在超疏水表面的製備上，已開發出許多處理方式來使表面粗糙 化，使其達到超疏水的效果。以下是較常見的製備方式：
1. Plasma treatment
在超疏水表面的製作上，許多研究團隊採用電漿(plasma)處理表 面的製程【63-67】。使用電漿處理表面有兩個目的，一個是用來蝕刻 表面，來增加表面的粗糙度，產生可造成超疏水效果的表面結構，通 常是使用氧氣電漿來進行【64,67】；另一方面，多通一道 CF4 電漿，
可以在材料表面沉積一層CFx奈米微粒【63,65-66】，由於碳氟鍵結 擁有良好的疏水性，因此，CFx奈米微粒通常是用來增進既有材料疏
水性上的不足，同時也省去原本需要額外再鍍覆一層疏水外膜的手續
【65】。目前利用電漿處理的研究，已知水滴接觸角皆可達到 150 度 以上，甚至可達到 170 度【63】。使用電漿處理的材料除了鐵氟龍及 PDMS 等疏水材料，B.Balu 等人將纖維素利用電漿處理，達到超疏水 效果，製成可生物分解的超疏水材料【66】。Yoshinori Matsumoto 團隊利用電漿聚合的方式製備plasma-polymerized fluorocarbon (PPFC)，也製備出接觸角可達 150 度以上的薄膜【68】。
2. Etching
利用蝕刻的方式製造粗糙表面是最廣泛利用的製程方式。蝕刻的 方法包括上述的電漿蝕刻，以及雷射蝕刻【69-71】與化學蝕刻【61-62, 73】。就雷射蝕刻的例子，M.Jin 團隊就利用雷射蝕刻 PDMS 的表面，
製造出含有微米、奈米及微奈米複合結構的表面，接觸角可達160 度 以上，滑移角可低致 5 度以下【69】。化學蝕刻方面，Baitai Qian and Ziqiu Shen 蝕刻多晶金屬如鋁、銅、鋅等，來製作超疏水表面【72】。
A.Pozzato 團隊則是利用微影製程，配合化學蝕刻製作出擁有溝狀結 構的二氧化矽平板，接觸角可達到將近170 度【73】。除了電漿侵蝕 較無法控制表面形態外，雷射侵蝕可以靠著調整光束之間間距來調整 侵蝕的行為【69,71】；而化學侵蝕可利用微影製程【61‐62,73】，在
3. printing
在超疏水材料的製程上，如何能控制表面形態是主要的問題，若 能製備規則有序的表面結構，不論是增進每一批成品的一致性，或是 利用理論設計結構，並進行實驗結果與理論的比較，相對上都比不規 則表面來的簡單方便。利用模具壓印除了可增進材料表面的規則性與 再現性，其簡單方便的操作也是其優點之一。在模具的採用上，要求 除了製備方便之外，如何能製作拆卸方便並可進行重複使用的模具也 是研究重心之一【4】。利用模具壓印製成的材料多半是使用在高分子 材料上，其原因是著眼於其良好的可塑性【4,60,74-79】。模具的製作 可使用微影製程，製作出擁有連續柱狀陣列結構的矽晶圓機板，用來 壓印PDMS【60,75】。但微影製程有其尺寸上的限制，無法在精準至 奈米尺寸，也因此限制了其應用的層面。在製作規則奈米結構的超疏 水表面上，許多研究採用了陽極氧化鋁孔洞材料作為模具
【4,74,77-79】，藉由調控各樣參數控制孔洞尺寸與深度。M.Kim 團隊
【4】利用 AAO 壓印 PPT，並利用紫外光使 PPT 進行光聚合而形成 擁有奈米結構的超疏水表面，接觸角可達到 150 度，而且有良好的透 光性。而AAO 表面也鍍覆上一層 PDMS，增加其拆卸的容易性並可 重複使用。而另有研究團隊則利用AAO 壓印製作出擁有微米奈米複 合結構的高分子材料，大幅度地提升材料的疏水性【78-79】。
4. Others
超疏水表面製程方式上許多不同的製程，包括溶膠凝膠法
【80-82】、電化學【83-84】、放電紡絲(electrospinning) 【85-86】、化 學沉積(CVD) 【87-89】、添加昇華物質【5-6】等等方式，都可順利 製成接觸角達到150°以上之超疏水表面。
超疏水材料選用方面，除了原本就擁有良好疏水性的材料如鐵氟 龍、PDMS 等之外，若是本來疏水性不佳的表面，另外還會鍍覆上一 層含氟矽氧烷來增進疏水性【2】，或是採用其他含有碳氟鍵結的物 質，利用混和或是聚合的方式來提升表面的疏水性。