本章節將介紹 InGaZnO4靶材、薄膜以及元件的製作過程。因為，
實驗室也是今年才開始做有關這方面的研究，一切都是從無到有，所 以一個靶材的製作極為關鍵，所以本章將詳述靶材的製作過程，然後 描述利用此靶材來鍍膜及製備元件。
2-1 鍍膜前的準備
2-2-1 靶材的製作
1.先將 In2O3、Ga2O3、ZnO 三種藥粉依照所需的莫耳比率調配 好，本實驗用的比例是 1:1:1；且藥粉都需預烤，預烤的條 件為 800℃，6 小時。所以在初次調配粉末時，需比實際所 要的量再多一點，以防原本藥粉中的水氣被烤乾之後，所剩 下的粉末莫耳數不足。預燒完成之後，依序配出三種藥粉之 重量放入研缽中，小心研磨並攪拌均勻，約磨 30~40 分鐘即 可。
2.將磨好的混合粉末小心的放在氧化鋁板上，且注意在初次研磨 完畢要把粉末放在氧化鋁板上時，一定要盡量把硏缽上的粉
末刮取乾淨，避免因最先放的粉末特別會附著在研缽上；假 若沒有完全刮乾淨，則粉末間的莫耳數比例會改變；然後再 放入高溫爐中燒烤；燒烤條件為 1000℃，5 個小時。
3.將燒好的粉末取出並倒入研缽中研磨，約 30~40 分鐘之後，將 磨好的粉末小心的放置在氧化鋁板上，而此時也應盡量把研 缽上的粉末刮取乾淨。後再放入高溫爐中燒烤，燒烤條件為 1000℃，5 個小時。
4.將燒好的粉末從高溫爐取出後，放入研缽中繼續研磨，約磨 30~40 分鐘，後將磨好的粉末均勻的放入壓靶的模具中，將 模具放在壓靶機上，然後加壓使壓力在 120k /g cm2左右，加 壓時間約一分鐘，後洩壓並小心的取出壓好的靶材。很小心 的將靶材放在氧化鋁板上，放入高溫爐中，燒烤條件約為，
1350℃，18 小時。
5.最後，刮取已燒結好的靶材，取下一些粉末，然後把粉再用研 缽磨細；以 XRD 量測燒結所形成的相，確定我們做出的靶材 是正確的相和組成。
2-1-2 基板的清洗
鍍膜品質很好;而雷射蒸鍍系統所使用的脈衝雷射光源，為 KrF 準 分子雷射，雷射波長為 248nm 的紫外光，脈衝寬度為 12ns。由於 輸出波長屬於紫外光波段，無法以肉眼直接看出，所以我們必須 採用一肉眼可見的光源來作為校準用;我們使用的校準光系統為 Nd-YAG 雷射，產生一綠色可見光來作為校準用，使 KrF 準分子雷 射能確實打在基板上面。而雷射射出後，因為其能量不是均勻分 佈的，所以會先利用一個長方形的限光器，以擷取中央較均勻的 部分;之後再將光源經過一個反射鏡，將光源引向真空腔的方向。
雷射蒸鍍的原理為；當脈衝雷射射至靶材表面時，其能量會被 靶材吸收，且把雷射的能量轉成熱能；然後靶材表面會因為熱的關 係而被氣化，此時體積會瞬間膨脹，將表面的物質以電漿的形式噴 出靶材，這就是我們鍍膜時所看到的火焰。
在蒸鍍薄膜時，我們會以馬達轉動靶材，且要避免雷射光源通 過靶材的中心，如此可避免雷射打在靶材的同一點上，否則靶材使 用數次之後就會被打出凹痕來，到時又要進行靶材表面拋光的工作;
且鍍膜時要把靶材稍稍傾斜，讓靶材和入射的雷射光有一個小夾 角，如此可得一面積較大且均勻薄膜。
2-2-2 鍍膜步驟
把玻璃基板貼在鋼板上顏色最均勻的中間部分，如此一來可得
2.上光阻：將清洗好的基板放在光阻塗佈機(spinner)的旋轉軸 上，盡量置中，以避免光阻厚度不均，然後按下 VACUUM 鍵抽 真空，再均勻的滴上光阻液(AZ5214E)，開始旋轉轉軸，而旋 轉軸轉速條件為 1000rpm，旋轉 10 秒，再以 4000rpm，旋轉 40 秒，如此一來光阻可均勻的塗佈在玻璃基板上。
立刻夾起樣品，放入 DI water 中，目的為把附著在樣品上面
4. 曝光顯影：重複 2-3-2 的第 2 到第 6 步驟，且此時以光罩(二)，
10.曝光顯影：重複 2-3-3 的第 2 到第 6 步驟，且此時以光罩(四)， lift-off 的速度。後拿起做好的樣品，用 D.I.water 沖 洗，再用氮氣吹乾。
16. 最後，透明的 TFT 元件製作完成。
2-3-4 元件的外觀
最後，圖 2-4 為每片玻璃基板上 pattern 示意圖；圖 2-5 為元 件示意圖；圖 2-6 為製作出透明的 TFT 元件的實際情形。
圖 2-1 真空腔的構造圖
圖 2-2 Lift-off 流程圖
5.用丙酮把光阻去掉後的情形 3.顯影後成像
4.鍍上薄膜 2.透過光罩曝光
紫外線 1.塗佈正光阻
圖 2-3(a-1) 光罩一
圖 2-3(a-2) 光罩一的規格
圖 2-3(b-1) 光罩二
圖 2-3(b-2) 光罩二的規格
圖 2-3(c-1) 光罩三
圖 2-3(c-2) 光罩三的規格
圖 2-3(d-1) 光罩四
圖 2-3(d-2) 光罩四的規格
圖 2-3(e-1) 光罩五
圖 2-3(e-2) 光罩五的規格
圖 2-4 每片玻璃基板上 pattern 示意圖
圖 2-5 元件的示意圖 H.Hosono et al.
Nature 432，488 (2004)
圖 2-6 製作出透明的 TFT 元件的實際情形