Sn-6.79 at.%Au-45.02 at.%Cu,比對錫-金[9]與錫-銅[10]二元相圖,此相 應 為 錫 - 銅 系 統 的 Cu

6

Sn

5

相 , 標 記 為 (Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

。在(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

相與 AuSn

4

相之 間 顏 色 較 淺 的 相 , 經 EPMA 分 析 其 組 成 為 Sn-23.91 at.%Au-25.90 at.%Cu,比對錫-金[9]與錫- 銅[10]二元相圖,此相應為錫-金系統的為 AuSn 相,標記為(Au,Cu)Sn 相。實驗結果也發現,隨著 銅濃度以及反應時間的改變,反應生成的IMC 種 類也會隨之而改變。然而將銅的濃度逐漸增加,

則 界 面 會 有 明 顯 的 變 化 。 Fig. 5.2 為 Sn-1.0wt.%Cu/Au 反應偶在 200℃反應 72 小時後 的界面型態BEI 影像,此時的層數發現 AuSn

4

經消失,且IMC 的總厚度較其他反應偶薄。Table 5.1 為各反應偶在 200℃下,不同反應時間所觀察 到的 IMC 數目。顯示銅濃度的增加,抑制 IMC 的成長。(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

有擴散阻障層的功能,可 抑制IMC 的成長與阻止金、錫原子的擴散。

Fig. 5.1 Back-scattered electron image of the Sn-0.3 wt.%Cu/Au couple reacted at 200℃ for 200 hrs.

Table 5.1 Numbers of IMC layers at 200℃

Alloy

Time Sn Sn-0.3Cu Sn-0.5Cu Sn-0.7Cu Sn-1.0Cu

12 hrs 3 5 5 5 5

24 hrs 3 5 5 5 5

48 hrs 3 5 5 5 5

72 hrs 3 5 5 5 4

100 hrs 3 5 5 5

4

200 hrs 3 5 5

4 4

* means that AuSn

4

phase is not a plane structure, only can be formed at interface partially.

3 layers: A/AuSn/AuSn

2

/AuSn

4

/Sn

4 layers: A/AuSn/AuSn

2

/(AuCu)Sn/(Cu

X

Au

1-X

)

6

Sn

5

/alloy 5 layers: Au/AuSnAuSn

2

/AuSn

4

/(Au,Cu)Sn/(Cu

X

Au

1-X

)

6

Sn

5

/alloy

Fig. 5.2 Back-scattered electron image of the Sn-1.0 wt.%Cu/Au couple reacted at 200℃ for 72 hrs.

Fig. 5.3 Thickness of IMC layers of Sn-Cu/Au couples with different Cu contents reacted at 200℃.

將各反應偶之 IMC 厚度與時間的平方根做 圖,發現當反應溫度從200、180 下降到 150℃,

IMC 層總厚度會隨著溫度降低而變薄。在相同反 應溫度下,也比較了銅濃度的改變對IMC 總厚度

(7)

的影響。Fig. 5.3 為各反應偶在 200℃時,IMC 總 厚度與時間平方根的關係圖。從Fig. 5.3 可以發現 銅的添加,使得IMC 的總厚度變薄。當添加銅濃 度超過 0.5wt.%後其 IMC 成長趨勢就已經變緩,

隨著銅濃度的再增加,其斜率並沒有明顯的改 變,但是純Sn、Sn-0.3Cu 與 Sn-0.5Cu 三種合金之 間斜率變化很明顯地由大到小。Fig. 5.3 的斜率顯 IMC 的成長趨勢減緩,可以看出銅的添加確實 對於IMC 的生成有抑制的作用。隨著銅濃度的增 加與反應溫度的降低,AuSn

4

相會逐漸消失於界 面。

各反應偶的IMC 總厚度接隨反應溫度上升與 反 應 時 間 延 長 而 變 厚 , 且 符 合 拋 物 線 定 律 : x=(kt)

1/2

,顯示 IMC 的成長為擴散所控制。上數 學中的式k 為 IMC 成長速率常數。再將此五組反 應偶系統於三種反應溫度下所計算出來的反應速 率 常 數 k 值 代 入 Arrhenius 方 程 式 : k=k

0

× exp(-Q/RT)中,可求得反應活化能,Q 值。結果發 Sn-0.7wt.%Cu/Au 系統具有最低的 Q 值,其值 47.51 J/mol。推測應與此組成為的錫-銅系統的 共晶成份有關。

在銀-錫-銅/金反應偶的界面反應部分,亦有 相類似的結果。錫濃度分別固定在:96.5 wt%Sn、

95.5 wt%Sn、95.0 wt%Sn,而改變銀、銅之組成,

與金基材在反應溫度為150℃,180℃,200℃下進 行固相/固相的界面反應,反應時間12~1200小時 不等。實驗結果發現所有的錫-銀-銅/金反應偶在 200℃ 下 , 皆 生 成 AuSn/AuSn

2

/AuSn

4

/(Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

等 五 個介金屬相(IMC)。當反應溫度降低至180℃或 150℃時,且合金中銅濃度超過1.5 wt%時,金基 材 與 合 金 間 所 生 成 之 IMC 依 序 為 : AuSn/AuSn

2

/(Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

。 且 在 Sn-1.0wt.%Ag-4.0wt.%Cu/Au系統,於反應溫度為 150℃時,僅有AuSn/(Au,Cu)Sn/(CuxAu

1-x

)

6

Sn

5

三個IMC的發現(如Fig. 5.4所示)。此結果顯示當合 金中銅濃度增加,抑制了AuSn

4

與AuSn

2

等IMC的 生成。在厚度量測方面,所有反應偶之IMC厚度 皆隨反應時間增長與溫度增加而變厚,且均符合 拋物線定律,顯示IMC的成長為擴散所控制。當 合金中銅濃度增加,(Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

IMC所構成之厚度變厚,但整體IMC的成長速率 卻趨緩,且金基材消耗速度亦減緩。其原因可能 為(Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

所生成之IMC產生了

障蔽效應,導致錫原子擴散速度減緩,也抑制了 金原子往銲料端擴散。

Fig. 5.4 Back-scattered electron image of the Sn-1.0wt%Ag/4.0 wt.%Cu/Au couple reacted at 150℃ for 200 hrs.

5.2 相平衡

5.2-1 Sn-Cu-Au 三元相平衡分析

共配製40 各不同組成的 Sn-Cu-Au 三元合金 組成來探討Sn-Cu-Au 三元系在 200℃下的相平衡 關係,其組成如Fig. 5.5 所示。

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 0 100 10 20 30 40 50 60 70 80 90

100

Cu Sn

Au

Atom % Au Ato

m % Sn

Fig. 5.5 Compositions of Sn-Cu-Au alloys examined in this study superimposed on the Gibbs triangle

of Sn-Cu-Au system at 200℃.

Fig. 5.6 為合金 1 (Sn-10at.%Cu-10at.%Au)的 BEI 圖。從圖中可以看出顏色深淺不同的三區,

BEI 成像原理知分別代表三種不同相。經 EPMA 分析各相組成,發現最亮的區域組成為 Sn-20at.%Au,應為 AuSn

4

相;最暗區域組成為 99.8at%Sn,應為富 Sn 相。灰色的區域組成為 Sn-35.4at%Cu-15.6at%Au,應該為 Cu、Au 互溶 的(Cu,Au)

6

Sn

5

δ/η 相。比對合金 1 的 XRD 圖譜 (Fig. 5.7),亦發現存在這三種不同相。而合金 4 10 亦有類似結果,顯示這些合金組成均位於

(8)

Sn、AuSn

4

、δ/η 三相區中。

Fig. 5.6 BEI micrograph of alloy 1 (Sn-10%Au-10%Cu).

Fig. 5.7 The X-ray diffraction pattern of alloy 1 (Sn-10%Au-10%Cu).

Fig. 5.8為合金24 (Sn-37at.%Cu-40at.%Au)的 BEI圖,經分析暗區為Sn-37at.%Cu-44at.%Au,標 示為A相,其基本分子式定義為Au

9.6

Cu

6.6

Sn

3.8

,為 一 三 元 介 金 屬 相 。 灰 區 為Sn-45at.%Cu-36at.%

Au,標示為B相,其化學式為Au

2

Cu

6

Sn

2

,亦為三 元化合物。亮區為Sn-5at.%Cu-46at.%Au,應為 (Au,Cu)Sn。Fig. 5.9為合金21 (Sn-40at.%Cu-27at.

%Au)的BEI圖,亦可發現A相與B相的存在。其 XRD的分析結果,如Fig. 5.10,也與組成分析結果 相同。Fig. 5.11為合金22 (Sn-50at.%Cu-20at.%Au) 的BEI圖,經分析暗區為Sn-70at.%Cu-6at.%Au,

(Cu, Au)

3

Sn

2

,灰區為Sn-56at.%Cu-20at.%Au,

Au

2

Cu

6

Sn

2

,亮區為Sn-29at.%Cu-26at.%Au,為(Cu, Au)

6

Sn

5

相。亦可與其XRD分析結果找出B相、C 相與δ相等三相的繞射鋒,如Fig. 5.12所示。位於 此200℃下,δ/η下半部配製的所有合金,以EPMA 及XRD分析,確立結果三個三元化合物,分別為 Au

46

Cu

33

Sn

20

- Au

43

Cu

37

Sn

20

標 示 為 A , Au

35

Cu

45

Sn

20

- Au

20

Cu

60

Sn

20

標 示 為 B 與

Au

34

Cu

33

Sn

33

- Au

32

Cu

35

Sn

33

標示,存在於Sn-Cu-Au 三元系統於200℃下的等溫橫截面圖中。

Fig. 5.8 BEI micrograph of alloy 24 ((Sn-10at%Cu-35at%Au).

Fig. 5.9 BEI micrograph of alloy 21 (Sn-40at.%Cu-27at.%Au).

20 30 40 50 60 70 80 90 100

0 500 1000 1500 2000 2500

intensity

Fig. 5.10 The X-ray diffraction pattern of alloy 21(Sn-40at.%Cu-27at.%Au).

為了進一步確認200℃ Sn-Cu-Au 等溫橫截面 圖中 AuSn 與 Cu

6

Sn

5

間是否為一連續之單相區,

本研究在接近錫比率 50at.%的區域配製了 8 個試 樣,並將以XRD 分析,得其繞射資料。由 JCPDS[34]

得知AuSn 與 Cu

6

Sn

5

均為hexagonal 之結晶結構。

再依據hexagonal 晶體結構中,晶格間距與晶格常

(9)

數的關係式:

2 2 2

2 2

2

3

4 1

c l a

k hk h

d  +

 

 + +

=

XRD 的繞射結果得各晶面的(h k l)與 d 值,分別計算出 AuSn 與 Cu

6

Sn

5

析出相之晶格常 數(lattice constant) a、c 值,並對原子分率(n

Cu

/ n

Cu

+ n

Au

)做圖,可得如 Fig. 5.13。由圖得一連續直線,

可確定 AuSn 與 Cu

6

Sn

5

間無兩相區的存在,為一 單一相。這與Karlsen[15-17] Sn-Cu-Au 360℃相圖 結果一致,但不同於 Zakel[19]所發表的 190℃相 圖。

Fig. 5.11 BEI micrograph of alloy 22 (Sn-40at.%Cu-27at.%Au).

Fig. 5.12 The X-ray diffraction pattern of alloy 22 (Sn-40at.%Cu-27at.%Au).

綜觀以上結果,本研究已建立錫-銅-金三元系 統在200℃下之完整的等溫橫截面圖。錫-銅-金三 元系統的等溫橫截面圖在200℃下共存在 10 個單 相區,包括由AuSn 與 Cu

6

Sn

5

以及Au 與 Cu 所形 成的兩個連續固體溶液,以及A、B 與 C 等三個 三元介金屬相;此外 Au

5

Sn 對銅有極大的溶解 度。而此系統也存在17 各兩相區與 9 個三相區,

其結果如Fig. 5.14 所示。

0 .1 0 .2 0 .3 0 .4 0 .5 0 .6 0 .7 0 .8 0 .9 4 .0

4 .2 4 .4 4 .6 4 .8 5 .0 5 .2 5 .4 5 .6

c

a

n

C u

/(n

C u

+ n

A u

)

Fig. 5.13 Lattice constants of a and c versus the atomic mole fraction of Cu.

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 0 100 10 20 30 40 50 60 70 80 90

100

Cu Sn

Au

Fig. 5.14 The isothermal section of Sn-Cu-Au ternary system at 200℃.

5.2-2 Sn-Ag-Cu-Au 四元相平衡

在四元相平衡的部分,共配置了 25 個組成 比例不同的合金,其合金組成如 Fig. 5.15,來探 Sn-Ag-Cu-Au 四元系統在定組成 95at.%Sn 下,

200℃時的四元相平衡圖。

Fig. 5.16 為四元合金中編號 Q-7(Sn-0.25at%

Au-2.25at.%Cu-2.5at%Ag)的 BEI 微結構照片,圖 中明暗不同的四種區域:顏色最黑的顆粒,經過 EPMA 定量分析其組成為 Sn-3.28at%Au-49.38at

%Cu-0.22 at%Ag,應為溶有少量 Au、Ag 的 Cu

6

Sn

5

相。顏色最亮的區域呈很小的圓形顆粒狀,均勻 分佈在整個試片上,組成為Sn-16.95 at%Au-0.04 at%Cu,應是溶有微量 Cu 的 AuSn

4

相。顏色呈灰 色的小型顆粒,與Cu

6

Sn

5

相顏色相近,其組成為

(10)

Cu

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

Sn

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

Au

0

10

20

30

40

50

60

70

80

90

100

AuSn4

AuSn2

Cu6Sn5

AuSn

Cu3Sn

ζ

Mass balance line Reaction path (Cu < 0.5 wt %) Reaction path (Cu > 0.5 wt %)

Sn-0.13 at%Au-0.46 at%Cu- 74.44at%Ag,應為溶 有微量 Cu、Au 的 Ag

3

Sn 相。顏色呈灰色的底材 組成均勻,為純Sn 相。同理,將合金編號 1∼25 所得之結果,繪製成 200℃下,息濃度固定在 95at.%Sn 時之 Ag-Sn-Cu-Au 四元平衡相圖,如 Fig.

5.17 所示。

Sn-5%Cu

0 1 2 3 4 5

Sn-5%Ag

0 1 2 3 4 5

Sn-5%Au

0

1

2

3

4

5

1

2

3 4

5 6 7

8 9

10 11 12

13 14 15

16 17 18 19

20 21

22 23

24

25

圖 13 Fig. 5.15 The nominal compositions of Sn-Ag-Cu-Au

quaternary system alloys examined in this study.

Fig. 5.16 The BEI of alloy Q-7 (Sn-2.5at.%Ag-2.25at.% Cu-0.25at.%Au).

5.3 反應路徑

將 Table 1 的結果配合金-錫-銅三元系統在 200℃的等溫橫截圖,可以描述錫-銅/金反應偶在 200℃下的反應路徑。由實驗結果得知:錫-銅/金 反應偶在較長反應時間以及低銅濃度(<0.5wt%Cu) 的反應路徑為 Au/AuSn/AuSn

2

/AuSn

4

/(Au,Cu)Sn /(Cu

X

Au

1-X

)

6

Sn

5

/solder。在較短反應時間以及高銅 濃度(>0.5 wt%Cu)時,其反應路則為生 Au/AuSn/

AuSn

2

/(Au,Cu)Sn/(Cu

X

Au

1-X

)

6

Sn

5

/solder。Fig. 5.18 分別標示銅濃度低於0.5wt%與高於 0.5 wt.%的錫 -銅/金反應偶之反應路徑。結果顯示銅濃度的改變

對於錫-銅/金反應偶的 IMC 生成十分的敏感。

Sn-5%Cu

0 1 2 3 4 5

Sn-5%Ag

0 1 2 3 4 5

Sn-5%Au

0

1

2

3

4

5

Ag3Sn+Sn

Cu6Sn5+Sn AuSn4+Sn

Fig. 5.17 The isoplethal section of Sn-Ag-Cu-Au

quaternary system

with 95at.%Sn at 200℃

Fig. 5.18 Reaction paths of the Sn-Cu/Au couples reacted at 200℃ superimposed with the Sn-Cu-Au

200℃ isothermal section.

4.結論

所有的錫-銅/金反應偶在反應℃溫度為200 時,於界面皆生AuSn、AuSn

2

、AuSn

4

、(Au,Cu)Sn 與(Cu

X

Au

1-X

)

6

Sn

5

等五種IMC。但隨著銅含量增加 與反應時間延長,AuSn

4

相會逐漸消失。在錫-銀- 銅/金反應偶部分:在反應溫度200℃下,皆會生 AuSn/AuSn

2

/AuSn

4

/(Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

五種IMC。但在反應溫度降低至180℃或150℃

時,且合金中銅濃度超過1.5 wt%時,則IMC生成 順序為:AuSn/AuSn

2

/(Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

且在Sn-1.0Ag-4.0Cu/Au系統,於反應溫度為150℃

(11)

時 , 僅 有AuSn/(Au,Cu)Sn/(CuxAu

1-x

)

6

Sn

5

等 三 個 IMC的發現。此結果顯示當合金中銅濃度增加,

抑制了AuSn

4

與AuSn

2

等IMC的生成。在厚度量測 方面,所有反應偶之IMC厚度皆隨反應時間增長 與溫度增加而變厚,且均符合拋物線定律,顯示 IMC的成長為擴散所控制。當合金中銅濃度增 加,(Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

兩IMC所構成之厚度 變厚,但整體IMC的成長速率卻趨緩,且金基材 消 耗 速 度 亦 減 緩 。 其 原 因 可 能 為 (Au,Cu)Sn/(Cu

x

Au

1-x

)

6

Sn

5

所生成之IMC產生了障 蔽效應,導致錫原子擴散速度減緩,也抑制了金 原子往銲料端擴散,也降低了IMC的成長速率常 數。

本計畫也確立錫-銅-金三元金與銀-錫-銅-金 四元在200℃的相平衡關係。錫-銅-金三元系統在 200℃下,AuSn 與 Cu

6

Sn

5

會形成一單相區,且存 在 三 個 三 元 介 金 屬 相 , 分 別 為 Au

46

Cu

33

Sn

20

-Au

43

Cu

37

Sn

20

,Au

35

Cu

45

Sn

20

-Au

20

Cu

60

Sn

20,

and Au

34

Cu

33

Sn

33

-Au

32

Cu

35

Sn

33,

。實驗結果也 發現並無銀-錫-銅-金四元化合物的生成,而三元 或四元相平衡之金-錫、銀-錫、或錫-銅等三個系 統之二元介金屬相,對於另兩個元素,如錫、銅,

或金、銅,或金、銀,皆有很大的溶解度,因為 銀、錫與銅皆為FCC 之結構。

誌謝

感 謝 國 科 會 提 供 研 究 經 費 (NSC 93-2218-E-011 -027) 使 本 研 究 計 畫 得 以 順 利 執 行。並且要感謝台灣大學材料所操作員高崇源先 生在EPMA 成分測定上的協助。

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計畫成果自評

本計畫以反應偶與合金配製的方式探討了銀

-錫-銅金無鉛銲料與錫-銅/金與銀-錫-銅/金等系統 間界面反應與相平衡的研究。此部分的研究,在 以往的文獻中是十分缺乏的。

本計畫以得到下列結果,也是文獻中第一次 被提出。包含:

1.完成錫-銅/金反應偶,在 200、180 與 150℃下的 界面反應。

2.完成銀-錫-銅/金反應偶,在 200、180 與 150℃

下的界面反應。

3.界面反應結果顯示,銅原子濃度對於錫-銅或銀- 錫-銅合金的界面反應非常敏感。且會在界面生 成(Cu

X

Au

1-X

)

6

Sn

5

相,有抑制錫金的作用導致 IMC 的種類改變與厚度變薄。

3.完成錫-銅-金三元系統在 200℃下的溫橫截 面圖。

4.完成銀-錫-銅-金四元系統,在 200℃與錫原子濃 度為95 wt%下的溫橫截面圖。

5 由相平衡的結果確立了 AuSn 與 Cu

6

Sn

5

會形成 一 單 相 區 , 且 存 在 三 個 三 元 IMC , 分 別 為 Au

46

Cu

33

Sn

20

-Au

43

Cu

37

Sn

20

,Au

35

Cu

45

Sn

20

-Au

20

Cu

60

Sn

20,

and Au

34

Cu

33

Sn

33

-Au

32

Cu

35

Sn

33,

。也無四元 IMC 的發現。

如此的結果對於以後學術界或是產業界在 研究銀、錫、銅與金系統間相關性質探討,例如 熱力學、或界面反應等有很大的幫助。且經由此 相圖可以得知於此溫度各IMC 的平衡關係,配合 界面反應明瞭於界面反應時IMC 的反應路徑。本 計 畫 也 是 第 一 個 設 計 錫-銅銲料與金的界面反 應,由分析結果可以得到掌握介金屬成長的方 法,適度調整成長厚度使得黏著度達到最好,對 於提供產業在製程可靠度的提升設計上一個新的 資訊。

本期成果已經投稿於 2005 年中國化學工程 學會,題目為「錫-銅合金與金基材界面反應之研 究」、2005 年中國材料年會,題目為「錫-銅-金三 元與銀-錫-銅-金四元相平衡之研究」。且將本計畫 所得到之結果加以整理,已將摘要投稿於2006 美 國 材 料 、 礦 物 及 金 屬 年 會(2006TMS),題目為

Investigation of the Phase Equilibria of the Sn-Cu-Au ternary, the Sn-Cu-Au-Ag quaternary system, and Interfacial Reactions in Sn-Cu/Au couples」,已獲接受。參與之學生-蕭憲明同學其 論文亦獲得台灣印刷電路板協會之PCB 優秀論文 獎,投稿論文題目為「金-銅-錫三元合金系統相平 衡及錫-銅合金與金基材的界面反應」。

數據

Fig. 4.2 Schematic diagram of the  preparation of Sn-Cu-Au or Ag-Sn-Cu-Au alloys.
Fig. 5.3 Thickness of IMC layers of Sn-Cu/Au couples with  different Cu contents reacted at 200℃
Fig. 5.5 Compositions of Sn-Cu-Au alloys examined in this  study superimposed on the Gibbs triangle
Fig. 5.6 BEI micrograph of alloy 1 (Sn-10%Au-10%Cu).
+3

參考文獻

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