O 玻璃基板的圖樣化(pattern)
ITO(indium 玻璃基板，其規格為1mm厚的玻璃基板上鍍有整片 厚度為 200nm的氧化銦錫，其電阻值 10Ω/ ，在元件製程前需要將ITO完成圖樣化的工 作，方便元件完成後外接操作電壓或電流 其ITO圖樣化之流程如[圖 ，一開始先將 基板利用玻璃清潔劑(Detergent)與丙酮搓洗ITO (DI water)
中進行超因波震盪， ，並放置加熱板上烘烤
3-2 ITO 基板表面清洗、處理，及旋轉塗佈PEDOT:PSS[22]
首先用玻璃清潔劑搓洗基板，去除ITO表面的殘存的油脂，再以去離子水沖洗，接 著分別浸泡在去離子水、丙酮、異丙醇容液進行超音波震盪，經氮氣槍吹乾後放入烘箱 確保水氣完全蒸發。在旋轉塗佈PEDOT:PSS (polyethylene dioxythiophene doped with polystyrene sulfonic acid)之前，須先將基板置於臭氧產生機(UV-Ozone)中進行表面處理 15 分鐘，使ITO表面經臭氧反應後，提高ITO功函數和改善表面的親水性，可降低有機 材料的HOMO與陽極間的位障差，也可使PEDOT:PSS較易均勻的附著在ITO表面。表面 經臭氧處理後，導電高分子PEDOT:PSS以轉速 4000r.p.m旋轉徒步成膜後，經 120oC烘烤 60 分鐘即完成。PEDOT:PSS [Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate)]
為高分子有機材料[圖 3-2(a)(b)]，具有高電洞傳輸能力外，其功函數大概是 5.2eV，如此 可以與有機發光層的HOMO匹配，減少電洞注入的位障[圖 3-3]，加上ITO的表面較不平 整，若是直接塗佈上發光層，將會得到較差的薄膜，若事先塗佈上PEDOT:PSS，可幾彌 補表面不平整處，使有機發光層可以平整均勻的塗佈在PEDOT:PSS此電洞傳輸層上。
圖3- 2 (a) PEDOT:PS 化學結構與組成方式 S
發
圖3-2(b) PEDOT:PSS能階示意圖
3-3 有機發光層的材料
此元件的發光層所使用的有機材料分別有poly(vinylcarbazole) (PVK)、1,3-bis[(4-tert -butylphenyl)-1,3,4-oxadiazolyl]phenylene（OXD-7）、bis(2-(4,6-difluorephenyl)pyridinato -N,C2) (FIrpic) 、bis(2-(2’-benzo-thienyl)pyridinatoN,C3’)(acetyl-acetonate) [Btp2Ir(acac)]其 化學結構和能階關係如[圖3-3] [圖3-4]。
PVK為常用的高分子磷光主發光體，其化學結構為carbazole的衍生物，具有電洞傳 輸的特性，且可溶性極高，對於溶液製程有相當大的幫助，為了彌補PVK的電子傳輸能 力，所以摻雜電子傳輸材料OXD-7，幫助平衡發光層內電子電洞，進而提升量子效率，
而FIrpic和Btp2Ir(acac)分別為藍色和紅色摻雜物，可以有效的捕捉載子，並且產生重金 屬效應得以釋放出磷光。將此三種材料藉由電子天枰依重量比例混合，經抽真空後，去 除水氣和氧氣。而接下來的元件製程都在氮氣環境下進行，首先將材料溶於氯苯 (chlorobenzene)[圖3-3]中，利用旋轉圖佈將主發光層才材料沉積在PEDOT:PSS上，其厚 度介於200nm上下，接著放置在加熱盤上，作蒸鍍陰極前的加熱(pre-annealing)，其條件 為以120oC加熱15分鐘，完成主發光層的薄膜沉積。
PVK OXD-7
FIrpic Btp2Ir(acac) 氯苯(chlorobenzene)
圖3- 3 有機發光層材料
圖3- 4 有機發光層材料能階
3-4 蒸鍍金屬陰極 率在0.2nm/s左右，直到厚度達到 30nm，而鋁的蒸鍍方式是以控制電流量通過鎢舟加熱 鋁粒產生鋁蒸氣，其鍍率在 0.3nm左右，直到厚度 100nm，隨後須維持真空下冷卻 20 分鐘以上，完成蒸鍍。過去在陽極的選擇方面，許多文獻也利用一些金屬鹽類粉末舉取 代鈣來進行熱蒸鍍，像是Cs2CO3、LiF、CsF等，此舉可使陽極功函數與發光層的LUMO 更匹配，減少電子注入位障，達到提升效率的效果。
受水氧影響而衰退(decay)。發光元件量測方面，利用Keithley 2400做電壓或電流的供應，
1.Supersonic vibrate(超音波震盪器):
清洗基板使用，將基板以去離子水、丙酮、異丙醇浸泡透過超音波震盪去除雜質。
2.UV-Ozone(紫外臭氧機):
利用紫外光照射氧氣分子形成臭氧，以臭氧燃燒去除ITO表面的有機物質。
3.Spin Coater(旋轉塗佈機):
將基板以抽真空方式吸附，將欲旋轉之溶液材料，滴滿基板表面，利用旋轉時產生的離
6.Atomic Force Microscope(AFM) (原子顯微鏡)：
本實驗原子顯微鏡構於DI instrument，屬於掃描探針顯微技術的一種，利用微小探，透 過穿隧電流、原子力、磁力、近場電磁波來進行表面偵測，即可得到相位模式和高度模 式表面形貌。
7.Keithley 2400 source-measure unit:
利用Keithley 2400量測元件的J-V曲線，可求得元件的重要參數。
8.PE650:
可以感測元件發出的亮度跟波段，並透過電腦程式控制記錄下來，得到元件在不同電流 下的發光亮度及發光光譜。