第四章 研究結果
第三節 影響專利發明人研發創新成果的迴歸模型分析
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第三節 影響專利發明人研發創新成果的迴歸模型分析
本研究分別以專利平均被引用次數以及專利發明數作為專利發明人研發創新成果 的指標。表4-3-1 是探討影響發明人當年專利平均被引用次數機制的 Tobit 迴歸分析結 果，主要關懷的是發明人在專利合作網絡的程度中心性(地位訊號)對於專利平均被引用 次數的影響，分析對象為1998-2005 年的 IC 產業全部的專利發明人。模型一是以發明 人為分析單位的合作網絡程度中心性的變項，就是發明人地位訊號的變項；模型二是發 明人網絡程度中心性變項外，加入發明人經歷(公司)數以及公司產業結構位置上、中、
下游的公司層次的解釋變項。
模型三則在原有變項之外，加入程度中心性與上、中、下游公司的交互作用變項。
交互作用變項是上、中、下游各家公司的虛擬變項(dummy variable)乘以中心性分數。
之所以在模型三放程度中心性與上、中、下游各家公司的交互作用變項是因為有些變異 (variance)是在公司間(between firms)的，中心性在不同公司呈現不一致的作用，放了交 互作用，就可關注此問題。如果有顯著，表示有交互作用，即該公司與對照組的公司比，
中心性對依變項的影響有顯著差異。另外，專利發明的年份則是控制變項(以 2005 年為 對照組)，一般來說，越早的專利，被引用數越多。
公司變項的對照組是專利發明人數排名第四的華邦，它是屬於中游的記憶體製造 (DRAM)的代表廠商。中游的 IC 製造可分為晶圓代工業與記憶體製造業，台灣的 DRAM 大廠均各自與國外核心技術母廠連結，但關鍵技術仍控制在技術母廠手中，因此DRAM 廠華邦的技術特性是專利數多，但仍無法像晶圓代工廠可以獨立研發出高階先進技術
15。
15 同樣位於中游的晶圓代工製造業，在 2000 年以後已是成熟穩定的產業，漸與國際 IDM 大廠同步，製 程及流程管控技術甚至超越一流跨國公司，尤其是台積電，技術已獨立自主，可自行研發出更為先進的 技術。
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研究結果顯示，在地位訊號理論假設的檢定，發明人程度中心性分數越高，亦即地 位特性越高，其生產的專利影響力越大，符合明星的地位訊號理論假設的預期：在台灣 IC 產業專利發明人網絡中，網絡中心性分數較高的發明人，專利平均專利被引用次數 較多，或稱專利影響效果較大，即使在模型二發明經歷、公司層次變項的控制，以及模 型三再加入中心性與上、中、下游公司的交互作用變項控制之後，也是如此。顯示一個 發明人，大家都願意和他產生連結，合作的對象越多，越容易促進他與其他發明人的交 往，從而又提高了他的專利影響力，造成了馬太效應，大者恆大的結果。
是否發明人在不同公司的發明經歷越多，越能產出較好的創新發明？關於跨公司發 明經歷假設的檢定，在模型二發明人網絡程度中心性、公司層次變項的控制，以及模型 三再加入中心性與上、中、下游公司的交互作用變項控制之後，發明人的發明經歷(公 司)數仍然對於專利平均被引用次數具有顯著的正向影響，符合假設：在專利發明的當 年，發明經歷(公司)數較多的發明人，平均專利被引用次數較多，或稱專利影響效果較 大。這表示跨公司發明經歷越多的發明人，累積參與了越多公司技術團隊的經驗，由於 接觸到不同公司的發明網絡越廣泛多樣，能將觸及的不同公司點子融合在一起，所以越 會創新，產生影響力較高的專利發明。
表 4-3-1 模型二的上游公司(威盛、聯發科、力旺、瑞昱)、中游公司(台積電、旺宏、
世界先進、力晶)、下游公司(日月光、矽品、勝開、南茂)以及極少專利的其他公司，相 對於對照組華邦(中游的 DRAM 的代表廠商)，發明人專利平均被引用次數或稱專利影 響力，顯著較高；而中游公司(聯電、茂矽)與下游公司(華泰)則顯著較少。符合公司層 次技術利基的假設：在台灣IC 產業中，上中下游產業結構位置是影響專利創新影響力 的重要因素。顯示台灣IC 產業公司之間各自處於不同產業位置與發展週期，技術利基 和發明成果都有明顯差異。
模型三加入程度中心性與上、中、下游公司的交互作用變項，以檢驗中心性對依變
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項專利平均被引用次數的影響，是否在不同公司呈現不一致的作用。公司與中心性的交 互作用顯示，上游公司(力旺、鈺創)、中游公司(台積電、聯電、旺宏、茂矽)、下游公 司(日月光、勝開、華泰)，相較於對照組公司華邦，中心性對專利平均被引用次數的影 響有顯著的差異。進一步將這些公司分別作網絡中心性對專利平均被引用次數的單變項 迴歸分析(表 4-3-1.a)發現，力旺、鈺創、日月光、勝開等公司的發明人網絡中心性對專 利平均被引用次數沒有顯著影響。而台積電、聯電、旺宏、茂矽、華泰，中心性對專利 平均被引用次數有顯著影響，但重要性多比華邦小，換言之，這些多屬中游公司的發明 人專利表現雖符合中心地位假設，但相較之下，表現較為平均，比較沒那麼強的影響力 高的專利集中在特定發明人的明星現象。
表4-3-1.a 各公司發明人網絡中心性(自變項)對專利平均被引用次數(依變項)影響之 單變項迴歸模型(1998-2005 年)
公司 係數 標準誤 樣本數 R2 華邦 0.203** 0.091 839 0.0011 力旺 0.007 0.054 69 0.0001 鈺創 -0.577 0.497 63 0.0036 台積電 0.144*** 0.02 4627 0.0018 聯電 0.184*** 0.036 2053 0.0022 旺宏 0.365*** 0.068 868 0.0055 茂矽 0.150* 0.082 648 0.0009 日月光 -0.036 0.047 313 0.0003 勝開 0.122 0.125 67 0.003 華泰 0.045** 0.018 49 0.0674
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year1998 16.624*** 17.245*** 17.339***(0.379) (0.381) (0.381)
year1999 13.555*** 14.176*** 14.237***
(0.338) (0.340) (0.340)
(接下頁)
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(續上頁)
表4-3-1(續)影響發明人當年專利平均被引用次數之 Tobit 迴歸模型：中心性部分
模型一 模型二 模型三
year2000 11.016*** 11.771*** 11.815***
(0.310) (0.314) (0.315)
year2001 9.231*** 9.873*** 9.884***
(0.297) (0.300) (0.301)
year2002 7.717*** 8.042*** 8.032***
(0.293) (0.292) (0.293)
year2003 5.026*** 5.174*** 5.227***
(0.291) (0.287) (0.289)
year2004 2.395*** 2.252*** 2.328***
(0.287) (0.282) (0.282)
常數項 -4.564*** -6.115*** -6.792***
(0.223) (0.364) (0.437)
樣本數 12417 12417 12417
R2 0.0492 0.056 0.0571
註：1.括號內為標準誤；2.發明經歷(公司)數取自然對數。
3.公司、公司與中心性的交互作用的對照組皆是華邦；控制變項-年份的對照組是 2005 年。
* p< 0.1,** p< 0.05, *** p< 0.01。
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表 4-3-2 是另一探討影響發明人當年專利平均被引用次數機制的 Tobit 迴歸分析結 果，主要關懷的是發明人合作網絡的結構洞特性對於專利平均被引用次數的影響。在結 構洞的迴歸模型中，排除單獨發明專利，沒有跟別人合作的發明人。這種網絡中的孤立 者，因為沒有結構洞的性質，因此無法計算限制分數。在1998-2005 年的 12417 發明人 次中，單獨發明人有1293 人次(佔 10.4%)，扣除這些沒有結構洞性質的樣本，共得 11124 筆觀察值。模型一是以發明人為分析單位的合作網絡結構限制的變項，測量發明人結構 洞特性；模型二是發明人網絡結構限制變項外，加入發明人經歷(公司)數以及公司產業 結構位置上、中、下游的公司層次的解釋變項。模型三則是原有變項加入結構限制與上、
中、下游公司的交互作用變項，交互作用變項是上、中、下游各家公司的虛擬變項乘以 結構限制分數，以評估發明人網絡結構限制分數對於專利平均被引用次數的影響，是否 在不同公司有不一樣的影響力。
結構限制越低，結構洞特性才會越高，模型一，加入發明經歷、公司變項的模型二，
以及再加入結構限制與公司的相互作用項之後的模型三的檢定結果，均顯示結構限制與 發明人平均被引用數呈顯著負向關係，也就是說結構限制性越低(結構洞越強)，生產的 專利影響力越大，同樣符合結構洞理論假設的預期：在台灣IC 產業專利發明人網絡中，
居結構洞位置越強(結構限制低)的發明人，平均專利被引用次數較多或稱專利影響力較 大。
在跨公司發明經歷假設的檢定，模型二以及模型三的網絡限制性及公司變項控制之 下，都顯示發明人的發明經歷(公司)數對於專利平均被引用次數具有顯著的正向影響，
符合假設的預期，顯示發明人跨公司發明經歷越多，產生的專利發明影響力越高。
表 4-3-2 發明人網絡結構限制、跨公司發明經歷的控制之下，模型二的上游公司(威 盛、瑞昱)、中游公司(台積電、旺宏、世界先進、力晶)、下游公司(日月光、矽品、南 茂)以及極少專利的其他公司，相對於對照組華邦，發明人專利平均被引用次數或稱專
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利影響力，顯著較高；而中游公司(聯電、茂矽)與下游公司(華泰)則顯著較少。符合公 司層次技術利基的假設，也顯示公司位於不同產業技術利基位置，技術發展層次與發展 週期不同，專利影響力因此有顯著差異。
模型三加入結構限制分數與上、中、下游公司的交互作用變項，以檢驗結構洞對依 變項專利平均被引用次數的影響，是否在不同公司呈現不一致的作用。公司與結構限制 的交互作用顯示，上游的鈺創、中游的DRAM 公司力晶、下游的勝開、華泰等公司，
相較於對照組華邦，結構限制對專利平均被引用次數的影響有顯著的差異。進一步將這 些公司分別作結構限制對專利平均被引用次數的單變項迴歸分析(表 4-3-2.a)，結果發 現，鈺創、力晶、勝開、華泰等公司的發明人網絡結構限制對專利平均被引用次數沒有 顯著影響。相較於華邦這家公司的結構限制對專利被引用次數的顯著影響，顯然結構限 制對被引用次數的影響，會受公司類型的影響。這顯示了這些專利、發明人數較少的公 司，較無明顯的結構洞網絡策略，相較而言，中游大公司較有穩定的結構洞創新機制(見 附錄3、附錄 5)。
表4-3-2.a 各公司發明人網絡結構限制(自變項)對專利平均被引用次數(依變項)影響之 單變項迴歸模型(1998-2005 年)
公司 係數 標準誤 樣本數 R2 華邦 -3.192*** 1.226 593 0.0021 鈺創 6.681 4.615 59 0.006 力晶 3.889 8.65 84 0.0004 勝開 0.054 3.259 62 0 華泰 0.105 0.883 44 0.0674
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year1998 17.241*** 17.926*** 17.978***
(0.406) (0.407) (0.408)
year1999 13.575*** 14.259*** 14.248***
(0.359) (0.361) (0.362)
(接下頁)
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表4-3-2(續)影響發明人當年專利平均被引用次數之 Tobit 迴歸模型：結構洞部分 模型一 模型二 模型三
year2000 11.291*** 12.112*** 12.085***
(0.328) (0.331) (0.333)
year2001 9.211*** 9.903*** 9.897***
(0.315) (0.317) (0.319)
year2002 7.653*** 8.024*** 8.036***
(0.309) (0.308) (0.309)
year2003 4.949*** 5.136*** 5.187***
(0.306) (0.302) (0.304)
year2004 2.353*** 2.214*** 2.185***
(0.303) (0.298) (0.298)
常數項 0.186 -1.466*** -1.072
(0.314) (0.486) (1.304)
樣本數 11124 11124 11124
R2 0.0514 0.0583 0.0589
註：1.括號內為標準誤；2.發明經歷(公司)數取自然對數。
3.公司、公司與結構限制的交互作用的對照組皆是華邦；控制變項-年份的對照組是 2005 年。
* p< 0.1,** p< 0.05, *** p< 0.01。
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發明人發明的專利數越多，代表創新能力越強。故本研究除了專利平均被引用次數 之外，也另以專利發明數當作依變項，作為專利發明人研發創新成果的指標。表4-3-3
發明人發明的專利數越多，代表創新能力越強。故本研究除了專利平均被引用次數 之外，也另以專利發明數當作依變項，作為專利發明人研發創新成果的指標。表4-3-3