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二、 文獻回顧與理論背景研究

2.1 微塵移除與吸附之機制

2.1.3 靜電力

材料表面通常為靜電電荷所充滿,這些電荷可能是離子或是游離的官 能基,在水中有相當大的帶電電荷可以被利用,就是中性的去離子水,其 中也包含了10P-7POHP-P和10P-7PHP+P mole/L。一個微小的粒子被分離或是懸浮在 液體系統中稱之為膠體。膠體通常是一個物體帶電物體浸入液體環境中而 獲得。大多數的帶電離子會被液體中的離子作選擇性的吸附中和,而膠體 在液體中卻會被充電,在液體溶液與膠體中間形成與膠體相反的帶電層。

微塵粒子的表面附著機制可由典型的膠體理論(Colloidal theory)[13]來解 釋。帶電之膠體與溶液的正、負電荷在界面處作交換,離子效應在溶液中 支配著正電荷、負電荷的交換。膠體帶電粒子可以透過量測zeta potential 而得知,而量測zeta potential即量測膠體shear plane到溶液的之間的位能。

當兩個體的zeta potential 呈正負相反狀態,則會產生相吸作用。由於 金屬氧化層的zeta potential 在強酸下一般呈正值,在強鹼下呈負值Itano

et al. [14]以此理論解釋為何微塵粒子易在酸性環境下及高離子強度的溶液

中易與晶圓表面產生聚作用。所以,晶圓表面及微塵粒子的zeta potential 應以同極電荷存在,使兩者間產生相斥作用,以便移除微塵粒子,在鹼性 溶液中,晶圓表面氧化層和多數微塵粒子皆以負值的zeta potential存在。

圖 2-3 為表示一個微塵粒子在溶液中的位能,假設一個微塵粒子表面 淨電荷為負,且負電荷均勻的分佈在微塵表面,在液體中的正電離子會被 附在膠體上,在膠體的表面電位能是最高的,隨著遠離微塵粒子電位遞減,

在溶液中正電荷與負電荷達成平衡,整個溶液呈電中性。離子的運動分兩 個區域:

(a) 離子吸附區(layer of adsorbed ions)---從帶電膠體吸附溶 液中電荷相反之離子。

(b) 離子擴散區(Extent of Diffuse layers of count ions)---微塵 粒子為平衡電中性,正、負離子擴散、吸附、包圍微塵粒子 使之產生電中性。

而 shear plane 為此二區域的邊界條件,這個邊界條件的電位稱之為

zeta potential。

surrounding the particle diffuse layer of

counter ions Concentration

of positive ions

Concentration of negative ions

Net ) surrounding the particle diffuse layer of

counter ions Concentration

of positive ions

Concentration of negative ions

Net ) 離子強度(ionic strength)低時,需要大量的溶液體積方可保持電荷平衡

(charge balance),因此微塵粒子與微塵粒子間的距離足以利用相斥力

(repulsion force)保持分離狀態。反之,當溶液的離子強度高時,則保持

Particle with ionic double layer

Wafer surface with ionic double layer In APM solution

-

Particle with ionic double layer

Wafer surface with ionic double layer In APM solution

圖 2-4 微塵粒子與晶圓表面形成之雙離子層模式 [15]

在靜電力相排斥時,清洗溶液應使微塵粒子或晶圓表面呈微侵蝕現象 如圖2-5,有助於粒子從表面「掘除」(lift-off)。

靜電力 凡得瓦力

substrate

Substrate cons umption 靜電力 凡得瓦力

substrate

Substrate cons umption

圖 2-5 晶圓表面呈微蝕刻而使微塵粒子去除 [05]

但實際上微塵粒子附著在晶圓上的時候,微塵粒子與晶圓的離子擴散 層是相互交疊的如圖 2-6 所示,因此微塵粒子與晶圓的接觸面的面和非與 晶圓的接觸面,所受的壓力不盡相同。因此可以寫成下列式子 [12]:

Fe= Cd - C kT (3) FBeB:微塵粒子所受之靜電壓力。

k:波茲曼常數。

T:絶對溫度。

C:濃度。

particle

Si substrate

靜電濃度 C

靜電濃度 CBd

圖2-6 微塵與晶圓的接觸面和非與晶圓的接觸面所受之壓力不同 [12]

因 此 , 潔 淨 法 如 APM ( UAUmmonia (NH4OH ) and hydrogen

UPUeroxide(H2O2) UMUixtures)可使溶液鹼性化並產生微蝕刻效果,又提供大 量離子可以使微塵被晶圓靜電排斥進而移除,所以APM是一個良好的去除 微塵粒子溶液。

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