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第三章 研究方法設計

3.2 AOI 軟體部份

3.2.2 影像二值化

影像二值化為一個簡單、快速的影像強化工具。本研究擬使用影像二值化來突顯 瑕疵、略去背景。

二值化是根據所選定之閥值,將灰階影像中各像素點(Pixels)之灰階值歸為兩

首先我們定義以下二個名辭:「耀點」(Shine point)與「光暈」(Halo),用以界定 高對比與低對比瑕疵。「耀點」為瑕疵影像中明顯之亮點,與背景之對比較好,可明 確地藉由二值化切割出來,對側照式光纖光源下突顯效果較好之瑕疵,如:粉塵…等,

會形成耀點,而耀點大小即為適當的高對比瑕疵大小估計指標,而對側照式光纖光源 下突顯效果較差之瑕疵,如:刮痕、水痕…等,則不會產生,在實際應用上我們將灰 階值大於一定值之點視為耀點,此值則定義為High threshold (HT);而「光暈」則是 伴隨耀點周圍,灰階值介於耀點與背景之間的部份,如圖3.20(c) 部份即為光暈, 部 份則為耀點。通常瑕疵產生耀點則常會伴隨著較嚴重的光暈,反之則光暈不明顯。

(a) Original image (b) Image after mapping (c) 耀點與光暈 圖3.20 耀點與光暈圖例

本研究將瑕疵依光源突顯效果分為三種類型,如表3.3 所示,主要有兩個目的:

(1)能依瑕疵種類的不同選取適當之影像處理方法、(2)藉由瑕疵分類判斷重工方式;

一般來說粉塵、纖維、裂痕…等較立體之瑕疵,在側照式光纖光源下的突顯效果較好,

成像亮度較高,形成耀點,但同時瑕疵周圍會產生光暈,使得瑕疵被放大,造成瑕疵 面積的過度估計,而刮痕、水痕、部份粉塵(小而具透光性,如:玻璃碎屑)…等立體 特性較差之瑕疵,在側照式光纖光源下的突顯效果較差,成像亮度會界於背景與耀點 之間,但在面積估計上較不易受到光暈之影響;第三類則是瑕疵影像有耀點卻無明顯 光暈之瑕疵,通常是因為耀點周圍有低對比瑕疵,通常發生於多種瑕疵疊合或是裂 痕。在製程上,前兩類瑕疵中粉塵及纖維的可經由高壓氮氣進行清除,而其他種類之 瑕疵則無重工價值。

為了能正確地找出這三類瑕疵,本研究取二種二值化閥值:Low threshold(LT)與 High threshold(HT),其中 LT 用以切除背景,突顯瑕疵; HT 則用以切除背景與光暈,

尋找耀點。表3.3 中瑕疵影像為例,(LT,HT)=(16,26), 部份為灰階值小於 LT 的相素,

即背景; 部份為灰階值大於HT 的相素,為 Type II defect,即前文定義之「耀點」;

部份為灰階值介於LT 與 HT 之間的相素,可能是光暈或是 Type I defect。

表3.3 光源突顯效果分類表 Else defect blob is a type III defect

(a)耀點周圍為光暈 (b)耀點周圍為低對比瑕疵 圖3.21 光暈與低對比瑕疵

圖3.22 為本研究所提出之瑕疵種類判斷流程圖,待測影像經過 low threshold binarization(LTB)與 high threshold binarization(HTB)後,比對二者之結果,對每個瑕疵 Blob,判斷 Blob 中是否有耀點存在,若瑕疵 Blob 中無耀點則判定為 Type I defect;

若瑕疵Blob 中有耀點則藉面積檢定判斷耀點周圍是光暈或是低對比瑕疵,若耀點周 圍為低對比瑕疵,則判定瑕疵為Type III defect 若耀點周圍為光暈,則判定瑕疵為 Type II defect。

圖3.22 瑕疵種類判斷流程圖

在完成瑕疵的分類後,為達成對應不同瑕疵使用適當的強影像化處理之目的,對 應三種瑕疵使用不同的二值化方法,Type I defect 與 Type III defect 使用 LTB,而 Type II defect 則使用 HTB,得到適當的二值化強化影像以進行之後的 Blob analysis。以表 3.3 中的瑕疵影像為例,對 Type I defect 與 Type III defect 來說,LTB 之結果(表 3.3 中 實例影像 部份)為適當的強化影像,而對 Type II defect,HTB 之結果(表 3.3 中實例 影像 部份)才是適當的強化影像。

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