• 沒有找到結果。

在 Huang[20]當中,由於其把電子溫度變化與反射率變化當作線性關 係,故把 Brorson 等人[19]實驗中得到的反射率變化值帶入並求解 之,而在本文當中,我們重新代換線性關係,用更明確的關係式來得 困難時,我們將用 Levenberg-Marquardt 法來修正高斯法。

3.2 逆運算程式求解流程

在進行逆運算之前,我們先給定一個假設 K 和 G 值,經由直接

解 PTS 模型估測薄膜正表面與表面電子溫度的最高溫值,再利用我 們先由前章節得到的電子溫度與反射率關係式,得到一個新的明確實 驗所得到的電子溫度分佈情形,代入式(3.4)並進行逆運算,得到一 個新的 K 與 G 值,再度進行先前的步驟,直到收斂為止,流程圖如 下。

初始預測K,G值

直接解得最高溫的電子溫度

利用反射率與電子溫度關係 重新得到正規化的電子溫度

分佈實驗值

帶入逆運算得到K,G值

(重覆直到收斂為止)

第四章 結果與討論

秒(9.6x10-14sec.);並根據 Ashcroft[13],估算電子的弛豫時間如下:

14

金的電子弛豫時間(sec) 12E-14 3E-14 2.1E-14

由此可知,隨著雷射脈衝加熱所造成的金薄膜電子溫度上升的影

並由第二章所建立的物理模式與數學模式,本文主要利用推導出 的新的光學反射率與電子溫度的關係式,重新代入以 PTS 模型為主 的逆運算程式,來進ㄧ步分析其熱傳導係數與連結因子。

4.1 光學反射率的變化與電子溫度及其他影響因子之關係分析

在進行逆運算分析之前,我們先對光學反射率與電子溫度關係及 其他的影響因子來做討論,在附圖中,我們定義的光學反射率變化表 示如下:

300

)

300

( R

R T R R

R

e

∆ =

(4.1) 上式當中,R300 為室溫下的反射率,R(Te)為在當時電子溫度下 所代表的反射率。

首先,我們先以文獻 19 為例子,我們探討關於基底為藍寶石的 時候與考慮薄膜兩側皆為空氣,兩者對於光學反射率與電子溫度的關 係是否有影響,由於藍寶石吸收性我們不計,我們可以知道若是量測 光學反射率的探針光束為垂直入射,則是否有基底藍寶石(630nm 下 折射率為 1.77)並不造成影響,但當考慮有一入射角的時候(我們以 45 度為例),我們可以估算得到,若從介質

n

3入射所得到的反射率和 只考慮一薄膜的結果為相同,以 1000

A

0 為例,反射率皆為 0.92517;

而從介質

n

0入射所得到的反射率卻有所不同,反射率較大一些為 0.92549。但是我們從圖三得知,若觀察光學反射率與電子溫度關係 的時候,結果是完全相同的,也就是說若我們想去藉由觀察光學反射 率變化去得知暫態電子溫度的變化時,若基底沒有吸收性,重要性幾 乎不用在乎,不用去考慮其存在與否,且即使我們改變其他不同大小 的折射率(如在 630nm 下紅寶石折射率為 1.71)之後我們從圖中依舊

得到相同不變的反射率與電子溫度關係圖,故接下來我們不去考慮基 底藍寶石的效應影響。

接著,因為由於直接測量電子溫度的變化有其困難性,再加上一 般認為電子溫度變化直接正比於光學反射率的變化。於是對於快速雷 射脈衝加熱金屬薄膜的實驗,一般是以量測光學反射率的變化值來取 代電子溫度的變化値,一般是以如下型式表示:

( )

max

( )

e max e

T T R

R

≈ ∆

(4.2)

通常式(4.2)此關係式被認為電子溫度在室溫至 700K 之間成 立,我們利用新推導出的關係示所得到的結果來看此一關係是否適 用。由圖四與圖五中,與線性關係做比較,我們可知在金薄膜厚度不 管是在 500

A

0 、1000

A

0 ,甚至在 2000

A

0 之下,式(4.2)皆不適用,故不 可以把正規化的光學反射率變化值直接來當作正規化電子溫度的變 化値;倘若我們若是使用式(4.2)直接去推算電子溫度,則會低估其 電子溫度的正確値。

再者,我們發現在附圖當中,當考慮為電子溫度與反射率之間的 關係時,當電子溫度升高時,正規化的光學反射率變化皆為負值,這 現象是由於當入射電磁波若是低於其能帶間過渡能量(對金來說 2.45eV)時,因電子溫度的增加,費米能階的電子佔據狀態會有所變 動,位在費米層之下的電子數量會減少,導致入射的電磁波能量被吸 收的能量變多,也因此吸收率變大,進而的光學反射率會降低,故我 們得到的光學反射率變化結果為負值;相對的,位在費米層上的電子 數目會增多,入射的電磁波能量吸收減少,吸收率的減少進而影響到 光學反射率的增加,而在我們探討的情況當中,入射輻射的能量約為 1.969eV,低於金的能帶間過渡能量 2.45eV,故附圖當中所得到的光 學反射率變化為負値。

由我們推導出的光學反射率與電子溫度的關係式,當其不考慮電 磁波入射的角度與薄膜厚度所造成的介面多重反射影響,可演化成 Hohlfeld 等人[12]所推導出的模型,所以我們將以 Hohlfeld 等人所推 導出的模型和之前重新推導出所得到的關係式作比較。

圖六為考慮不同入射光子波長下,對反射率與薄膜厚度關係之影 響關係圖,我們可以知道當入射光子波長若是越長時,也就是能量越 低時,反射率要達到不再受其薄膜厚度影響的厚度將會愈厚;圖七為 考慮不同 n 和 k 值對光學反射率與薄膜厚度關係比較圖,觀察可以得 知複數折射率的實數部分與虛數部分皆會影響到反射率的大小,實數 部分愈大或虛數部分愈小皆會使得反射率降低,而虛數部分卻除了影 響其反射率高低以外,對需不需要考慮受薄膜厚度的影響也造成影 響,即當虛數部分愈大的時候,也就是吸引係數愈大時,其需要考慮 到薄膜界面的多重反射效應的厚度愈薄,圖八為關於不同金屬之反射 率與薄膜厚度比較關係圖,依表三數值所得,而其反射率結果與圖七 預測的相同。

圖九為考慮不同厚度,電磁波垂直入射(

φ

0

= 0

)時的光學反射率 變化與電子溫度之間的關係圖,我們可以觀察得知在金薄膜厚度大於 2000

A

0 以上之後,其結果曲線與 Hohlfeld 等人[12]所推導出的模型完 全重合,我們並不用再考慮多重反射的效應,原因我們可以歸咎於能 量在多次反射後,被金薄膜吸收到能量小到可以忽略不計,也就是說 不必再考慮到薄膜厚度尺寸對反射率與電子溫度之間關係的影響,在 此圖當中我們也可以得知在金薄膜愈薄的時候光學反射率變化對電 子溫度的變化愈敏感,有較大的變化,所以我們也可以得知在相同的 光學反射率變化範圍中,薄膜愈薄的情況下所得到的電子溫度將會比 薄膜較厚的結果來的要小。

而圖十中,由於不管金薄膜厚度為多少,趨勢皆相同,所以在此 我們以金薄膜厚度為 1000

A

0 為例,我們可由圖中得知,當入射的電磁 波入射角度越大的時候,光學反射率變化對電子溫度的改變會越敏 感,故式(4.2)中的線性比例關係也會因探針光束入射角度的不同而 有不同的差異大小,所以之前 Hohlfeld 等人[12]所推導出的光學反射 率與電子溫度關係式沒有考慮到入射角度也是有待商確的,所以我們 一併的考慮進去並應用於逆算分析是更加完善的。圖十一中,我們觀 察光學反射率和入射電磁波的入射角度、金薄膜厚度之間的關係,此 圖中,我們是取用金在 273K 下的數據(n=0.21;k=3.24)[25]所得到 的關係圖,我們觀察到,隨著電磁波入射的角度改變,其光學反射率 的變化在 45 度之前沒什麼變動,67 度為最低值,隨後急速升高直到 90 度,反射率為 1,且在 2000

A

0 左右與平常我們不考慮薄膜厚度但有 考慮入射角度的關係式完全重合相同,而此趨勢也與 Palik Edward 等 人[26]所呈現的結果相符合,但反射率的數值變動則不大。也可以更 進ㄧ步得知在考慮ㄧ薄膜時,其兩側外界介質皆為空氣時,反射與吸 收、穿透之間互相作用之下,反射率隨著厚度增大而增大,這一個趨 勢也和 Heavens 等人[22]所呈現的結果相符合,且約在 1500

A

0 以上反 射率即不再受其薄膜厚度的影響,但若要連帶的將電子溫度的影響考 慮進去的話,則大約在金薄膜厚度 2000

A

0 以上才可以不再考慮薄膜厚 度的影響。

4.2 光學反射率與電子溫度變化關係對熱傳導係數與電子-聲子 連結因子的影響

在圖十二、圖十三中,是在金薄膜厚度為 500

A

0

K = K

eq

T

e

/ T

l

型情況下,我們重新利用新得到的光學反射率與電子溫度關係式替換 之前把正規化的光學反射率變化當做正規化的電子溫度變化後所得 到新的數據,重新帶入逆運算程式所得到 Keq 與 G 值,之後再帶回 直接解程式當中得到該情況下的正規化電子溫度變化情形,然後再與 之前 Huang [20]所得到的正規化的電子溫度變化結果圖與 Brorson 等人[19]的實驗數據所做的比較圖。同理,圖十四與圖十五、圖十六 與圖十七分別為金薄膜厚度為 1000

A

0 ,2000

A

0

K = K

eq

T

e

/ T

l模型情 況下,與 Huang 所得到的正規化的電子溫度變化結果圖與 Brorson 等 人實驗數據做的比較圖。相對的;圖十八與圖十九、圖廿與圖廿一、

圖廿二與圖廿三分別為金薄膜厚度為 500

A

0 ,1000

A

0 ,及 2000

A

0 的正 表面與背表面、電子熱傳導率模型為

K = K

eq

T

e

/[( A / B ) T

e2

+ T

l

]

的情況之 下,再與 Huang[20]所得到的正規化的電子溫度變化結果圖與 Brorson 等人[19]實驗數據所做的比較圖。反觀 Brorson 等人在金薄膜厚度為 1000

A

0,2000

A

0 的正表面情況,在θ=0.2 以下的實驗數據會有些為振 盪的情況,我們歸咎於其原因為實驗所造成的誤差。

在逆運算的過程當中,對於薄膜的背表面,在薄膜厚度 2000

A

0 的 情況下,若將實驗數據全取所逆運算得到的熱傳導係數與只取背表面 上升部分的實驗數據來逆運算的熱傳導係數相比較,Keq 會大上接近

在逆運算的過程當中,對於薄膜的背表面,在薄膜厚度 2000

A

0 的 情況下,若將實驗數據全取所逆運算得到的熱傳導係數與只取背表面 上升部分的實驗數據來逆運算的熱傳導係數相比較,Keq 會大上接近

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