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近年來,由於個人電腦和網際網路的普及,使的人類對於網路的 依賴性日益地增加,通訊產業急遽的發展。而舉凡家庭個人的電腦多 媒體應用或是跨國的電子商務,都需要極大的頻寬以應付大量的資料 數據傳輸,造成頻寬的需求大增,於是開發頻寬成了許多網路設備人 才積極研究發展的目標。而在通訊市場已從 Telecommunication 進入 Datacommunication 以後,以目前一般的雙絞線(Twisted-pair cable)

或同軸電纜(Coaxial cable)其傳輸頻寬已漸漸不敷使用。於是研究 使用光調變訊號以及光纖來做為傳輸數據的媒介,將頻寬拓展到 Gbps 等級的光通訊技術已經成為未來解決頻寬不足的最佳途徑。

然而在光通訊系統中,當長距離的跨海底光纖網路(Undersea cable)到中距離的環島主幹線網路(Terrestrial long-haul)皆已鋪設 完畢時,由於都會區(Metropolitan trunking)及用戶端(Access/LAN)

的光纖通訊零組件的不普及,造成光通訊市場發展的瓶頸。因此如何 將光通訊市場推向用戶端,元件的大量生產及低價位是唯一的方法。

於是光通訊零組件的製作開始由傳統的光纖燒結發展成以半導體製 程為主的平面光波導技術(Planar light-wave circuit technology)。平面 光波導技術的優點,在於可以積體化,縮小元件的尺寸,並且可以減

少封裝的次數以降低成本。另外配合著多家材料廠商更新更便宜的光 學材料的研發,將之應用在光通訊元件的生產上,可使光通訊元件的 接受度更高,光通訊網路更普及化,市場的榮景也將是指日可待。

而以平面光波導技術而言,材料與製程的發展是最重要的關鍵。

就材料方面而言,早期的平面光波導元件的材料大多以無機材料

(Inorganic materials)為主。常見的有 SiO2,SiN 及 Si 等,而以 SiO2 與 Si 應用最為頻繁。SiO2具有品質穩定,材料製程穩定等優點,但 是 SiO2 厚膜的成長以及蝕刻處理不但耗時且耗成本,不論是以熱氧 法(Wet-oxidation),火焰水煮法(FHD, flame hydrolysis method)或 是電漿輔助化學氣相沈積法(PECVD, plasma enhanced chemical vapor deposition),都需要耗去可觀的生產成本。後來高分子聚合材料

顯出有機高分子材料製程簡單以及價格低廉等優點。不過,高分子材 料對環境抵抗力不高,材料再現性也不如無機材料來的好,這是在發 展 有 機 材 料 時 仍 須 努 力 的 地 方 。 而 近 年 來 有 機 無 機 混 合 材 料

(Organic-inorganic hybrid materials)兼具高分子材料之加工性與無機 材料機械安定性之優勢,逐漸被應用在平面光波導製作上。本論文 中,便嘗試使用工業研究院化工所所開發的 sol-gel 有機無機混合玻 璃材料做為導光材料。

在本論文中,第二章將說明 sol-gel 混合玻璃材料,包含了做為 導光層的 WGC 1:2 材料,以及做為批覆層的 sol-gel cladding 材料的 機械特性與光學特性。導光層是屬於感光型材料,其特點是具有高透 光率以及可曝光成像性,並可以不同比例的有機與無機材料混合以達 到調控折射率的目的。此外,使用時必須加入光起始劑幫助其感光特 性,利用 UV light 照光,使材料照光能量能達到 1800mJ 以上而組成 分子能有效地鍵結,以利進行顯影時能有效區分照光與未照光之區 域。批覆層是屬於熱固型材料,固性的材料則因摻雜長鍊狀的高分 子物質,因此在厚膜塗鋪上有不錯的效果。另外,我們也為了解 sol-gel 材料的光譜吸收特性而做了頻譜響應的量測。

第三章介紹兩種不同結構的波導其特性與設計理論。我們根據幾

適當的材料參數,去設計符合單模操作的波導元件。其中第一種波導 元件的導光原理是類似脊樑狀波導雷射(Ridge waveguide laser),只 需在 SiON(Silicon oxynitride)蝕刻出一淺凹槽,然後塗鋪上導光層,

再鋪蓋上頂批覆層即可完成。第二種波導元件則是利用各層材料適當 的折射率差去構成波導的導光條件。我們在折射率略低的 SiON 上蝕 刻出一個方形的凹槽,再將折射率較高的 sol-gel 玻璃植入凹槽內,

利用 sol-gel 玻璃可曝光成像特性,除去波導線路外不必要的 sol-gel 玻璃,最後鋪蓋上一層折射率較低 UV 膠當作批覆層。設計這兩種結 構的波導,主要運用於高密度線路元件的設計製作,以提高其設計寬 容度與良率。

第四章詳細說明兩種波導元件的製作流程,包括波導材料的製 備,SiO2以及 SiON 底材的成長,還有黃光微影及乾濕蝕刻的技術等。

而元件製作完成之後,經封裝後便可進行光學特性的量測。在第五章 中,我們以波長為 1310nm 的雷射光源去做波導的光學量測,包含光 傳輸損耗,耦合損耗以及極化相依損耗等。

最後第六章是本論文實驗的總結,將回顧實驗過程中包含材料的 測試選擇,製程的條件以及量測的結果,並歸納分析實驗出來的結論。

第二章 複合 sol-gel 有機無機玻璃材料之特性

在過去以往,光波導的材料,多半是以無機陶瓷材料為主。後來 由於高分子材料合成的技術日趨成熟,高分子波導材料逐漸被廣為研 發與應用。而本實驗所採用的複合 sol-gel 有機無機玻璃材料,則是 結合有機材料與無機材料的優點,將之應用在元件的製作上,期望能 發展出簡易製程且更低成本的光電元件。

2-1. 平面光波導材料之比較

在製作積體光學元件時,材料的選擇非常重要,尤其各層材料的 機械特性與光學特性,都會影響到元件整體的效能與表現。而且在降 低成本與發展量產的考量下,元件製程的重複性和對於環境的抵抗力 都必須嚴格要求。

在目前光通訊市場上,應用於平面光波導元件的材料大致上可歸 為三大類:

(1)無機材料(Inorganic materials)

(2)有機材料(Organic materials)

(3)有機無機混成材料(Hybrid materials)

在無機材料方面,比較常見的有石英玻璃(Silica)、鈮酸鋰

多應用於長距離的通訊,因此品質安定,低光學損耗的 Silica 為早期

元件上,更有利於加工,大面積製作、簡化製程以及降低成本等優點。

不過有機高分子光波導材料在發展過程中,仍有許多亟待克服的地 方,比如說薄膜塗鋪厚度再現性不理想,耐化性及耐熱性不容易掌控 以及與基材或金屬的介面相容性等問題。

有機與無機材料在平面光路的應用上各有其優缺點。近來有許多 人紛紛投入研究如何將有機與無機材料的優點相結合,而發展出另一 種有機無機混成材料(Organic-inorganic hybrid materials)。而這種材 料,非但具有無機陶瓷的熱穩定性和尺寸安定性,更具有高分子材料 的可塑性以及可調控之光學特性,非常適合應用於平面光路的發展。

本實驗所使用的 sol-gel 有機無機混成玻璃即是屬於這類的混成材料。

2-2. 有機無機混成玻璃材料之特性與應用

本實驗所使用的光波導材料是由工業研究院化工所所提供的有

機無機混合材料。此材料的製備方法是採用溶膠-凝膠法(Sol-gel process),即由金屬醇鹽的水解產生膠體(Colloidal)顆粒,然後在 與其內的大分子聚合成半固體狀的濕凝膠,最後會經由乾燥烘烤過程 使溶凝膠內的溶劑揮發完畢而固化成 sol-gel 玻璃[6,10]。

工研院化工所研發的 sol-gel 有機無機混合玻璃材料,發展至今,

已具有相當良好的穩定性和再現性。除了具有高透光率和可調控光折

射率之外,還有極佳的可曝光成像性,可類似 IC 製程中的光阻,將 光罩上的圖形轉移至試片[1,2]。本實驗即著重在 sol-gel 有機無機玻璃 可曝光成像的特性,利用此特性去取代高分子埋藏式光波導製程中,

耗時且高成本的乾蝕刻回蝕作法。

而 sol-gel 有機無機玻璃材料雖然在光學特性上有不錯的表現,

但在機械性質方面,則仍有需要改進的地方。其一,是 sol-gel 薄膜 在曝光成像時容易黏沾光罩,並無法像 IC 光阻一般經適當的預烤溫 度便可減少光阻黏附光罩的機會。其二,是 sol-gel 薄膜保留了無機 材料的碎性,以致於在製程中,會因溶劑的急速揮發或者是在切割研 磨試片時些微的應力而造成 sol-gel 薄膜裂痕而造成光傳輸的散射損 耗以致於降低傳輸效率。未來,這些缺點將是極力改善的方向。

除了應用在平面光路上,sol-gel 薄膜尚可應用在玻璃基板的抗反 射,耐磨材料的薄膜研發,以及金屬的抗鏽防蝕塗料上,或是可以做 為隔熱或電極性材料,非常具有開發價值。

2-3. 導光層之光學與材料特性

本實驗所用來當作導光層的材料是工研院化工所所調配的無機 有機混合波導材料 WGC 1:2。此材料屬於感光型材料,在使用時,

我們會在添加一些光起始劑來增加材料的感光能力。一般我們是將

WGC 1:2 以封口膜封住瓶口並儲存在 4℃的冰箱中以避免多餘的水氣 被吸附於材料中而形成會造成光傳輸損耗的氫氧(O-H)基。當取得 一批新的材料時,必須先測試此材料的光學與機械特性,才可真正應 用於波導元件的製程上。材料測試的流程如下:

(1) 首先準備六片 3 cm×3 cm 見方的矽基板試片,然後分別以丙酮

(Acetone)清洗 10 分鐘,異丙醇(IPA)清洗 10 分鐘,最後 再用 DI water 清洗 10 分鐘後將試片用水沖乾淨。隨後將試片吹 乾並放入烤箱烘烤。

(2) 接著將 WGC 1:2 從冰箱中取出退冰。待 WGC 1:2 回覆室溫 後,再與兩種粉狀的光起始劑依比例〈WGC: ITX : 907 = 5 : 0.05 : 0.2〉置於燒杯中混合,接著置於超音波震盪機裡 degas 約 7~10 分鐘,使得這兩種光起始劑與 WGC 1:2 能夠均勻地 混合且無氣泡殘留。混合完畢後,再以針筒經由 0.45µm 的濾

心做過濾雜質的動作。

(3)以旋轉塗鋪機分兩階段轉速旋鋪混合 sol-gel 材料,第一階段設 為慢轉速 500rpm,時間為 10 秒,目的是為了使材料能均勻塗

(3)以旋轉塗鋪機分兩階段轉速旋鋪混合 sol-gel 材料,第一階段設 為慢轉速 500rpm,時間為 10 秒,目的是為了使材料能均勻塗

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