到的傅立葉曝光源特徵矩陣與曝光源共軛矩陣做旋積運算，便可得到 該透鏡的光源濾光器矩陣
步驟 2.3: 依照前面霍普金斯模型的傳輸交叉系數公式，在以不考量因透鏡像差 導致光束散射的影響下。直接取出透鏡中同一介質環境的最高斜率，
用以計算之後透射過圖罩的光束經由透過該透鏡的濾鏡來取的光學成 像的矩陣。現在取該透鏡的光源濾光器矩陣中斜率最大值並除上曝光 源特徵的絕對值矩陣，便可以得到曝光源轉換濾光器矩陣
步驟 3: 讀入由第一步驟擷取出來的電路圖罩佈局圖樣版的數學矩陣，並執行二 維傅立葉轉換將訊號轉換成頻率頻域，獲得二維傅立葉圖罩樣版矩陣 步驟 3.1: 將曝光源轉換濾光器矩陣與各個圖罩樣版矩陣依序做旋積運算，便可
獲得模擬各個圖罩樣版矩陣在晶圓收集到的光學影像強度的數學矩陣 ，而且會是具有光學鄰近效應的數學矩陣
步驟 3.2: 我們可以經由設定門檻數值來過濾各個圖罩樣版矩陣，以獲得各個圖 罩樣版矩陣最佳的光學鄰近效應值
步驟 3.3: 藉由原始的光學成像樣版矩陣與具有光學鄰近效應的光學成像樣版矩 陣掃描比對，便可獲得該樣版矩陣具有多少光學鄰近效應的總量 輸出: 顯示光學鄰近效應最少、計算所需時間最短、最適合該樣板的門檻值配對
5.2 擷取樣板執行成像系統模擬
首先以測試檔反相閘佈局圖為例，依照 I 型線、L 型線、十字型等三種形狀 擷取分類成三組。第二步是以模型基準法來模擬曝光系統的圓形傳統光源，使曝 光源轉換濾光模組產生該曝光源特徵矩陣。第三步經由圖罩矩陣與曝光源特徵矩 陣旋積運算後產生帶有繞射光現象的光學成像矩陣如圖 5.1 所示。
圖 5.1 擷取樣板方法示意圖
5.3 執行門檻測試光學鄰近錯誤容忍度
接著第四步是經由不同的門檻值設定，首先我們將光學鄰近效應的門檻過濾 模組設立一個數值如:100、150、200 當作是過濾門檻的值。後續將帶有繞射光現 象的光學成像矩陣透過門檻過濾模組，將矩陣位置中大於該門檻值的數值保留，
如果是小於門檻的數值便將它設成數值 0，在整個佈局圖光罩樣版矩陣都過濾過 光學鄰近效應的門檻過濾模組後便可得到符合門檻值的光學鄰近效應總值。如圖 5.2 是經由不同門檻值過濾後的各個佈局圖罩樣版矩陣。
圖 5.1 門檻計算示意圖
5.4 執行光學鄰近效應計算
將上一步驟經過光學鄰近效應的門檻過濾模組獲得的電路圖形樣版矩陣與 原始的電路圖形樣版送入光學鄰近效應模組，透過兩個矩陣裡的數值已經有差異 的這項特徵，將兩個矩陣中各個位置的數值結取出來做比對，假設取原始的光學 成像樣版為 O(x
ij
, yij
)與經過門檻計算的光學成像樣版為 P(xij
, yij
)，並取同一維度 座標位置的數值(xij
, yij
)做比對。如果 O(xij
, yij
)點的值是 0，而 P(xij
, yij
)點的值是 0 則表示沒有光學鄰近效應，反之則是代表該點具有遞增型的光學鄰近效應。另一 可能性是，O(xij
, yij
)點的值是非 0，這時則要比較 b(x, y) 點的值是否大於 0 則表 示有遞減型的光學鄰近效應的座標位置，反之則是代表該座標位置沒有光學鄰近 效應。經由這兩個矩陣掃描與累加計算後可以得到該光學成像樣版的光學鄰近總 值如圖 5.3 所示。圖 5.2 光學鄰近數值計算示意圖