我們將寬度 50μm 長度 3mm 的雷射元件請工研院做進一步的封 裝,以便接下來高電流和低溫的量測。封裝的方法如圖 4-21 所示,
4-3-1 高電流量測
在先前的頻譜量測中,我們知道QDL和QDM的基態發光波長相差約 40nm,接下來我們觀察大電流下,兩發光頻譜的相連性,看看這樣的 結構是否具有發展寬頻雷射的潛力。
我們將封裝好的元件做高電流的特性分析,將電流加到 3A量到的 LI曲線如圖 4-22,起始電流約為 140mA,當電流加到 3A,輸出功率 可高達 1900mW,且熱效應尚不明顯。接著做頻譜分析,電流我們以 脈衝的方式輸入,脈衝寬度為 2μs週期 0.2ms,測量結果如圖 4-23,
在電流由 0.15A加至 0.7A的過程中,只有QDL基態所發出的雷射光(波 長 1.265μm),當電流大於 0.8A後,QDM基態也參與發出雷射光(波長 1.22μm),此結果和LI圖中 800mA附近的折點相符。各電流值下半高 寬變化整理如圖 4-24,電流由 0.15A加至 1.2A的過程中,半高寬持 續的增加,1.2A時的半高寬為 20.8nm。但在注入電流 1.4A時,短波 長的波峰高過長波長的波峰,而短波長者在該電流下的半高寬較小,
使圖中出現不連續的兩曲線。電流繼續加大,半高寬仍會繼續增加,
至電流 2.4A,半高寬達到最大值 19.9nm,當時兩波峰間的凹陷為 6.4dB。當電流繼續加大,半高寬不再增加,反而有減小的趨勢,猜 測其原因為元件過熱所造成的不穩定。雖然半高寬減小,但中間的凹 陷卻變淺了,在電流 2.6A時,凹陷程度為 4.4dB,當時的半高寬為 18.8nm。電流 2.8A和 3A情況下,中間的凹陷程度亦差不多。
雖然中間的凹陷大於 3dB,但 4.4dB 已經是相當不錯的結果,以 我們現在這個例子來看,若中間的凹陷小於 3dB,整體的頻寬可高達 50nm。往後,我們可以試著調整長晶的條件讓兩能態的發光波長更靠 近,或者是提高量子點的不均勻性讓兩波峰的相連性更好,我們預期 這些改善可製作出高輸出功率,頻寬 50nm 以上的寬頻雷射。
4-3-2 變溫量測 (60k~340k)
在變溫量測中,我們量到負特徵溫度的現象。該元件在各溫度下 量到的LIV曲線和頻譜如圖 4-25 (a)(b)、圖 4-26 (a)(b)和圖 4-27
(a)(b),LIV曲線和頻譜是在兩次不同的降溫過程中所量得,所以兩
者的溫度之間略有誤差,但在做頻譜量測時,會先做一次LIV的量測,觀察當時的曲線變化,曲線特徵標示在頻譜的圖中,可作為彼此對應 的依據。我們發現LIV曲線和頻譜的特徵可分成三種,分別落在溫度 280k~350k (區間 1)、200k~260k (區間 2)和 60k~180k (區間 3)。在 接近室溫的區間 1(圖 4-25)中最為單純,LI為簡單的直線,頻譜中只 有QDL基態的波長。溫度再降低,區間 2(圖 4-26)中發現LI曲線有轉 折,此轉折對應到QDM基態的加入,在頻譜中,我們可以看到低電流 時只有QDL基態的光,電流加大後QDM基態也會一起發光。溫度繼續降 低,區間 3(圖 4-27)中,情形剛好相反,變成低電流時QDM基態的光 先發出,電流加大後QDL基態再一起發光,LI曲線中,階梯狀的轉折 點對應到的即是QDL基態加入發光的時候。這個現象十分的特別,和 一般的預期不同。進一步將起始電流對溫度的變化整理如圖(4-28),
可明顯看出負特徵溫度的現象[7][8]。以下,我們將對這些現象做定 性上的解釋。
在低溫的時候,載子所擁有的能量較小,無法在量子點間快速的 移動,沒有辦法在抵達能量最低的能態後再復合,因此無法達成準平
置相遇。從圖 3-1 中我們看到空間分布上,QDL靠近負極,QDS靠近正 極,且十層量子點所佔的厚度將近 400nm。也就是說,電子電洞在正 極附近相遇後,必須再經過 400nm的距離才能找到能量最低的QDL,且 此過程中需越過數個GaAs的能障,需要相當的能量。在接近室溫的情 況下,電子電洞在在靠近正極的QDS相遇後有足夠的能量和速度讓他 們可以找到能量最低的QDL,達成準平衡的載子分布,然後在QDL中復 合發出QDL基態的光。但隨著溫度降低,許多載子的能量無法讓他在 短時間內到達QDL而在半途的QDM中發生復合,甚至在QDS中複合。溫度 越低,就越多載子落在QDM中,當QDM所擁有的載子越多,就越容易達 成雷射共振條件,發出QDM基態的雷射光。溫度區間 2 中,非準平衡 的情況稍稍浮現出來,已有不少載子在QDM中累積,所以電流加大QDM便 有機會開始達成共振而發出雷射光。在溫度更小的區間 3 中,QDM的 載子累積效率甚至比QDL更快,比QDL更容易發生雷射共振,當電流注 入後,比QDL更早發出雷射光。
接下來考慮非準平衡下載子在同層量子點中的情況,同層量子點 中,量子點大小也有差異,溫度高可達成準平衡時,載子會填到能量 較低的量子點中,發光的波長較集中,頻譜較窄。而溫度低時無法達 成準平衡,所有大小的量子點都有讓載子複合的機會,因此頻譜較 寬。我們觀察QDL基態的發光頻譜,可發現隨溫度降低,頻譜的確有 越來越寬的趨勢(六個頻譜圖的橫軸刻度大小皆相同)。
在圖 4-28 中,區間 1 的部份,當溫度下降起始電流密度隨之下 降,造成此現象的原因是當溫度低時材料的增益較佳,較小的電流就 可以產生足夠的增益,在此範圍內,得到的特徵溫度約為 80 度。而 在區間 2、3 中,我們觀察到負特徵溫度的現象,此現象亦可用非準 平衡來解釋:在非準平衡的情況下,載子散佈在不同層不同大小的量
子點中,示意如圖 4-29,若要達成和準平衡狀態下相同的增益,必 須要填入更多的載子,如此,造成起始電流密度的上升,造成區間 2、
3 中負特徵溫度的現象。
QDL和QDM基態發光波長隨溫度的變化整理如圖 4-30。溫度下降,
造成能隙(Eg)增加,波長往短波長移動,兩發光波長的間隔維持約 45nm,和室溫時差不多。
1275 1280 1285 1290 1295 -75
-70 -65 -60 -55 -50
L=3mm @ 300mA L=2mm @ 200mA L=1mm @ 150mA
DO609 W=50μm & Pulsed
Intensity (dBm)
Wavelength (nm)
圖 4-1 (a) DO609 共振腔長度為 3mm、2mm、1mm 所量到的頻譜
1275 1280 1285 1290 1295
-60 -55 -50 -45 -40 -35
DO609 W=50μm & Pulsed
L=0.6mm @ 140mA
L=0.5mm @ 160mA
Intensity (dBm)
Wavelength (nm)
圖 4-1 (b) DO609 共振腔長度 0.5mm、0.6mm 所量到的頻譜(所使用光 纖與上下兩圖不同,造成解析度上的差異)
1185 1190 1195 1200 1205 -75
-70 -65 -60 -55 -50
L=0.4mm @ 500mA DO609 W=50μm & Pulsed
Intensity (dBm)
Wavelength (nm)
圖 4-1 (c) DO609 共振腔長度 0.4mm 所量到的頻譜
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 1180
1200 1220 1240 1260 1280 1300
DO609 lasers W=50μm
wavelength (nm)
cavity length (mm)
0 50 100 150 200 250 300 350 0
10 20 30 40
L=3mm L=2mm
L=1mm DO609 W=50μm
2side power (mW)
Current (mA)
圖 4-3(a) DO609 共振腔長度 1mm、2mm 和 3mm 所量得的 LI 曲線
0 100 200 300 400 500 600
0 10 20 30 40
L=0.4mm L=0.5mm L=0.6mm
L=0.8mm Do609 W=50μm
2side power (mW)
Current (mA)
圖 4-3(b) DO609 共振腔長度 0.8mm、0.6mm、0.5mm 和 0.4mm 所量得 的 LI 曲線
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 0
1 2 3 4 5 6 7
DO609 lasers W=50μm
loss=4cm-1ηi=0.75 1/η D
L(mm)
圖 4-4 DO609 差額量子效率倒數隨共振腔長度的變化
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5
0 200 400 600 800 1000 1200
1400 DO609 lasers W=50μm
Jth=85A/cm2
for L goes to infinite Jth (A/cm2 )
1/L (mm-1)
01 5 10 15 20 25 30 35
00 1000
gsat=27 cm-1, J
tr=60 A/cm2, r=0.3 modal gain (cm-1 )
current density (A/cm2)
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300
wavelength(nm)
圖 4-6 DO609 模態增益和波長隨起始電流密度的變化圖
W
λ
GSλ
ESη
iα
ig
satγ J
thL→∞J
tr50μm 1285nm 1196nm 0.75 4 cm-1 27 cm-1 0.3 85 A/cm2 60A/cm2 表 4-1 DO609 各項分析結果整理
圖 4-7(a)脊寬度規格 5μm,SEM 9500 倍的結果
圖 4-7(b) 脊寬度規格 12.5μm,SEM 4300 倍的結果 W 5 12.5 25 50 100 125
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300
L=4mm @40mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
-60 -50 -40 -30
L=1.5mm @30mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
-60 -50 -40 -30
L=0.75mm @30mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
-60 -50 -40 -30
L=3mm @30mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
-60 -50 -40 -30
L=1.25mm @40mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
-60 -50 -40 -30
L=0.6mm @30mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
-60 -50 -40 -30
Intensity (dBm)
Wavelength (nm) L=2mm @30mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
-60 -50 -40 -30
L=1mm @40mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -70
L=0.5mm @40mA
1100 1120 1140 1160 1180 1200 1220 -70
-60 -50 -40 -30
L=0.4mm @75mA
wavelength (nm)
Intensity (dBm)
圖 4-8(a) 脊寬度 5μm 在在不同共振腔長度下,在起始電流附近的 頻譜圖
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300
DO901 lasers W=125μm pulse:2us20us
L=0.5mm @600mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
L=0.6mm @500mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
L=0.75mm @500mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
L=1mm @500mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
L=1.25mm @400mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
L=1.5mm @350mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
Intensity (dBm)
Wavelength (nm) L=2mm @300mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
L=3mm @300mA
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -60
L=4mm @300mA
圖 4-8(b) 脊寬度 125μm 在在不同共振腔長度下,在起始電流附近 的頻譜圖
1200 1220 1240 1260 1280
wavelength (nm) DO901 W=5μm,L=4mm pulse:2μs20μs
Intensity (dBm)
1200 1220 1240 1260 1280 -70
wavelength (nm)
Intensity (dBm)
DO901 lasers W=5μm,L=3mm pulse:2μs20μs
(a) (b)
1200 1220 1240 1260 1280 -70
wavelength (nm) DO901 lasers W=5μm,L=2mm pulse:2μs20μs
Intensity (dBm)
1200 1220 1240 1260 1280 -60 DO901 W=125μm,L=1.25mm pulse:2μs20μs
wavelength(nm)
intensity(dBm)
(c) (d)
圖 4-9 (W,L) = (5,4000)(a)、(5,3000)(b)、(5,2000)(c)和 (125,1250)(d),頻譜隨電流的變化
1120 1140 1160 1180 1200 1220 1240 1260 1280
0 1000 2000 3000 4000
DO901 lasers
cavity length(um)
wavelength(nm)
W125 W005
圖 4-10 發光波長隨共振腔長度的變化
0 20 40 60 80 100 pulse:2μs2ms
2side Power (mW)
Current (mA)
0 20 40 60 80 100 pulse:2μs2ms
L=0.4mm L=0.5mm L=0.6mm
2side Power (mW)
Current (mA)
圖 4-11(a) 脊寬度 5μm 的 LI 曲線
200 400 600
0 DO901 lasers W=125μm
pulse:2μs2ms
2side Power (mW)
Current (mA)
400 600 800
0 DO901 lasers W=125μm
pulse:2μs2ms
2side Power (mW)
Current (mA)
圖 4-11(b) 脊寬度 125μm 的 LI 曲線
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 3.5 4.0 4.5
Cavity Length (mm) DO901 lasers W=5μm
DO901 lasers W=12.5μm
Cavity Length (mm) 1/ηD αi=1.5cm-1, ηi=0.52 DO901 lasers W=25μm
Cavity Length (mm) 1/ηD DO901 lasers W=50μm
Cavity Length (mm) 1/ηD DO901 lasers W=100μm
Cavity Length (mm) 1/ηD DO901 lasers W=125μm
Cavity Length (mm) 1/ηD
W(μm) λ1 λ2 αi ηi αi ηi 5 3.2 0.5 3 0.7 12.5 1.5 0.52 2 0.7
25 1 0.51 50 0.8 0.51 125 1.5 0.5
表 4-3 不同脊寬度下,兩波段內部損耗和內部量子效率整理。(αi單 位為cm-1。)
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0
0 200 400 600 800 1000
Jth=60A/cm2
for L goes to infinite DO901 lasers W=125μm
Jth (A/cm2 )
1/L(mm-1)
圖 4-13 寬度 125μm,起始電流密度和共振腔長度的關係
圖 4-14 各能階高低對應示意圖
11200 1160 1200 1240 1280
5 10 15 20 25 30 35
DO901 lasers
g mod (cm-1 )
W=5μm W=125μm
0 1000
modal gain DO901 W=5μm
modal gain (cm-1 )
Jth (A/cm2)
wavelength
Wavelength (nm)
圖 4-16(a) 脊寬度 5μm,模態增益和波長隨起始電流密度的變化
100 1000 0
5 10 15 20 25 30 35
modal gain DO901 W=125μm
modal gain (cm-1 )
Jth (A/cm2)
1180 1200 1220 1240 1260 1280
wavelength
Wavelength (nm)
圖 4-16(b) 脊寬度 125μm,模態增益和波長隨起始電流密度的變化
g
sat (cm-1) Jtr(A/cm2) 單層gsat QDL GS 11 55 5.5 QDM GS ~18 ~150 ~6 QDL ES 22 200 5.50 50 100 150 200 0
10 20 30 40 50 60 70 80
T=20oC~80oC δT=10oC
DO901 W=5μm,L=3mm pulse:2μs2ms
2side power (mW)
Current (mA)
圖 4-17 (W,L)=(5,3000)在溫度範圍 20oC~80oC下的LI曲線變化
20 30 40 50 60 70 80
103
DO901 W=5μm,L=3mm
T0=50
T0=80 Jth (A/cm2 )
Temperature (oC)
圖 4-18 (W,L)=(5,3000)在溫度範圍 20oC~80oC下,起始電流密度的變 化圖
1200 1220 1240 1260 1280 1300 -80
-60 -40
Intensity (dBm)
wavelength
DO901 W=5μm,L=3mm
wavelength(nm)
GS1 dλ/dT=0.45nm/k GS2 dλ/dT=0.37nm/k
圖 4-21 封裝過程與結果圖
0 500 1000 1500 2000 2500 3000 0
500 1000 1500 2000
2side power (mW)
current (mA)
圖 4-22 大電流的 LI 曲線
1180 1200 1220 1240 1260 1280 1300 -80
-75 -70 -65 -60 -55
Intensity (dBm)
wavelength (nm)
150mA 400mA 800mA 1200mA 2400mA 2600mA
圖 4-23 電流 0.15A~2.6A 的頻譜變化
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 4
8 12 16 20
FWHM (nm)
current (A)
0 50 100 150 200 250 3000
power (a.u.)
current (mA) 0.0
0.5 1.0 1.5 2.0
temperature increase T=180~340k
δT=20k
Voltage (V)
圖 4-25(a) 溫度 180k~340K 的 LI 曲線
1150 1200 1250 1300
-90
@340K Ith~210mA
Intensity (dBm)
wavelength (nm) 200mA
250mA 300mA
1150 1200 1250
-90
@280K Ith~105mA
Intensity (dBm)
wavelength (nm) 100mA
0 50 100 150 200 250 3000
temperature increase power (a.u.)
voltage (V)
current (mA) 0.0
0.5 1.0 1.5
2.0 T=200~260k δT=20k
圖 4-26(a) 溫度 220k~260K 的 LI 曲線
1150 1200 1250
-90
@220K Ith~80mA,kink @~187mA
Intensity (dBm)
wavelength (nm) 100mA
150mA 200mA 250mA 300mA
0 50 100 150 200 250 3000
power (a.u.)
current (mA) 0.0
0.5 1.0 1.5 2.0
temperature increase T=60~180k
δT=20k
voltage (V)
圖 4-27(a) 溫度 60k~180K 的 LI 曲線
1150 1200 1250
-85 -80 -75 -70 -65
-60 @160K Ith~158mA
Intensity (dBm)
wavelength (nm)
150mA 200mA 250mA 300mA
1150 1200 1250
-85 -80 -75 -70 -65
-60 @100k Ith~187mA
Intensity (dBm)
wavelength (nm)
130mA 150mA 200mA 250mA 300mA
1150 1200 1250
-85 -80 -75 -70 -65
-60 @60K Ith~194mA
Intensity (dBm)
wavelength (nm)
150mA 200mA 250mA 300mA
圖 4-27(b) 溫度 160K、100K 和 60K 的頻譜
50 100 150 200 250 300 350 102
III II I
T0=80 Jth (A/cm2 )
Temperature (K)
圖 4-28 起始電流密度隨溫度的變化,依三種不同的頻譜特性,分成 I、II 和 III 三個區域
50 100 150 200 250 300 350 1160
1180 1200 1220 1240 1260 1280
dλ/dk=0.1nm/k dλ/dk=0.0875nm/k
dλGS1/dk=0.35nm/k
wavelength (nm)
temperature (k) GS1
GS2
圖 4-30 兩發光波長隨溫度的變化
第五章 結論
在本實驗中,我們成功地在不同共振腔長度下,依序量到三種量 子點中不同能態所發出的雷射光,並在某些特定共振腔損耗下觀察到 兩個波長同時存在的情形,此多波長的特性可運用在多波長切換雷射 上 。 在 模 態 增 益 的 分 析 中 , 得 到 單 一 層 量 子 點 的 飽 和 增 益 約 在 5~6cm-1,且更加確定多個能態依序參與發光的可能性。
內部量子效率分析發現一個特別的現象:不同發光波長的量子效 率也會有所不同,波長 1.26μm 附近者為 50%,波長 1.2μm 附近則 變為 70%。
封裝好的元件做高電流測試,發現兩波長中間的凹陷最小時為 4.4dB,將來對長晶條件再做調整,減小兩發光波長的波長差,增加 量子點大小的不均勻度,皆有助於減少中間凹陷的程度,當此凹陷低 於 3dB,頻寬非常有機會超過 50nm,成為寬頻的雷射光源。
在低溫的量測中,我們觀察到負特徵溫度的現象,且當溫度降低 時,起始電流附近的發光波長切換至較短的波長,這兩個現象皆可用 低溫時非準平衡特性做完整的解釋。