第三章 實驗步驟及實驗數據
3.3 加入飽和吸收體濾波器
3.3.1 飽和吸收體濾波器
飽和吸收體濾波器(SAF)的架構如圖 3.11,主要由兩個環型器
(circulator,C)、光耦合器(OC,50:50)、兩個極化控制器(PC)
以及飽和吸收體(SA)組成。飽和吸收體的部分我們選擇使用 MORITEX 的 10m 摻鉺光纖,規格如表 3.6。
當光從 input 端進入時,透過光耦合器分成兩道光 a 和 b。a 光 經過極化控制器後會從第一個環型器(C1)的【1】端進入,到第一 環型器的【2】端出去,然後經過飽和吸收體,再從第二環型器(C2)
的【2】端進入,到第二環型器的【3】output 端出去。b 光經過極化 控制器後會從第二個環型器的【1】端進入,到第二環型器的【2】端 出去,然後經過飽和吸收體,再從第一環型器的【2】端進入,到第 一環型器的【3】端出去,爲了避免光纖端點接觸空氣產生 3dB 的反 射,所以在第一環型器的【3】端接上 match oil。
a、b 兩道光會在飽和吸收體中會相互干涉,產生感應光柵,對 a 光來說產生濾波的效果。調整兩個極化控制器來使的兩道光產生的駐 波干涉達到最大的效率。
圖 3.11 飽和吸收體濾波器
Length
(m)
Core diameter
(µm)
Absorption
@ 1534nm
(dB/m)
Mode field diameter
(µm)
Numerical aperture
10 3.7 9 6.3 0.25
表 3.6 Moritex EDF(Er 307)
3.3.2 加入飽和吸收體濾波器
現在我們將飽和吸收體濾波器加入圖 3.4 的雷射架構中,如圖 3.12。緩慢增加驅動電流使 980nm 激發光的激發功率上升,在増益介 質中產生 1550nm 的光信號。當光信號能量大於整個雷射腔的臨界值
(threshold value)時,則開始有雷射輸出;調整飽和吸收體濾波 器中的兩個極化控制器,使其達到雷射最大輸出功率(因為雷射腔中 有對極化敏感的光阻隔器)和 beating 信號最小(因為飽和吸收體濾 波器會壓縮邊模)。通常我們會先調整 PC1(圖 3.11)使得輸出功率 最大,a 光的極化方向固定,然後再調整 PC2 使 b 光的極化方向與 a 光相同,達到 beating 信號最小。
圖 3.13 為輸出的光頻譜訊號,量測到的雷射頻寬為 0.06nm,低 於儀器量測的極限,而中心波長為 1557.22nm。圖 3.14(a)-(f)
為不同輸出功率下,RF 頻譜儀量測的 beating 信號。表 3.7 為不同 輸出功率下,根據 beating 信號以及 DC 信號所得之 SMSR 值。
根據表 3.7,因為飽和吸收體濾波器的加入使得整個 SMSR 值上 升(>60dB),代表雷射腔內的邊模的確有被壓縮的現象,尤其在低輸 出功率的地方,SMSR 值可達到 80dB 以上;當逐漸提高輸出功率時,
由於雷射腔內能量逐漸上升,在增益介質中同時激發了邊模頻率,使 邊模能量上升,加上模態與模態間僅相差 10MHz,主模與邊模在飽和
吸收體中的吸收損耗相差不大,邊模壓縮的效果降低,所以 SMSR 值 逐漸減少,但是都還能維持在 50dB 以上。圖 3.15 為我們調整可調式 濾波器得到不同單模輸出頻率的頻譜圖,可調範圍為 1530-1570nm(為 可調式濾波器的調頻範圍)。圖 3.16 為不同輸出頻率所得之 SMSR 值。
圖 3.12 加入飽和吸收體濾波器
1556 1557 1558 1559 1560 1561 -60
-50 -40 -30 -20 -10 0
amplitude(dBm)
wavelength(nm)
圖 3.13 光頻譜圖
0 20 40 60 80 100
Output power
(mW)
DC power
(dBm)
Beating power
(dBm)
SMSR
(dB)
0.5 10.27676 -65 78.27676 0.8 14.20914 -62.2 79.40914 1 16.11702 -63 82.11702 1.5 19.63074 -52.8 75.43074 2 22.13762 -41.5 66.63762 2.5 24.08796 -33.7 60.78796
0.5 1.0 1.5 2.0 2.5
40 45 50 55 60 65 70 75 80
SMSR
output power
1520 1530 1540 1550 1560 1570 1580
-80 -60 -40 -20
wavelength(nm)
amplitude(dBm)
圖 3.15 可調頻率範圍
1530 1535 1540 1545 1550 1555 1560 1565 1570 60
65 70 75 80 85 90
SMSR
wavelength(nm)
3.3.3 加入飽和吸收體濾波器和次環腔濾波器
爲了使得主模與邊模的吸收損耗差異增加,在圖 3.12 雷射架構 中嘗試加入圖 3.7 的次環腔濾波器,如圖 3.17,使模態與模態間的 頻率間距增加,邊模壓縮的效果會更顯著。
圖 3.18 為輸出的光頻譜訊號,量測到的雷射頻寬為 0.06nm,中 心波長為 1555.35nm。圖 3.19(a)-(f)為不同輸出功率下,RF 頻 譜儀量測的 beating 信號。表 3.8 為不同輸出功率下,根據 beating 信號以及 DC 信號所得之 SMSR 值。
根據表 3.8,因為加入次環腔濾波器使模態與模態間的頻率差增 加,邊模能量被壓縮的更多,SMSR 值平均都可以達到 90dB 以上,而 且當增加輸出功率時,SMSR 值也都能維持一定水準,這代表此雷射 架構達到更好的單模輸出水準。但由於在次環腔濾波器中,雷射光的 偶合對於光極化方向非常敏感,使得輸出頻譜會有明顯模態跳躍的不 穩定現象產生。
圖 3.17 加入飽和吸收體濾波器和次環腔濾波器
1554.0 1554.5 1555.0 1555.5 1556.0
-80 -60 -40 -20 0
amplitude(dBm)
wavelength(nm)
0 200 400 600 800 1000
Output power
(mW)
DC power
(dBm)
Beating power
(dBm)
SMSR
(dB)
0.5 10.27676 -86 99.27676 0.8 14.20914 -84.56 101.7691 1 16.11702 -82.49 101.607 1.5 19.63074 -81.55 104.1807
2 22.13762 -78.74 103.8776 2.5 24.08796 -76.18 103.268
0.5 1.0 1.5 2.0 2.5
80 85 90 95 100 105 110
SMSR
output power
3.4 雷射線寬量測--延遲自動內差法
(Delayed Self-homodyne method)
實驗架構如圖 3.20,包含兩個光耦合器(OC)、極化控制器(PC)
和 15km 的單模光纖。將雷射光接到 input 端,再把 output 端接到光 偵測器,經放大器(AMP)放大訊號後,接到 RF 頻譜儀觀察結果;調 整極化控制器使兩道光耦合效率達到最好。根據 2.3 節的實驗原理,
此量測架構的極限為 13kHz。
圖 3.20 延遲自動內差法
圖 3.21 為圖 3.12 的雷射架構(只加上飽和吸收體濾波器),低 輸出功率時的量測數據,因為低頻的雜訊很多,所以我們將圖形作 smoothing;RF 頻譜儀的解析頻寬(resolution bandwidth)為 1kHz,
此時雷射輸出線寬大約為 25kHz。圖 3.22 為圖 3.15 的雷射架構(飽 和吸收體濾波器和次環腔濾波器)所量測的數據,此時雷射輸出線寬
3.23 為 Agilent 8164A 半導體雷射模組,規格如表 3.8,輸出 1.25mW 時的量測數據,此時雷射輸出線寬大約為 250kHz。
Laser type Wavelength range
Numerical aperture
Max power
Fabry-Perot laser
InGaAsP 1496nm-1640nm 0.1 163mW
表 3.9 Agilent 8164A 半導體雷射模組
0 5 10 15 20 25 30 0.0000
0.0002 0.0004 0.0006 0.0008 0.0010
intensity(arbitrary unit)
frequency(kHz)
0 5 10 15 20 0.0000
0.0002 0.0004 0.0006 0.0008 0.0010 0.0012 0.0014 0.0016
intensity(arbitrary units)
frequency(kHz)
圖 3.22 雷射輸出線寬(2)
0 50 100 150 200 250 300
0.000 0.002 0.004 0.006 0.008 0.010
intensity(arbitrary units)
frequency(kHz)
圖 3.23 雷射輸出線寬(3)
比較上面三份數據,可以知道我們的實驗架構所產生的單模雷射 線寬遠低於半導體雷射線寬。一般來說,半導體雷射的雷射腔長非常 短(~1µm),FSR 非常大(~1THz),使得它非常容易達到單模輸出(濾 波器頻寬小於 FSR 即可)。根據(2.22)式,可以知道輸出線寬可表 示為
( )
R FSR Linewidth = − R •
π 1
由上式可知,FSR 大,相對於雷射線寬也會變大,所以半導體雷射的 線寬會遠大於我們的雷射輸出線寬。