Measuring the patent radicalness of the semiconductor manufacturing industry in Taiwan

台灣半導體製造業專利創新程度的評量

Measuring the patent radicalness of the semiconductor manufacturing industry in Taiwan

吳曉君 朝陽科技大學企管系

sc524@cyut.edu.tw

陳宏益 朝陽科技大學資管系 hychen39@cyut.edu.tw

摘要

技術的變動影響企業的研發計劃、甚至改變 市場或產品的範籌，進而決定企業的經營策略。如 何分析技術創新的過程與軌跡，並預測產業技術發 展的趨勢，是專利管理的重要課題。

專利分析是觀察技術發展的可行途徑之一。

本研究提出一個以專利相似性為基礎的分析方法 來辨識產業中具突破創新型的專利，以協助研發計 劃與經營策略的擬定。本研究首先以專利間的引用 關係定義二種評估專利相似性的指標，再分別比較 每一筆專利與同期、後期專利相似性的變化做為評 估專利的創新度的基礎，最後發展出一個辨識具突 破創新型特性專利的方法論。

再利用所提出之方法對台灣半導體製造業專 利創新程度進行評量。分析台積電、聯電二家公司 1995/1/1 ~2006/12/31期間，於美國專利局(USPTO) 申請核準6276筆專利。研究結果顯示，這兩家公司 在銅製程(專利號:6329234、6528428), 記憶體(專利 號: 6046086、6093608、6187624) 製程有有重大創 新。

The technology development impacts the market structure and product scopes, which forces company to revise its business plan. A correct forecast on the technology development helps company to correctly make its R&D plans. Hence, how to identify the evolving path of the technology development is one of the critical issues in the technology management.

Analyzing patent information is one of the ways to observe the evolving path of the technology development. In this paper, we propose a new method to identify innovated patents through years. By observing the development of these innovated patents, company can learn the technology evolving path and then assist the company to make its R&D plans. To identify an innovated patent, the method compares patents against patents issued at the same year and after. The deviation in the similarity between them can be employs to identify the innovated patent which is significant different from others.

A case study on Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) and united Microelectronics Corporation (UMC) is provided to demonstrate the proposed method. Patents issued from January 1, 1995 to December 31, 2006 are queried from USPTO database with totally 6,276 patents.

The results show that the two companies have achieve radical innovations in copper-interconnect technology (patent

#6329234 and 6528428) and memory(patent

#: 6046086、6093608、6187624)

關鍵字：突破創新 (radical innovation)、專利分析 (patent analysis)

一. 研究動機與目的

從總體經濟發展的巨觀角度來看，新科技的產 生與經濟的循環習習相關。另外以企業經營或科技 管理的微觀角度而言，技術的變動會影響企業的研 發計劃、甚至改變市場或產品的範籌，進而決定企 業的經營策略。因此，分析技術創新的過程與軌 跡，並預測產業技術發展的趨勢，才可以在技術變 動的當時，採取適當的因應之道。

Schumpeter(1934)提出突破型的技術創新是企 業競爭優勢的主要來源，也是破壞市場獨佔結構的 重要推力。因為技術能力是產品發展的基礎，透過 產品特性的區隔才可滿足不同目標市場區求。歷史 的經驗顯示，當經營者忽略革命性的技術創新，可 能喪失原本的領先地位成為失敗者。例如，1947 年，寶鹼公司推出第一個含磷的人造洗衣粉，寶鹼 公司的勁敵未能辨識創新的產品技術，而失去了市 場的領先地位。Information week在2006/9/19的報 導 指 出 ，

一 家 全 球 性 的 諮 詢 研 究 機 構

「技術生命週期」(technological cycle)、「S 曲 線」，是目前描繪及預測技術發展的重要理論及預 測模式。「技術生命週期」法以單一技術績效指標 的成長率大小，將技術的發展分成創新技術(new technology)、發展中的技術(pacing technology)、關 鍵技術(key technology)、基礎技術(base technology) 四個階段，協助管理者辨識技術生命週期的階段，

並依各階段的特性，採用不同的管理策略。「S 曲 線」的預測模型強調技術的極限與不連續，並在未 來是過去延續的前題下，以過去技術功效的數據，

預測未來技術的極限。並在技術極限到來之前，尋 找下一代的技術，以突破過去技術的限制。

關於各種技術預測理論使用的技術績效指

多個績效指標才可衡量技術的變化，使用技術績效 指標分析技術變化的趨勢可行性不高，於是研究者 放棄原本不易取得或不易衡量的技術指標，而改用 專利做為技術績效衡量指標。因為諸多研究指出，

專 利 可 以 反 應 當 下 技 術 的 發 展 現 況 。 例 如 ： Griliches 等(1991)、Ernst( 1995)的研究顯示，專利 活動的投入程度與隨後市場佔有率有顯著的關 係。Ernst(1997)以累積專利申請做為CNC 工具機 技術的績效指標，以S-曲線的模型預測CNC 技術 的發展，有不錯的預測效果。

隨著專利分析研究的成熟，研究重心從著重專 利數量的統計分析，發展到分析專利間引証關係及 專利說明書文字內容的探勘。專利與先前技藝之間 的關係，蘊藏豐富的技術與管理資訊。其原因有 二：1)就專利制度的設計面，專利說明書中的先前 技藝，記載技術知識累積的過程，並說明專利符合 新穎性的審查標準(Reitzig, 2003)，一旦專利權人之 間發生侵權糾紛時，先前技藝是評估專利範圍有效 性的重要依據。由於專利宣告範圍是影響專利價值 的重要因素之一，專利申請人及專利審查人員對於 專利引用的態度都相當謹慎。2)就專利分析的研究 成果發現，專利被引用的次數可用來評估專利的價 值(Narin et al., 1987; Trajtenberg, 1990; Harhoff et al., 1999)、以專利引証資訊描述專利、發明人、所 有權人在時間與空間的關聯性，有助於了解技術擴 散的速度與方向(Hu &Jaffe,2003)、另外，以專利引 証資訊評估專利所有權人、或專利間的相似性，可 定義產業專利分類系統(Lai & Wu, 2005)、企業核 心能力評估(Wu & Chen, 2007)、公司技術定位的目 的(Stuart & Podoly,1996)。

就科技管理的工作而言，技術資訊擴散、企業 核心技術能力的評估、產業技術定位的分析提供巨 觀的產業技術資訊。除此之外，管理者也希望能及 時的掌握可能改變市場平衡狀態的革命性技術。也 就是在新技術發明後的一段時間內，能評估創新程 度，及對產業可能造成的衝擊，及早擬出因應之 道。因此，本研究的目的就是要利用專利分析的方 法，評估專利的創新幅度，進而辨識革命性的專

對於未來可能破壞目前市場平衡狀態的新技術，儘 早擬定因應的策略。

二. 文獻探討

專利分析的過程需要處理的專利數量通常很 龐大，因此需要量化的指標篩選重要性高、俱發展 潛力的專利。Dahlin(2005)提出一套辨識突破型發 明(radical innovation)的方法，應用於網球拍產業的 專利分析。研究中定義三個判斷革命性創新專利的 標準，1)發明符合新穎性；2) 發明必須是唯一的；

3) 發明必須被採用。而這三個衡量標準是以專利 與前期、同期、後期專利的相似性來評估。專利與 前期的專利相似程度低，表示專利具新穎性。專利 與同期的專利相似程度低，表示專利具唯一性。專 利與後期的專利相似程度高，表示發明被採用。

專利相似性的評估是專利分析研究中重要的 一環。評估專利相似性時可採用書目計量學評估文 獻 或 期 刊 相 似 性 的 方 法 。 主 要 有 「 書 目 對 」 (Kessler,1963)、「共被引」(Small,1973)二種不同 評估方式。以專利相似性評估的角度說明「書目對」

與「共被引」的差異。二筆專利視為一組「書目對」

或一組「共被引」。「書目對」的相似強度以「書 目對」同時引証的專利數來計算。「共被引」的強 度以二筆專利同時被後來的專利引証的次數計算。

比較「書目對」與「共被引」的評估方式，前 者以引証專利(citing)為主體，後者則是以被引証專 利(cited)為主體。為能更清楚說明二種概念的差 異，分別以「書目對」或「共被引」的定義，衡量 圖 一中D、E 二筆專利的相似性。圖中的節點表 示已核准的專利， D、E共同引証B、C 二筆專利，

「書目對」強度為2；D、E 同時被H、G、F 三筆 專利引証，「共被引」強度為3。其關係如下圖所 示。

圖 一：「書目對」、「共被引」評估方法說明

「書目對」與「共被引」已被廣泛的應用於專 利分析上。Stuart & Podoly(1996) 以「書目對」衡 量日本半導體公司間技術的相似性，進而評估各公 司技術定位。黃慕萱等(2003)以「書目對」評估台 灣高科技公司的相似性，將台灣高科技公司分為半 導體、電腦週邊..等六大類。Lai&Wu(2005)以「共 被引」評估半導體產業基礎專利的相似性，以發展 產業的專利分類系統。Wu&Chen(2007)以「共被引」

評估台積電核心專利的相似性，以辨識台積電的核 心技術。

表 一：書目計量學應用於專利分析的研究 方法

對象 共被引 書目對

專利 Lai&Wu(2005): 半 導體製造業的專利 分類系統

Wu&Chen(2007):台 積電技術核心能力 的評估

Dahlin et.al(2005):

衡量網球拍專利的 創新程度

公司 N/A Stuart & Podoly (1996):日本半導體

公司技術定位分析 黃慕萱等(2003) : 台灣高科技公司的 分類

資料來源：本研究

當專利數龐大時且技術領域的範圍很廣時，無 論使用「書目對」、「共被引」都將面臨一個共同 的問題：「書目對」或「共被引」的相似度為0。

例如，專利號5494848，5502009二筆專利，雖然被

很多的專利引用，也引用了不少的專利，但二筆專 利在引用或被引用的關係上重疊度很低，使的「書 目對」或「共被引」的強度皆為0。

表 二：專利號5494848，5502009的相似度分析

專利號 5494848 5502009 專利

名稱

Buried contact trench process

Method for fabricating gate oxide layers of different thicknesses 專利

權人

Taiwan Semiconductor Manufacturing Co

United

Microelectronics Corp

引用 的專 利號

5063172、

5272099、 5350712 共3筆

5254889、4859619。

共2筆 被引

用的 專利 號

7279725、

7170103、

7166875、

6787401、

6784046、

6740552、

6351016、

6271570、

6136633、

6093619、

6080647、

6065973、

6001681、

5998269、

5930633、

5904536、

5888887、

5846860、

5668051、

5576242、

共20筆

7262102、7241662、

7056783、6949479、

6946713、6946339、

6861372、6853030、

6835634、6784500、

6773994、6770550、

6744102、6709931、

6706577、6703278、

6686604、6661061、

6653675、6573192、

6541823、6541395、

6538278、6531364、

6511887、6500715、

6475862、6417546、

6391701、6383861、

6348382、6331492、

6300197、6271152、

6235591、6228697、

6225167、6194257、

6184083、6147008、

6143669、6114203、

6110780、6107134、

6097641、6096664、

6066576、6057581、

6048769、6040207、

6037201、6033958、

6033943、6030862、

6025234、6010935、

6009023、5989962、

5985725、5962914、

5960289、5943566、

5937310、5933731、

5926708、5918119、

5895256、5882993、

5872376、5861347、

5811343、5646074、

共72筆

資 料 來 源 : http://www.uspto.gov/patft/index.html, 本研究整理。

基於以上的問題，專利分析時採用「書目對」

的評估，大都用於評估二家公司技術的相似性 (Stuart & Podoly,1996; 黃慕萱等,2003)，而不用在 評估專利的相似性。「共被引」的分析方法，只應 用於產業或公司內重要專利(被引用次數很高)的 相似性的評估(Lai&Wu,2005; Wu&Chen,2007)。以 避免上述的問題。

網球拍產業的專利數少，研究的方向又集中，

因此，Dahlin et.al(2005)可以使用「書目對」評估 網球拍專利相似性，進而評估專利的創新幅度。但 是很多的產業並不具專利數少、研究方向集中的特 性。因此本研究的目的，改善Dahlin的做法，提出 一個適用性較廣的評估方法，辨識企業創新程度高 的專利。

三. 研究對象與方法

(一)、 專利相似性的評估

半導體製造業專利數量龐大，若以傳統「書目 對」的評估方式，大部份「書目對」的強度為0，

不易比較專利對間的相似度。因此，本研究改用「書 目對」的先前技藝在UPC分類碼的重疊度評估專利 對間的相似度。UPC分類碼是美國專利局(USPTO) 為 了 加 速 專 利 檢 索 而 定 義 的 專 利 分 類 系 統 。 USPTO核准專利時，依專利對應的技術特性，指 定多個UPC分類碼。基於專利對的先前技藝在UPC 碼重疊度愈高，專利的相似程度愈高的假設，設計 二種相似性的評估指標。

與 UPC 類別

專 利 號 5494848 引 用 5063172 、 5272099 、 5350712三筆專利。專利號5063172的UPC類別為 437/041、437/043、437/044、437/052、437/193，5 種 UPC 碼 。 而 專 利 號 5272099 歸 屬 4 種 UPC 碼 、 5350712歸屬4種UPC碼。換言之，專利號5063172 引用先前技藝同時歸屬12個專利類別。

專利號5502009引用5254489、4859619二筆專 利。5254489歸屬4種UPC碼。而4859619歸屬7種 UPC碼。換言之，專利號5502009引用先前技藝同 時歸屬10種UPC碼。其中的437/043是5254489、

4859619二筆專利重疊的UPC類別。

根據書目對UPC碼的重疊度，定義以下二個相 似性的評估指標：

1. ROS1

j i j

i j i

ij p p

C C

C

ROS1 C :overlap score1 of and

∪

= ∩

Ci:P_i先前技藝的 UPC 類別數，重複類別只 計一次。

C :j P 先前技藝的_j UPC 類別數，重複類別只 計一次。

(1)

ROS1範例說明：

以ROS1評估專利號5494848 與5502009的相似 性，C_US5494848∩C_US5502009=2、

20 2 10

US5502009 12

US5494848∪C = + − =

C 。因此，

1 . 0 20 / 2 ,

1

= =

ROS

2. ROS2

j i j

i

j j i

i ij

p p ROS

U OS U ROS OS

and of 2 score overlap 2

2 / 2 ) ( 2

2

,

+

=

: 2i

OS P 與i P 先前技藝共同的UPC類別個_j 數，考慮重複。

: 2_j

OS P 與_j P 先前技藝共同的UPC類別個i

數，考慮重複。

) (

UPC

: _i引用專利的 類別數考慮重複

i p

U

) (

UPC

: _j引用專利的 類別數考慮重複

j p

U

(2)

ROS2範例說明：

2 2_{5498484,5502009}=

OS 、OS2_{5502009,5498484}=3。

5498484=13

U (437/195 出現2次)、

5502009=11

U (437/195 出現2次)、

376 . 0 2 / 11)

3 13 (2

2_{5498484 ,5502009} = + = ROS

(二)、 研究對象：

台灣半導體製造業中的台積電與聯電二家公 司，位居世界半導體製造業的龍頭地位，同時也扮 演台灣經濟發展的重要動力。因此，本研究以二家 公司在UPSTO申請的專利，做為分析對象，一方 面說明方法論的分析流程，另一方面可與產業技術 發展的過程互相比對，以驗証方法的可行性。

(三)、 研究流程與方法 依以下四個步驟進行

„ 步驟一：專利資料檢索

„ 步驟二：過濾重要專利

„ 步驟三：專利相似性評估

„ 步驟四：專利創新程度評估

1. 步驟一：專利資料檢索

說明：至USPTO檢索專利，查詢條件為: (Issued day

> 1995/1/1 and <2006/12/31) and (assignee =

“Taiwan semiconductor manufacturing company”OR

“United Microelectronics company”)

結果：共計6276 筆。

2. 步驟二：過濾重要專利

說明：突破型創新專利被引用的可能性高於非突破 型創新專利。因此以專利被引用的次數過濾專利。

但是專利被引用的次數易受時間的影響，因此採二 階段過濾專利。

2.1. 篩選被引証次數大於1的專利 結果：6276筆專利中，只有2089筆專利符合。

2.2. 篩選被引用次數大於同年度專利平均被 引用次數的專利，做為創新專利候選人 (candidate of radical innovation patent)。

結果：2087中，有708專利符合標準，詳細資料如 表三。

表三：專利申請時間與被引次數分析表 核准年 被引次數之 µ 專利數 被引次數>µ 以

上的專利數

1995 2.5 8 3

1996 3.7 115 40

1997 3.2 148 41

1998 3.7 216 78

1999 2.9 323 121 2000 2.5 398 120 2001 1.9 398 168

2002 1.6 234 84

2003 1.4 141 38

2004 1.2 75 12

2005 1.1 31 2

2006 1.5 2 1

總計 2078 708

技術的特性影響技術的生命週期，基礎型的專 利生命週期長，應用型的專利生命週期短。本研究 對於專利創新度的評量採的是相對的，而不是絕對 評量方法，因此，應考慮技術特性不同所產生的差 異，分別評估。

半導體製造業專利主要集中於257、438二個 UPC分類碼。前者，屬於半導體的物理特性的應 用。後者，半導體製程的發明與改良。分析以上的 708筆專利後，發現高達81%的比例屬於257或438 二個分類碼。因此，以下只針對UPC257與UPC438 二類的專利進行後序分析，共578筆專利。詳細資 料如表四：

表四：708 筆專利的 UPC 碼 UPC碼 257 438 257 and

438

257 or 438 專利數 126 511 59 578

比例 17.8% 72.2% 8.3% 81.6%

3. 步驟三：專利相似性評估

使用ROS1、ROS2評估專利的相似性之前，先 驗証指標是否能有效的評估專利的相似性，而進行 以下的二種測試。第一個測試目的：時間的效果是 否表現在相似性的差異上。第二個測試目的：時間 效果是否受技術特性的影響。

3.1. 「時間效果」的測試

技術俱有生命週期。換言之，產業在不同時期 會有不同的主流技術。正常情況下，同時期申請的 專利相似性高於不同時期申請的專利，使的專利申 請的期間相隔愈長，專利的相似性愈低。

以360天為一期，分別以ROS1與ROS2二個指 標評估與同期、前期、後期的相似性。結果發現，

ROS1與ROS2二個指標的趨勢相同，且符合「專利 申請的期間相隔愈長，專利的相似性愈低」的推 論。由於ROS2考慮UPC分類碼出現的次數而採加 權計算的方式，而拉大了不同時期專利的相似度。

專利對申請時間與相似性

0 0.02 0.04 0.06 0.08 0.1

-7 -6 -5 -4 -3 -2 -1 0 1 2 3 4 5 6 7 年

相似度

ROS1 ROS2

圖 三：專利對的相似性與申請時間

3.2. 「技術特性」與「時間效果」的測試 應用科學類的專利老化速度應比基礎研究類 的專利來的快。比較應用科學類的UPC43與基礎研

究類的UPC257，時間效果的影響，呈現UPC438 類別的專利退流行或老化的速度比UPC257快的現 象。

專利對的申請時間與相似度

0 0.03 0.06 0.09

-7 -6 -5 -4 -3 -2 -1 0 1 2 3 4 5 6 7 年

相似度

438 ROS1 438 ROS2 257 ROS1 257 ROS2

圖四：UPC、專利對的相似性與申請時間

以上的二個測試，顯示ROS1與ROS2二個指標的可 用性。

4. 步驟四： 創新度評估

分別從438、257二種技術類別中的專利，進行二階 段的創新度評估。

4.1. 第一階段篩選條件：

條件1：目標專利與後期專利的平均相似性大於與 前期專利的平均相似性。

說明：根據Dahlin et.al(2005)的研究，創新程度高 的專利與過去專利的相似性低，與未來專利的相似 性高而訂出以上的篩選條件。摩爾定律(Moore's Law)指出，半 導 體 產 品 的 生 命 週 期 約 為 18個 月 。本研 究以 摩爾定律依 據，並 放寬延續期間 為摩爾定律的二倍。定義 與目標 專利 申請日 早 36個月以 內的 專利為 前期 專利，晚 36個月 以內 申 請的專 利為 後期專 利。依序算 出各 筆專利 與 前 期、後 期專 利的平 均相 似性。 並要 求 ROS1 與 ROS2二個相 似性指 標皆 要符合 要求 。

針對438、257二個UPC類別篩選的結果如表 五。UPC 257有51筆專利通過、UPC 438有147筆專 利通過第一階段的篩選。

表五: 第一階段的篩選

UPC 257 UPC 438 專利數 126 筆 511 筆 及格數(ROS1) 56 筆 160 筆 及格數(ROS2) 54 筆 160 筆 及格數

(ROS1&ROS2)

51 筆 147 筆

若延續Dahlin et.al(2005)的方法論，只考慮目 標專利與前後期專利相似性的變化，可能會篩選出 非主流技術的創新專利。而本研究的目標，希望兼 顧創新與主流技術，因此進行第二階段的篩選。

4.2. 第二階段篩選條件：

條件1. 目標專利與第0期專利的相似性 < 所 有專利與第0期的平均值

條件2. 目標專利與第1期專利的相似性 > 所 有專利與第1期的平均值

條件3. 目標專利與第2期專利的相似性 > 所 有專利與第2期的平均值

說明：篩選突破型的專利時，為兼顧創新與主流技 術二大目的，因此第二階段要求符合以上三個條 件。條件一，表示目標專利當時不為主流技術。條 件二、條件三表示，目標專利在未來的2期，已成 為主流技術。目標專利與前期、後期專利的平均相 似性愈大表示為主流技術的可能性愈高。與目標專 利的申請日相差12個月以內的專利為目標專利的 第0期、13個月~24個月為第1期、25個月~36個月為 第2期。

分析後，UPC257中，有3筆專利通過第二階段 篩選。

UPC 257 and ROS1

0.000 0.005 0.010 0.015 0.020 0.025 0.030 0.035 0.040 0.045 0.050

0 1 2 年

相似度 US5923088

US6329234 ros1之平均

圖 五：UPC 257 類別突破型創新專利與後三期的 ROS1

UPC 257 and ROS2

0.000 0.020 0.040 0.060 0.080 0.100 0.120 0.140 0.160 0.180

0 1 2 年

相似度

US5923088 US6329234 ros2之平均

圖 六：UPC 257 類別的創新專利的 ROS2 值

UPC438 中，有 5 筆專利通過第二階段篩選。

UPC 438 and ROS1

0.000 0.010 0.020 0.030 0.040 0.050 0.060 0.070 0.080

0 1 2 年

相似度

US6046086 US6093608 US6187624 US6528428 ros1之平均

圖 七：UPC 438 類別的創新專利的 ROS1 值

UPC 438 and ROS2

0.000 0.020 0.040 0.060 0.080 0.100 0.120 0.140 0.160 0.180

0 1 2 年

相似度

US6046086 US6093608 US6187624 US6528428 ros2之平均

圖 八：UPC438 類別的創新專利的 ROS2 值

四. 結論與討論

專利分析是觀察技術發展的可行途徑之一。

辨識產業中具突破創新型的專利，以預測技術創新 的過程與軌跡。最後利用所提出之方法對台灣半導 體製造業的專利創新程度評量台積電、聯電二家公 司 1995/1/1 ~2006/12/31 期 間 ， 於 美 國 專 利 局 (USPTO)申請核準6276筆專利。

通過二階段的篩選的專利，詳細資料如下表。

表 六：UPC257 突破創新型專利

專利號 申請日 專利名稱 所有

權人 5923088 1997/9/15 Bond pad structure for the via

plug process

TSMC

6329234 2000/7/24 Copper process compatible CMOS metal-insulator-metal

capacitor structure and its process flow

TSMC

表 七：UPC438 突破創新型專利

專利號 申請日 專利名稱 所有

權人 6046086 1998/6/19 Method to improve the

capacity of data retention and increase the coupling ratio of source to floating gate in split-gate flash

TSMC

6093608 1999/4/23 Source side injection programming and tip erasing P-channel split gate flash memory cell

TSMC

6187624 1999/6/4 Method for making closely spaced capacitors with reduced parasitic capacitance on a dynamic random access memory (DRAM) device

TSMC

6528428 2000/8/14 Method of forming dual damascene structure

UMC

研究結果顯示，這兩家公司在銅製程(專利 號:6329234、6528428), 記憶體(專利號: 6046086、

6093608、6187624) 製程有有重大創新。

記憶體的專利分別是關於DRAM與Flash，申 請日在1999年附近。DRAM與Flash是記憶體的二 大產品，市場研究機構的統計，1996年Flash產值 只佔DRAM產值的一成左右，全球總產值只佔26 億美元。到了2000年，Flash產值己高達105億美 元，約DRAM產值的36%。

銅製程的專利，申請日在2000年。採用銅來 取代鋁作為導線最主要的好處在於電阻值的減 小。電路信號傳遞的快慢是決定在電阻(R)與電容 (C)乘積，RC乘積值越小，速度就越快。在室溫下，

純鋁的電阻值是2.8微歐姆/公分，而純銅僅1.7微歐

提升30%~40%之多，可改善IC傳輸功能。另外，

銅導線的抗電致遷移能力亦比鋁好，可減少導線斷 開的機率，提高IC電路的可靠性。

第二階段篩選出的專利，的確反應了當時市 場的技術與產品主流。研究結果只反應了過去的事 實，但無助於未來技術發展的趨勢預測。

本研究第一階段著重於創新專利的篩選，第 二階段，則再從創新度高的專利中，篩選主流專 利。因此，建議技術開發者以第一階段的研究成 果，做為技術開發的參考。

致謝：

本 研 究 由 國 科 會 計 劃 贊 助 (NSC-95-2416-H-324-016)。

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