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1.1 研究背景與動機

積體電路(Integrated Circuit,IC)是高科技產業中熱門的行業,評估 IC 廠 商是否具有競爭力的關鍵因素即是晶圓之良率(yield)。晶圓的製程需經過薄膜 沉積、曝光、顯影、蝕刻等多個循環步驟,隨著製程的進行,空氣中的微粒

(particles)會附著在晶圓表面形成缺陷點(defects),這些會引起晶片功能損壞 之缺陷點,稱致命性缺陷(killer defect),所謂晶圓之良率是指一片晶圓上正常 晶片佔總晶片數之比例,因此 IC 廠商都亟欲改進晶圓品質以提昇其產品之良率。

統計製程管制(Statistical Process Control,SPC)中之缺陷點數管制圖(c-chart)

是 IC 廠商監控晶圓缺陷點的一個有效的方法。由於晶圓製造的過程複雜,且晶 圓製程已由八吋發展到現在的十二吋製程,隨著晶圓面積的增大,晶圓表面的缺 陷點開始出現群聚(clustering)的現象,此群聚現象會導致缺陷點數的多寡與良率 高低之間發生不一致的情形,影響了 c-chart 之準確性,因此利用 c-chart 來管制 晶圓製程缺陷點數的同時,也必須要考慮到缺陷點的群聚現象,才能有效的控制 晶圓的品質。

Jun et al.[8]提出一計算簡單的缺陷群聚指標(Cluster Index,CI),此群聚指 標能有效的表現缺陷點群聚嚴重之程度,且對缺陷點並不需要任何統計假設,但 其缺點是不同分佈之缺陷點,有可能在兩軸的投影位置相同,因此會有相同之 CI 值;針對 CI 指標的缺失,蔡文傑[3]利用每個缺陷點與 X 軸之正值夾角間距 的變異係數平方,提出新的缺陷群聚指標(CIT),經模擬驗證發現,CIT 確實是 目前展現缺陷群聚現象效果最佳的群聚指標。

Hotelling[10]針對多品質特性之統計管制方法提出 Hotelling T2多變量管制圖

(multivariate quality control chart)。多變量管制圖可以同時管制兩種以上的品質 特性,其做法是將數個變數利用線性組合整合成一個新變數,此管制圖不僅方便 現場人員監控製程,其管制效率亦較一般之單變量管制圖為佳,且可減少線上品

管工程師之時間與管制工作量。

此外,c-chart主要是針對單一個變異來源所設計的品質監控方法,但是在複 雜的晶圓製造過程中,品質變異的來源有許多種,例如:在管制缺陷點時,除 了需考量同一片晶圓上缺陷群聚現象的嚴重程度外,缺陷點之變異來源尚有兩 個:同一生產批量內晶圓與晶圓間(wafer-to-wafer)存在的變異,及不同生產批 量間(lot-to-lot)的變異。由於c-chart無法同時考慮到多種變異來源,而影響其 管制效果,因此若要有效監控晶圓表面之缺陷點,需有一套兩階段管制流程來 監控製程上兩種不同的變異。

由於晶圓的檢驗工作繁複且耗時,加上市場競爭越來越激烈,IC廠商必須 設法降低監控晶圓之成本,因此管制圖漸漸走向動態的趨勢,Costa[5,6,7,11]根 據變動抽樣數和抽樣間隔的概念,發展出適應性管制圖(adaptive control chart),

適應性管制圖以前一個樣本值為基準,當樣本值接近失控時,採用嚴格的抽樣 方法(較大的樣本數和較小的抽樣間隔),如此可在製程發生失控時能更快速的 偵測出來;而當樣本值接近目標值時(即製程呈現穩定狀態時),採用寬鬆的抽 樣方法(較小樣本數和較大抽樣間隔),如此可節省抽樣成本。

1.2 研究目的

綜上所述,本論文的主要目的有以下兩項:

1. 針對晶圓製造過程中所產生的缺陷點和缺陷群聚現象,以缺陷群聚指標CIT 值代表缺陷發生群聚的嚴重程度,將缺陷點和CIT值視為兩個品質特性,利 用Hotelling T2統計量將此兩品質特性轉換成一個T2變數,以便同時監控缺陷 點與缺陷群聚之製程及節省監控時間與成本。

2. 利用逐步管制流程之觀念結合適應性管制圖,最後建構一套完整的適應性 晶圓缺陷點與缺陷群聚現象之管制流程,此流程兼具同時監控兩種變異來 源與適應性管制圖之優點。當樣本值發生失控時,利用MYT法[9]可分解 Hotelling T2統計量,找出失控的品質特性,線上人員可依此調整機台。IC 廠商利用本論文所提之方法,能有效地提昇管制晶圓品質之效果及降低檢

驗成本。

1.3 研究假設

本論文有以下三點假設:

1. 晶圓上每個缺陷點對良率皆會有影響,缺陷點越多,表示製程異常狀況越嚴 重,即良率越低。

2. 晶圓上的缺陷點不論大小、形狀和型態皆視為一點,本論文僅針對缺陷點數 進行分析。

3. 由於必須監控同一批量內晶圓間之變異,故一個批量最少需抽檢兩片晶圓。

1.4 研究架構

本論文共分成五章,第一章為緒論,說明本論文之背景、動機、目的及假 設;第二章為文獻探討,介紹衡量缺陷群聚嚴重程度的群聚指標、Hotelling T2 管制圖、逐步管制流程以及適應性管制圖之相關文獻;第三章說明本論文如何 使用Hotelling T2管制統計量結合缺陷點數與缺陷群聚指標CIT值,以建構一套逐 步的適應性管制流程;第四章為模擬驗證,由於本論文所提出之抽樣方法在實 務界具創新性,因此以模擬之資料說明本論文之有效性及可行性;第五章則為 結論,並提出後續研究方向。本論文之研究架構流程以圖1.1表之。

圖1.1 本論文之架構與流程圖 緒論

文獻探討

研究方法

模擬驗證

結論

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