建議

對於管理方面的建議可以歸納為以下幾點：

1. 本論文中的個案公司為技術領先者，先期跨入不確定因素過多的技術選擇環境當 中，一定要有一明確的決策模式幫助其做資源分配的決定，否則，資源過於分散，

難達有效資源運用的成效。易經決策似乎是個不錯的選擇，尤其是針對台灣環境找 不到眾多專家學者來進行專家會議或是德菲法問卷調查時，易經決策可以做為另一 個可行的方案。既考慮了自家公司的情形，也將國際間的發展狀況納入考量當中，

比起自己閉門造車要好得許多。

2. 本論文中所使用的 ITRS 國際半導體技術藍圖已經將可能的技術選項經 ITRS 專家 們討論後縮小成非常精簡的範圍，這使得易經決策的方案數量少了許多。但在其他 情況中，未必可以找到類似的技術藍圖，來做事前的縮小範圍，那麼就必需在資料 收集上多費點功夫，以便得到更完整的資訊以供判斷之用。否則不足的資訊會造成 判斷的誤差，以致浪費公司寶貴資訊。

3. 新技術的開發並非一朝一夕即可完成，而在本論文中兩次方案卦轉心知力的時間設 為兩年，因為在技術開發初期，技術的進步十分緩慢，等到後期時較可能有爆炸性 的進展。因此，如何在易經決策模式中選擇轉心知力的時機，也會隨著個案情況不 同而異。當然，如果可以電腦資訊化，可以把每一個技術演變的事件都即時輸入電 腦，由電腦直接做轉心知力的動作。

4. 如何定出適當關係心知力的問題，也會隨著個案情況不同而異。本論文中是以微影 技術開發所需考慮到的因素，納入心知力問題當中，其中包括了技術的解析度是否 可以達成製程需求，技術的產出是否可以達成量產需求，技術是否為最合乎經濟效 益的技術，技術之相關配套技術，技術開發障礙，技術開發障礙是否可以如期排除，

是否有足夠資金人力知識來研發等等。

5. 對於其他台灣半導體公司而言，不像個案公司成為技術領先者，而是技術的跟隨 者，如此，技術預測的重要性似乎沒有那麼地重要。但在半導體行業中的摩爾定律 不光告訴我們技術會一直進步，以滿足圖案線寬每 2~3 年縮小 70% ，晶粒密度就 會增加 2 倍，即使透過各式各樣的製程上的改進，或是增加晶片面積，基本上單位 晶片的晶粒密度，每隔 18 個月會以 2 倍速度增加，摩爾定律也告訴我們，在單位 晶片的晶粒密度，每隔 18 個月會以 2 倍速度增加的同時，晶粒的價格只有原本價 格的一半。如此一來，要投入研發成本資源做技術領先者好呢，還是觀望後做技術 跟隨者去賺那蠅頭小利呢，就要看各公司主事者的雄心壯志了。

6. 在藍圖法（Road-mapping）或稱技術路徑法(Technology Roadmap)，及多逐漸朝「多 國合作」而成為一國際性的活動的同時，台灣的廠商是否願意共同參與這樣的國際 性活動，甚至參與國際研發共同發展新技術來造福全人類？還是只願吸收別人資 訊，不願分享自己成果的自私心態呢？當然自家的智慧財產需要被尊重與保護，但 在國際間這種既競爭又合作的環境中，新職業倫理需被建構以規範這些複雜的利害 糾結關係。

就未來研究方向有以下幾點建議：

1. 針對易經決策法與其他方式做更詳盡的比較。

2. 可以評估是否有必要將六十四卦的方案卦擴充或加上共有三百八十四爻的方案爻 解？

3. 心知力的次序如果在能量均衡的情形下，是否還存在一定次序？何況有許多決策是 在「明知不可為而為之」（心知力不都支持）的情境下要做出的決定。是否可以仍 用心知力方式解釋？或需找出其他方式？

4. 是否有其他易經決策改進方式可以在研發初期就可以更準確預測技術可行性？

參考文獻

[1] S. A. Campbell, The Science and Engineering of Microelectronics Fabrication, Oxford, 1996

[2] D. J. Elliott, Integrated Circuits Fabrication Technology, 2nd Ed., McGraw-Hill, 1989 [3] International technology roadmap for semiconductors (ITRS) 2009 Edition, Lithography;

http://www.itrs.net/Links/2009ITRS/2009Chapters_2009Tables/2009_Litho.pdf [4] 林群新，「技術預測方法」，工業技術研究院

[5] 何錦堂，「科技管理概論」（課程講義），淡江企管，2004 年 9 月 [6] 吳顯東，技術預測-輕鬆上手，資訊市場情報中心，2005/05

[7] 何錦堂，”Technology Forecast” （課程講義），淡江企管，2003 年 9 月 [8] 黎漢林，學易經助決策－心知力均衡觀，布克文化，2009 年 2 月 [9] 網路資料，

http://www.people.com.cn/mediafile/200309/11/F2003091120264700000.JPG [10] 徐宇辳，易經應用要論，宋林出版，1998 年 7 月

[11] 閆修篆，易經的圖與卦，五洲出版，1995 年 5 月

[12] 網路資料，http://pic4.nipic.com/20091117/3752136_111909083628_2.jpg [13] 網路資料，http://www.taichie.com/lunwen/119/h119-6_clip_image006.gif [14] 張其成，易圖探秘，中國書店 2002 年 1 月

[15] 網路資料，http://www.360doc.com/content/10/0508/23/24811_26721713.shtml [16] 網路資料，www.zhouyiyouxi.com/XLZH/upload/Image/77.jpg

[17] 網路資料，www.yaintech.com/pohwong/new_page_449.htm [18] 團正，乾坤譜，網路資料，

http://hi.baidu.com/tuanzheng_shikong/album/%D2%D7%BE%AD%C7%F2%CD%B C%BD%E2

[19] 網路資料，

http://big5.ifeng.com/gate/big5/bbs.ifeng.com/viewthread.php?tid=2783329&page=1 [20] 網路資料，http://www.wretch.cc/blog/yakuzo/12173667

[21] 網路資料，http://yhgkgs.blog.163.com/blog/static/234112820090256535536/

[22] 網路資料，http://bbs.guoxue.com/viewthread.php?tid=559893

[23] Chan-Tsun Wu, Hung Ming Lin, Wei-Ming Wu, Meng-Hsun Chan, Benjamin S. Lin, Kuan-Heng Lin, Andrew J. Hazelton, Toshio Ohhashi, Katsushi Nakano, Yasuhiro Iriuchijima, Chunhsin Lee, and Long Hung, “The rapid introduction of immersion lithography for NAND flash: challenges and experience”, Proc. SPIE Vol. 6924, 69241A, 2008

[24] Cheng Y. Fang, Kuei-Chun Hung, Z. H. Huang, Benjamin Szu-Min Lin, Shu-Hao Hsu, Yeong-Song Yen, Paul P. Yen, Jiunn-Ren Huang, Hua-Yu Liu, “Challenges of 50-nm gate process in alternating phase shifting lithography”, Proc. SPIE Vol. 4690, p.

391-402, 2002

[25] Hung Lin Cho, Shu Yi Lin, Frank Hsieh, Armen Kroyan, Hua-Yu Liu, Jason H. Huang, Shu-Hao Hsu, I-Hsiung Huang, Benjamin Szu-Min Lin, Kuei-Chun Hung, “Practical approach for AAPSM image imbalance correction for sub-100-nm lithography”, Proc.

SPIE Vol. 5130, p. 778-786, 2003

[26] Kuei-Chun Hung; Benjamin Szu-Min Lin; Hsien-an Chang; Alex Tseng; Lien-Sheng Chung; WeiJyh Liu; Der-Yuan Wu; Peter Huang, “Comparison between 2-phase-shifting mask and 3-phase-shifting mask on application of printing

low-duty-ratio contact array patterning”, Proc. SPIE Vol. 4000, p. 1371-1382, 2000 [27] Stephen Yuen, Sem Huang, Yongmei Chen, Liyan Miao, Kevin Tai, Amiad Conley, and

Ian Liu, “Challenges of 29nm half-pitch NAND Flash STI patterning with 193nm dry lithography and self-aligned double patterning”, Proc. SPIE Vol. 7140, 714021, 2008 [28] S. Wolf and R. N. Tauber, Silicon Processing for the VLSI era, Vol. 1, Lattice Press,

1986

[29] M. C. Chiu, Benjamin Szu-Min Lin, M. F. Tsai, Y. S. Chang, M. H. Yeh, T. H. Ying, Chris Ngai, Jaklyn Jin, Stephen Yuen, Sem Huang, Yongmei Chen, Liyan Miao, Kevin Tai, Amiad Conley, and Ian Liu, “Challenges of 29nm half-pitch NAND Flash STI patterning with 193nm dry lithography and self-aligned double patterning”, Proc. SPIE Vol. 7140, 714021, 2008

[30] Benjamin Szu-Min Lin, David Brandt, and Nigel Farrar, “High power LPP EUV source system development status”, Proc. SPIE Vol. 7520, 752007, 2009

[31] Frank Palmieri, Michael D. Stewart, Jeff Wetzel, Jianjun Hao, Yukio Nishimura, Kane Jen, Colm Flannery, Bin Li, Huang-Lin Chao, Soo Young, Woon Chun Kim, Paul S. Ho, C. Grant Willson, “Multi-level Step and Flash Imprint Lithography for Direct Patterning of Dielectrics”, Proc. SPIE Vol. 6151, 61510J, 2006

[32] S. Y. Chou, P. R. Krauss, W. Zhang, L. Guo, and L. Zhuang, “Sub-10 nm imprint lithography and applications”, J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 15, No. 6, pp. 2897-2904, 1997

[33] M. Colburn, S. C. Johnson, M. Stewart, S. Damle, B. J. Jin, T. C. Bailey, M. Wedlake, T.

Michaslson, S. V. Sreenivasan, J. G. Ekerdt, and C. G. Willson, “Step and Flash Imprint Lithography: An Alternative Approach to High Resolution Patterning”, Proc. SPIE, Vol.

3676, pp. 379-389, 1999

[ 34 ] X.-M. Zhao, Y. Xia and G. M. Whitesides, “Soft lithographic methods for nano-fabrication”, J. Mater. Chem. 7(7), 1069–1074, 1997

[35] S. J. Lin, W. C. Wang, Jack J. H. Chen, Faruk Krecinic, Burn J. Lin, Guido de Boer, Erwin Slot, Remco Jager, Stijn Steenbrink, Bert-Jan Kampherbeek, and Marco Wieland,

“Imaging performance of production-worthy multiple-E-beam maskless lithography”, Proc. SPIE Vol. 7520, 752009, 2009

[36] S. J. Lin, W. C. Wang, P. S. Chen, C. Y. Liu, T. N. Lo, Jack J. H. Chen, Faruk Krecinic, and Burn J. Lin, “Characteristics performance of production-worthy multiple e-beam maskless lithography”, Proc. SPIE Vol. 7637, 763717, 2010

[37] E. Slot, M.J. Wieland, G. de Boer, P. Kruit, G.F. ten Berge, A.M.C. Houkes, R. Jager, T.

van de Peut, J.J.M. Peijster, S.W.H.K. Steenbrink, T.F. Teepen, A.H.V. van Veen, B.J.

Kampherbeek, “MAPPER: HIGH THROUGHPUT MASKLESS LITHOGRAPHY”, Proc. SPIE Vol. 6921, 69211P, 2008

[38] 于増恩，宇宙的本性與規律—(三)易經宇宙物理講學， 北方出版，2009 年 1 月 [39] 劉君祖，決策易，牛頓出版，1993 年 11 月

[40] 施純協，e 時代的易學，知行文化，2003 年 6 月

[41] 吳錦勳，「張忠謀的愛將林本堅讓台積電在未來八年技術領先」，商業週刊，第 891 期

[42] 成中英，C 理論—易經管理哲學，東大圖書，1995 年 7 月