3-1-1 清洗玻璃
1. 本實驗我們使用ITO玻璃。將所要使用的玻璃切割為 25×30 mm2。
2. 將玻璃放入燒杯內，加入中性玻璃清潔劑，再加水蓋過玻璃，
將燒杯放入超音波機器中用超音波清洗 10 分鐘。
3. 用去離子水(DI water)將玻璃沖洗乾淨，並用氮氣吹乾後放置 到另一個乾燥的燒杯。
4. 加入丙酮(Acetone)到燒杯內，將燒杯放入超音波機器中用超 音波震盪清洗 10 分鐘，將丙酮回收以免污染。
5. 將丙酮清潔完的玻璃放置於另一個乾燥的燒杯，加入甲醇 (Methanol)到燒杯內，將燒杯放入超音波機器中用超音波震 盪清洗 10 分鐘，將甲醇回收以免污染。
6. 甲醇清潔完的玻璃放置於另一個乾燥的燒杯，加入去離子水 到燒杯內，將燒杯放入超音波機器中用超音波震盪清洗 10 分鐘。
7. 將玻璃再以去離子水沖洗，並使用氮氣吹乾，放入烤箱中烤 乾，冷卻備用。
3-1-2 玻璃基板熱蒸鍍鋁膜
1. 將清潔乾淨的玻璃基板以真空膠帶貼在包覆鋁箔紙的晶片 (wafer)上，ITO 面貼在晶片上，無 ITO 面朝上。
2. 我們使用高純度的鋁錠(99.99%)，利用交大奈米中心的熱阻 絲蒸鍍機(Thermal coater)在玻璃基板上蒸鍍鋁薄膜。
3-1-3 鋁膜玻璃基板陽極氧化處理
1. 將鍍上鋁的玻璃基板當作陽極，並使用鉑當作陰極，進行陽 極處理，裝置如圖 3-1-1。
2. 陽極處理製程使用 15°C草酸(H2C2O4)濃度 3wt%當作電解液，
並以磁石以 300rpm轉速作均勻攪拌，使用KEITHLEY 2400 電 源電錶(Source meter)。
3. 陽極氧化處理有兩種製程方式：一次陽極處理及二次陽極處 理。
一次陽極處理：給一固定外加電壓並同時紀錄電流-時間曲 線，直至電流趨近於零，表示鋁薄膜均電解 成不導電之氧化鋁薄膜，反應流程如圖 3-1-2。
二次陽極處理：將陽極處理的時間分為兩段，第一段時間為一 次陽極處理時間的一半，也就是將鋁膜半層 電解成氧化鋁，再用置入 60°C 鉻酸 1.5wt%
與磷酸 6wt%混合液 40 分鐘，完整移除第一 次陽極處理產生的氧化鋁，再將剩下的鋁膜 全部電解成氧化鋁即完成，反應流程如圖 3-1-3。
4. 最後再放進 D.I water 用石英震盪器震 10 分鐘，將基板上的 草酸洗淨。
3-1-4 陽極氧化鋁膜基板磨刷處理
1. 將處理好的陽極氧化鋁膜基板放置磨刷機台上，按下＂主軸 旋轉＂，主軸選轉設定為 850，刻度 8。
2. 底座前進設定 100 後，按下＂自動前進＂開始磨刷，並進行 兩次磨刷處理。
3.將基板切割成 25×15 mm2 ，準備做黃光製程。
3-1-5 光罩製作
利用 AutoCAD 程式，將要製作的圖形設計好，光罩選擇正 片，且膜面向上，再依最小線寬選做該等級之光罩，最後附上檔 案寄給台灣港建股份有限公司製作。
3-1-6 黃光製程
1. 烤乾基板上多餘的水氣，鍍上 HMDS，時間為 35 分鐘。
2. 鍍上正光阻 AZ4620，第一步轉速 1000rpm、10 秒，第二步轉 速 5000rpm、30 秒。
3. 軟烤：溫度 90°，時間 4 分 30 秒。
4. 將基板放置光罩對準曝光機，加入濾鏡，曝光時間設定 2.4 分 鐘。
5. 在將已曝好光的基板浸入顯影液 AZ300，顯影時間 2 分 30 秒。
6. 使用光學顯微鏡確定圖形已經呈現在基板上。
7. 硬烤：溫度 120°，時間 20 秒。
3-1-7 蝕刻溝槽
將已經完成黃光製程的陽極氧化鋁基板，浸入 60°C 鉻酸
1.5wt%與磷酸 6wt%混合液中 3 分鐘，再放入石英震盪器，依序 用 丙酮ÎD.I waterÎ丙酮Î甲醇ÎD.I water，每個步驟 10 分 鐘，最後再用氮氣吹乾，送入烤箱中烤乾。
3-1-8 組合樣品及灌液晶
將蝕刻完的陽極氧化鋁基板對切成兩片 12.5×10 mm2 ，再放 入一間隙物Mylar(spacer) 23µm於兩片基板中，反平行對夾形成 一個空樣品，最後灌入液晶(E7,Tc=60.5°C)，如圖 3-1-4。