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第三章 實驗與方法

3.6 元件製作、成膜、組裝

3.6 元件製作、成膜、組裝

太陽能電池元件製作加工方式,主要為薄膜加工及表面處理。其關 鍵為製作鈣鈦礦功能性薄膜、金屬電極及ITO 透明導電膜級保護膜的技 術。製作鈣鈦礦功能性薄膜分為濕式加工法及乾式加工法兩種;一般製 作固態鈣鈦礦型太陽能電池元件時,通常使用的是濕式加工法中的旋轉 塗佈(Spin coating)或噴墨技術(Ink-jet printing),搭配乾式加工的真空蒸鍍 方式製作元件,本研究使用之元件結構及製作流程如圖3.1 及圖 3.2 所示 [67,68]。

圖3. 1 元件製作層剖面圖

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圖3. 2 元件製作流程圖

3.6.1 ITO 玻璃基板之清洗

鈣鈦礦型太陽電池元件的壽命及效率與當作陽極的ITO 玻璃表面有 很大的關係,因為表面的汙染會造成其與鈣鈦礦薄膜間接觸不良導致其 界面勢壘增加及吸光機率降低。

1. ITO 玻璃清洗步驟如下:

(1)將 ITO 玻璃切割成面積為 3 cm × 3 cm 大小。

(2)將 ITO 玻璃置於丙酮中以超音波震盪 20 min。

(3)將 ITO 玻璃置於中性清潔劑中以超音波震盪 20 min。

(4)將 ITO 玻璃以大量去離子水沖洗。

(5)將 ITO 玻璃置於去離子水中以超音波震盪 20 min。

(6)將 ITO 玻璃置於丙酮中以超音波震盪 20 min。

(7)將 ITO 玻璃置於甲醇中以超音波震盪 20 min。

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(8)將 ITO 玻璃置於異丙醇中以超音波震盪 20 min。

(9)保存於異丙醇中,使用前以氮氣吹乾即可。

3.6.2 電子傳輸層

本研究以市售之TiO2做為電子傳輸層材料,TiO2其電子遷移率高,

能增加電荷傳輸到電極,且為寬能隙材料,能有效抑制激子擴散到電極,

以減少電子電洞對復合。此溶液以旋轉塗佈法式塗佈於ITO玻璃上,以 旋轉塗佈機5000 rpm旋轉10s後,置於50℃的烘箱上軟烤10 min將溶液去 除,即可進行活性層的塗佈,其厚度約為80 nm。

3.6.3 光吸收層

在光吸收層的溶液配製方面,溶劑的選擇及材料濃度比例佔有很重 要的地位,因為不同溶劑之溶解參數(solubility parameter)和蒸氣壓(vapor pressure),對溶質之溶解度和揮發速率有不同的影響,黏度亦扮演其中 之一的角色。本實驗元件製作活性層材料為自行合成的P1、P2、P3。

活性層主要使用N,N -dimethylformamide (DMF)為溶劑來進行溶液 之配製,並分別以1500 rpm、30 s 的條件於電洞傳輸層上方進行旋轉塗 佈,厚度約為100 nm。本研究將分別探討不同樣品其塗佈層數及退火溫 度對效率的影響[69]。

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3.6.4 電洞傳輸層

P3HT的全名為聚(3-己基噻吩)(poly(3-hexyl thiophene, P3HT)),

P3HT 具有高的電洞遷移率 (hole mobility) (可高達 0.1 cm2 V -1S-1) 與 良好的穩定度。這類共軛高分子的立體規則性 (regioregularity) 對於 所製備的元件效率非常重要,具有高立體規則性的 P3HT 往往會有較高 的元件效率,但是其製備過程比較複雜,反應生成率較低,成本較高。

本研究採用市售的P3HT(20 mg)粉末與Chloobenzene anhydrous溶劑 (100 c.c.)混合成溶液,經由旋轉塗佈於試片上,使有機薄膜可以均勻的 塗佈,增加接面間的接觸,使激發電子可以在電流迴路中更加順暢。

3.6.5 金屬電極(Al)

當上述鈣鈦礦薄膜皆藉由旋轉塗佈製備完成後,以耐熱膠帶固定元 件於遮罩上,使元件面積為0.04 cm2,如圖 3.3,並於 10-6 atm 下蒸鍍金 屬鋁,以石英震盪器控制膜厚為100 nm。

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