地電阻探測於工程實務的應用上，由傳統的一維水平與垂直深度探 測，逐漸發展至二維的地層剖面，近年來更進展至三維整體區域性調查
（Shima and Kamiya, 1990; Loke 2001）。但由於三維探測所需電極棒數目相 對較多，因此佈線時耗費人力與時間，較為不經濟，且由於三維探測所得
3.01（Loke, 2002），在電極排列方式的選擇上，使用的是訊號強度較強，於 現地監測時常使用的Wenner array（尤仁弘，2006）。此外本研究固定所模 擬測線展距，以探討在相同探測深度下的解析能力，而數值地層模型的部
份，將地層的地質分佈配置成馬賽克方格的型態，如圖3- 2 所示。圖 3- 2 中之表格則為相關的變動解析參數，包括馬賽克方格大小、方格水平及垂 直間距、表層間距、電極間距以及方格和背景的電阻率值。一開始的數值 模型，先以分佈較為均質的馬賽克方格作為初始模型，並且以方格大小 A 做為基準值，後續各解析參數的變動都以此基準值為變動的依據來做探 討，其模擬結果將於第四章中詳述。初始模型的方格水平向間距Bx、垂直 向間距 By 以及方格距地表間距 C 皆設定等於方格大小 A，且電極間距 D 的初始設定也等於方格大小 A；在一般的地質條件中，通常是大範圍砂礫 石岩塊等高電阻率分佈，中間夾雜泥質、粉質土層或岩層破碎帶含水等所 反映出的低電阻率區塊，因此初始模型以高電阻率1000（Ω-m）為其模型 背景值，並以低電阻率500（Ω-m）為馬賽克方格值。正算數值模擬的設定 流程如下：
1. 輸入所模擬電極數目、電極間距、電極排列方式、探測深度參數等等。
2. 背景值初始設定為 1000（Ω-m），依預計模擬馬賽克方格大小與位 置，將方格設定為500（Ω-m）。
3. 選擇有限元素法控制網格計算，為減低反算前因誤差造成變異，故不 給予高斯隨機誤差增量。
圖3- 2 正算模擬示意圖與相關模擬參數
經正算後得到的視電阻率剖面，需再經過反算軟體的分析以獲得量測 後電阻率剖面，研究中使用的反算軟體為 RES2DINV ver. 3.54z（Loke, 2002），並以此剖面與各次所模擬的馬賽克方格模型做比對；為了避免各剖 面間色階分布區間差異性所造成的視覺誤判，必須將各反算後的電阻率剖 面結果的色階加以統一後，再做進一步的分析與探討；如圖3- 3 為例，其 馬賽克方格大小A=2m、方格間距 Bx=2m、By=2m、表層間距 C=2m，當電 極間距 D=A/2、A、2A 時的馬賽克方格模型（圖 a）及其反算後的電阻率 剖面結果（圖b），經由比對a、b 兩圖的馬賽克方格幾何相關位置以及電阻
值的大小後，發現當電極間距 D 越小時，上層方格可更顯著的解析出來，
反算後的結果會與數值模型越接近，因此解析度越好，但下層方格則因相 對深層解析度較低而無法由反算結果中清楚解析出。後續即利用上述相互 對照的方式，在不同解析參數的情況下，對正算模擬馬賽克模型的結果進 行參數化分析。
圖3- 3 正算模型與反算結果（a）馬賽克方格（b）反算結果