高科技產業

台灣現有三座科學工業園區，由北往南依序為新竹、中部及南部科 學工業園區。園區內以高科技產業為主，其所產生之廢水特性會因製程 的不同而有所差異。其中又可分為積體電路、電腦及週邊、通訊、光電、

精密機械及生物科技六大項產業，各產業所產生之廢水特性如表 2.1 所 示。

2.1.1 高科技業廢水特性

高科技業因其製程之步驟繁複，所產生之廢水也極為複雜。園區內 所產生之廢水又以半導體及光電產業為最大宗，若依照廢水特性分類，

大致上可分為酸鹼廢水、研磨廢水及含氟廢水三大類，處理時頇分流收 集，其廢水所含物質如下：

1. 酸鹼廢水：含有 H2SO4、H₂O2、HCl、HN₄F、HF、NH4OH、HAC、

HNO3 及 H₃PO4 等成分，污染物質為 pH、COD、SS 及 微量 F^-。 2. 研磨廢水：金屬層研磨廢液、介電層（氧化層）研磨廢液、研磨後清

洗廢液，污染物質為 pH、COD。

3. 含氟廢液：高濃度 HF，污染物質為 pH、COD 及 F^-。

園區內污染源分為事業污染源及一般污染源，一般污染源為家庭與 研究及服務機構所產生之廢污水。事業污染源為進駐園區之產業所排放 之廢污水。依「科學工業園區污水處理及污水下水道使用管理辦法」規 定，園區事業單位所生產之廢污水在排出廢水至園區下水道系統前，廠 商應行前處理管制，至水質符合園區下水道之納管標準，得排入園區污 水下水道，再進至園區污水處理廠處理。其管制之水質標準如表 2.2 所 示。

表 2.1 高科技業六大產業及所產生之廢水

表 2.2 新竹科學工業園區下水道可容納排入之水質標準

項目 最大容許限值 項目 最大容許限值

水溫 35 ºC 鋅 5.0 mg/L

氫離子濃度 5-10 總鉻 2.0 mg/L

生化需氧量 300 mg/L 溶解性錳 10.0 mg/L

化學需氧量 500 mg/L 氰化物 1.0 mg/L

懸浮固體 300 mg/L 氟化物 15.0 mg/L

陰離子界面活性劑 10.0 mg/L 硫化物 1.0 mg/L

油脂（正己烷抽出物） 25.0 mg/L 硼 1.0 mg/L

酚類 1.0 mg/L 甲醛 3.0 mg/L

銀 0.5 mg/L 硝酸鹽氮 50 mg/L

砷 0.5 mg/L 總有機磷劑 0.5 mg/L

鎘 0.03 mg/L 總氨基甲酸鹽 0.5 mg/L

六價鉻 0.5 mg/L 有機汞 不得檢出

銅 3.0 mg/L 多氯聯苯 不得檢出

溶解性鐵 10.0 mg/L 有毒物質 不得檢出

總汞 0.005 mg/L 易燃或爆炸性物質 不得檢出

鎳 1.0 mg/L 放射性物質 完全禁止

鉛 1.0 mg/L 動物羽毛 大於 1 毫米孔徑所

篩出之動物羽毛，

不得超出 85 mg/L

硒 0.5 mg/L

2.1.2 科學園區污水處理廠簡介

科學園區內之污水處理廠目前以生物處理 (活性污泥或接觸曝氣) 搭 配化學處理之二級程序，且為提昇放流水品質，處理水於放流前皆需經 過濾單元處理，確保懸浮固體能有效被去除。圖 2.1 為科學園區污水處 理廠流程示意圖。

圖 2.1 科學園區污水處理廠流程示意圖 (歐陽嶠暉等，2008)

2.1.3 科學園區污水處理廠之成效

台灣三座科學園區雖皆以高科技業為主要之產業項目，但其開發規 模仍有所差異，細分其產業也不盡相同。表 2.3 為科學園區污水處理廠 設計規模與操作成效彙整表。其 SS、COD 與 BOD₅ 之處理皆可達到目 前的放流水標準，COD 之出流水濃度可降至 37 mg/L 以下，BOD₅ 也可 降至 10 mg/L 以下。然而隨著環保意識的高漲，未來環保署將提高放流 水標準，而目前尚未管制的氨氮也將納入管制項目。另外從表中看出園 區內近流水的有機碳濃度偏低，其 BOD₅ 除了南科台南園區超過 100 mg/L 以外，其餘皆在 61 mg/L 以下。

表 2.3 科學園區污水處理廠設計規模與操作成效彙整表 (歐陽嶠暉等，2008)