• 沒有找到結果。

五氧化二鉭-氧化銥對氫離子感測電極的工作原理

第二章 原理

2.2 五氧化二鉭-氧化銥對氫離子感測電極的工作原理

我們在白金電極上鍍氧化銥薄膜,再鍍上一層五氧化二鉭薄膜。

此感測電極的工作原理如Fig. 2-2 所示,構造圖如 Fig. 2-3 所示。

1. 氧化銥薄膜:

氧化銥是一種過渡的貴金屬氧化物,具有抵抗待測溶液侵蝕的能 力又有低阻抗跟較快的氧化還原能力,因此可以用在pH 電極的感應 層上。本實驗是以非晶態氧化銥薄膜為主,若是以低功率(約30 W ~ 100 W 之間)、低基板溫度(略高於室溫)的條件下濺鍍時,所濺鍍 出來的氧化銥屬於非晶態(amorphous)的薄膜;若是濺鍍時基板溫 度加熱超過100℃ 以上,薄膜就會開始出現結晶態。氧化銥具有微 通道跟夾層水分子等結構的氧化物,在離子移出跟注入薄膜上面的有 較快的擴散速率。即擁有離子與電子導体的雙注入特性,遵守(2-3)

式的氧化還原反應式,改變自身費米能階(Fermi Level)造成電位改

變,因此可以測得待測溶液中氫離子濃度,反推得pH 值。

氧化銥薄膜在液體、空氣中或未完全氧化的情況下,容易跟氧

氣發生氧化反應,使得感測元件的電位不固定,因此我們選擇五氧化 二鉭當作保護層(Encapsulation)覆蓋在氧化銥薄膜上,五氧化二鉭 薄膜不僅可以隔絕氧氣對氧化銥的反應而且不影響氧化銥對氫離子

第二章 原理

濃度的感測。

2. 五氧化二鉭薄膜:

五氧化二鉭薄膜,為一種絕緣的陶瓷材料,具有良好的介電性質 以及抗酸鹼腐蝕性。因其介電性質的穩定性,且沒有鐵電材料的揮發 污染問題,而一直是受到高度重視的材料之一。在常溫下所濺鍍出來 的五氧化二鉭薄膜是非晶態,在基板溫度高於500℃時則轉變為多晶 態,在較高溫度下濺鍍出來的薄膜,其含氧量也會降低。當 Ar/O2

比例越高時,五氧化二鉭的濺鍍沈積速率就越快,薄膜的反射率就會 增加,金屬性變強,但如此薄膜的酸鹼感測特性就會變差。

五氧化二鉭為離子導体,對氫離子具有單一選擇性,即溶液中 只有氫離子可以通過Ta2O5薄膜,當氧氣接觸元件時會先到達五氧化 二鉭薄膜層,此時氧氣並不會與五氧化二鉭有電子得失現象。因此就 如同被抵擋在五氧化二鉭層外,便不能與氧化銥薄膜發生反應而改變 其電位。所以五氧化二鉭可以隔絕空氣中或是溶液中的氧氣,只讓氫 離子與氧化銥反應。

第二章 原理

3.白金電極:

白金是貴重金屬導體,不易受外界環境物質影響,發生化學反

應,所以非常適合當電子的傳導電極,故白金電極是對 IrO2‧H2O 提 供電子的傳輸。

對於一個理想的氫離子感測器,應具備三點特質:

1.感測器與參考電極的電位差具有穩定性:

由於氧化銥薄膜在液體中平衡態的行為,其電位對反應濃度的關 係是由Nernst 方程式所描述,根據(2-6) 式,可清楚知道氧化銥對待 測溶液pH 值變化成一穩定的線性關係,在室溫 298K 下,其斜率為 -59.05mV/pH,因此可知道當 pH 值固定時,氧化依具有一固定的電 位。

2.電位需具有再現性:

氧化銥在濺鍍後,其組成成分並非完全為氧化態(Ir4),價數位

於三價與四價間,即IrO2.H2O 和 Ir(OH)3,此組成比例決定費米能 階的位置,即氧化銥的電位值。

將五氧化二鉭完全覆蓋於氧化銥薄膜上,氧化銥便不會和空氣接

第二章 原理

觸,並會被五氧化二鉭薄膜所鈍化(passivation)而使表面的氧化銥 失去活性,此效果能隔離氧氣也能使氧化銥的氧化態/還原態固定在 濺鍍完成的初始狀態,費米能階的位置便不受影響。對氫離子作用而 改變氫離子感測電極電位的情況下,感測器對相同pH 值待測溶液,

因元件上氧化銥費米能階和環境溫度皆固定,電位應該具有再現性且 不隨時間變化。

3.材料不受化學溶液的侵蝕:

一般金屬氧化物,皆可進行如下的反應

MxOy+2yH+2ye xM+yH2O[24]

pH 感測器的材料必須能抵抗酸性物質的侵蝕,而本實驗選用的 五氧化二鉭與氧化銥材料都具有抵抗待測溶液侵蝕的能力,因此選為 感測器的保護層與篩選氫離子,其不受化學溶液的侵蝕,使元件能在 酸性與鹼性中正常工作,亦能使感測元件的壽命變長。

相關文件