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3-1 實驗流程圖

實驗流程圖如下,詳細節將在3-2節敘述。

3-2 試片製備

3-2-1 基板製備與清洗

本實驗我們是用射頻濺鍍機沉積氧化鋅薄膜在p型矽基板上,膜 厚約100 nm,靶材純度是99.99 %氧化鋅靶材。矽基板先用一般的半 導體程序清洗後再放入腔體,本實驗的濺鍍條件是交流功率65W,濺 鍍壓力10 mtorr,濺鍍時間為10分鐘。

3-2-2 反應溶液的配製

持續攪拌30分鐘~270分,然後取出試片並在80OC下乾燥24小時,再

3-3-1 射頻磁控濺鍍系統 (RF Magnetron Sputter System)

濺鍍系統主要是由濺鍍腔體及濺鍍槍組成,濺鍍槍之電源供應器 以同軸電纜將功率輸出至濺鍍槍,操作時需導入冷卻水避免磁鐵及靶 材過熱,以免對系統有不利影響。過程中所通入的工作氣體,利用兩 個質量流量計(mass flow controller)分別控制導入氧氣與氬氣之氣體 流量。

射頻(RF,radio frequency)電源是在二極間施以高頻(13.56MHz)

之正負極切換,由於離子質量遠大於電子,當正負極切換導致電場改

3-3-2 恆溫反應系統 (PID Control Temperature System)

以電熱方式提供溫度,溫度範圍是室溫~400 ±1℃ ℃,恆溫反應系 統的裝置是內箱不銹鋼板,P.I.D 微電腦和程式控制LED 數字設定,

具有過熱保護裝置會顯示溫度是否過熱。

3-4 分析設備與方法

3-4-1 掃瞄式電子顯微鏡(SEM)

本實驗所使用的掃瞄式電子顯微鏡為JEOL JSM-6500F,其電子 槍為場發射式,掃瞄式電子顯微鏡主要是用來觀察物體的表面形貌。

掃瞄式電子顯微鏡有兩大優點,解析度高,景深(depth of focus)大,

且試片的處理也很簡單,使SEM 在科學研究上,被廣泛使用。掃描

3-4-2 光激螢光光譜儀(Photoluminescence)

Photoluminescence (PL)為一種非接觸性的光學量測,具有不破壞 受測樣品表面結構的優點,近來已成為一種用途廣泛的量測工具。經 由PL光譜的能量解析,可以決定固態材料與元件之能隙(band gap)大

小,識別材料中的缺陷(defects)及雜質(impurity)。而且經由不同種類

X 光繞射儀可有多種分析模式,本實驗是用θ-2θscan (wide-angle scan) 來分析。我們利用X光繞射儀鑑定基材上總體奈米線的結構。X 光繞射分析是最常使用的晶體結構鑑定技術,其原理是樣品在受到單 色X光的照射後,當樣品中某些晶體之結晶面和入射光相夾θ角

(Bragg’s angle),而此角度剛好符合布拉格繞射條件時( nλ= 2d sinθ),

入射光就會被此結晶面所繞射。本實驗所使用的儀器為M18XHF,其 操作條件是:以銅鈀(Cu,λκα1=1.5405Å)為X 光源,操作電壓、電流分 別為50 kV、100 mA,掃描速率為6°/min,掃描範圍(2θ)從20°~ 60°。

3-4-4 穿透式電子顯微鏡(TEM)

本實驗是使用Philips TECNAI 20 檢查氧化鋅奈米柱的形貌和結 構。穿透式電子顯微鏡是利用電子與物質作用,產生繞射和散射電子 來研究物質細微結構的儀器,也可以截取穿透物質的直射電子和彈性 電子成像或作成繞射圖樣來作微细組織和晶體結構研究,更可搭配X 光能譜分析儀(EDX)作成份分析。

3-4-5 化學分析電子儀分析(ESCA)

化學分析用電子光譜儀(Electron Spectroscopy for Chemical

Analysis),也稱為X光光電子能譜儀(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)是一種分析材料表面組織型態及化學結構的儀器。ESCA 的原 理,簡單來說就是光電效應,當其有足夠能量的電磁波(X-ray)照射在 試片表面,試片原子內的電子吸收電磁波的能量,自原子內游離出 來,稱為光電子(Photoelectron)。光電子動能(KE)為入射電磁波的能量 (hλ),減去該電子在原子內的束縛能或結合能(B.E.)。由能量守恆定律 知光電子之動能為

KE = hλ– B.E. –F

hλ是入射X 光之能量,F 為儀器之工作函數,為一定值。如此BE 即 可計算得知。因為任何元素不同能階之結合能有其定值,固不同元素

可用於元素分析之原因。XPS 有一種重要的功能就是利用束縛能的 偏移,來鑑定表面元素因化學環境改變而產生的化合狀態,在此化學 環境是指鄰近原子的化合狀態和排列方式(晶體結構)。化學環境改變 隨即產生束縛能偏移,即使偏移到1 eV,XPS 亦有能力鑑定。XPS 的 靈敏度與波峰/背景訊號比值(S/N ratio)成正比關係。而XPS 之背景訊 號變化有相當程度的規則性,故其S/N ratio 易受到控制,以致以XPS 做微定量分析會有相當高的準確性。

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