第二章 基本原理
2.3 橢圓特性參數 Ψ 和 Δ 之定義
根據馬克斯威爾方程式 ( Maxwell equations ) 和介面條件 (Boundary condition) 可導出介質表面的反射係數及穿透係數。
這就是 Fresnel equations,其中
:為平行入射面方向之反射振幅係數 rp
s p
r
= r
tanΨ , Δ=δp−δs
:表反射光在平行入射面與垂直入射面之振幅大小比值 Ψ
tan
Δ :表反射光在平行入射面與垂直入射面之相位差
這 兩 參 數 通 常 被 命 名 為 橢 圓 偏 光 參 數 (ellipsometric parameters),橢圓偏光儀所能測得的即為此參數,如何藉此參數轉 換為光學常數則須先了解偏極光經介質反射時所遵循的物理模式即 可推算,以下介紹兩種模式。
(1) 塊狀物 (bulk medium):單次反射型態 (如圖 2-5)
θ0
θ1
N0
N1
(介質 0)
(介質 1)
圖 2-5:單次反射型示意圖
當平面光波照射在各向同性 (isotropic) 、具吸收的介質 (如 金屬或半導體) 中,其折射率 (complex refractive index) 應為複 數 N ,故其表示法為 N =n−ik ,其中 n 為該介質的折射率 (index of refraction),k 為介質的消光係數 (extinction coefficient),
我們可由方程式 (2.19a)、(2.19b)、(2.20)可以知道橢圓偏光參數 (Ψ,Δ) 與物理參數 (N0,N1,θ0) 之函數關係。
(2) 薄膜型式 (thin film):多次反射型態 (如圖 2-6)
d θ1
N0
N1
N2
θ0
圖 2-6:多次反射型示意圖
在橢圓偏光量測中最常使用的一種情形正是薄膜量測,此種型態
γ
2.4 反射光之史托克參數 (Stoke Parameter) 與穆勒矩陣 (Mueller Matrix)
在反射式的架構下,x 軸是平行入射面方向,y 軸是垂直入射 面方向。
入射光的史托克參數 (Stokes Parameter)
*
反射光的史托克參數 (Stokes Parameter)
*
所以一各向同性待測物 (isotropic sample) 之穆勒矩陣 (Mueller
2.5 光彈調變器(Photo-Elastic Modulator,簡稱 PEM)
光彈調變器是一種利用光彈效應來調變入射光穿透後偏振狀態 的儀器。當一各向同性、具穿透性之晶體受外在應力影響時,我們可 以根據實驗室座標將外加應力拆解成三個分向量,此時原本為各向同 性之晶體,其三個正交方向之折射率會隨三應力分量之大小而發生相 對應之變化,此時若有偏振光入射時,便會表現出雙折射現象,而這 種效應便稱為光彈效應。本實驗室所使用之光彈調變器為 Hinds 公司 之 PEM-90,其主體包括三個部分:光學頭、控制器與驅動器(圖 2-7)。 光學頭由一個各向同性之晶體(氟化鈣)與一個具有壓電性質之石英 所組成(圖 2-8),透過控制器,可以調製 PEM 的調變振幅與對應光 之波長,在經由驅動器將訊號轉變為石英共振頻率之電壓變化而輸 出,石英晶體兩端鍍有電極,在驅動器調製下產生沿 Z 軸方向之時變 電場,此時石英因壓電效應,會沿電場方向產生週期性的收縮、膨脹,
因形變所產生的應力沿縱向方向傳播,並擠壓與之相黏合的各向同性 晶體,造成晶體折射率變化。驅動器輸出之電場頻率需配合石英晶體 與光學晶體之物理特性,讓兩晶體能達到最穩定的共振狀態,則輸入 電場的頻率與光學晶體產生光彈效應的頻率相同;此外並可藉由控制 電場的大小來調整光學晶體產生雙折射效應的變化,達到改變調變深 度的效果。
圖 2-7:PEM外觀及功能介紹
氟化鈣
圖 2-8:光彈調變器光學頭構造示意圖
圖 2-9:PEM調變振幅為 4
λ
2.5.1 光彈調變器的機制表示法
光彈調變器的時變相位延遲可表示如下:
) ( )
sin(
) ( ) ,
( λ δ
0λ ω δ
iλ
P
t = t +
Δ
(2.21) 其中δ
0( λ )
為調變振幅大小,可以藉由外加電壓大小來控制,而δ
i( λ )
為靜態相位延遲,是製造光學晶體過程中或光學晶體與石英晶體膠著 時所產生殘餘應力的結果。根據文獻的記載,在一個良好設計與製造 的光彈調變器中,此靜態相位延遲通常小於0.2°,所以大部份系統較 少考慮此原因造成的量測誤差,因此可將光彈調變器的時變相位延遲 簡化如下:) sin(
) ( ) ,
( t
0t
P
λ = δ λ ω
Δ
(2.22) 光彈調變器可視為一個隨時間改變的線性單軸晶體,其MuellerMatrix可以表示如下(光軸設在0度):
⎥ ⎥
⎥ ⎥
⎦
⎤
⎢ ⎢
⎢ ⎢
⎣
⎡
Δ Δ
−
Δ
= Δ
P P
P P
M
PEMcos sin
0 0
sin cos
0 0
0 0
1 0
0 0
0 1
(2.23)
2.6 偶 氮苯化合物(Azobeneze)之簡介
圖 2-8:偶氮苯分子結構
偶氮苯化合物(Azobeneze)主體結構由兩個苯環,中間以氮氮 (Nitrogen)雙鍵相連所組成,此部分之結構稱為『發色團』
(
Chromophore
),它是偶氮基化合物能夠具備顏色的主要原因,當我們用不同官能基取代苯環上的氫原子時,我們可以藉此控制偶氮苯化 合物所呈現出的顏色,此時外接的官能基所扮演的角色便稱做『助色
團』(
Auxochrome
),這兩個性質讓偶氮基化合物在染料工業上扮演相當重要的角色。
除了以上的重要性外,偶氮苯化合物在非線性材料領域中也越來 越受眾人矚目,以下我們將介紹有關偶氮苯化合物被光激發後所產生 的變化:光致異構化反應、角度燒孔效應、光致雙折射效應。
2.6.1 光致異構化反應[7]
偶氮苯化合物(Azobeneze)分子的特性中,若以此分子可吸收 波段的光照射時,則此偶氮苯化合物分子將會藉由吸收光子能量而發
生光致異構化(Photoisomerization effect)反應,即指當偶氮苯化 合物(Azobeneze)分子以一適當波長的光照射之,經由光激發後,
會產生結構上改變的效應。偶氮苯化合物(Azobeneze)具有兩種同 素異構形式:trans 態以及 cis 態。其分子的穩態為 trans 態,一 般而
的 方式再回到穩定的 trans 態。最簡單的表示方法如下:
圖 2-9:偶氮苯化合物光致異構化示意過程
位能井 nergy barrier)不同,前者一般比後者之位能井高(圖 2-11)。
言,分子會保持在最穩定的狀態,然而當吸收光子經過同分異構 化反應後,偶氮分子之結構會由 trans 態變至 cis 態(準穩態),
但由於 cis 態並非穩定狀態,所以 cis 態分子會在由熱或光激發
下面是一個典型的例子:
例如:Desperse Red 19 (DR19):
DR19 trans form DR19 cis form
圖 2-10:DR19 光致異構化示意過程
trans 態分子呈棒狀;cis 態分子呈彎曲狀。
分子由 trans 態躍遷至 cis 態與 cis 態躍遷至 trans 態的 (E
2.6.2 角度燒孔效應
圖 2-12:角度燒孔效應 因為偶氮苯化合物分子對光的吸收率
圖 2-11:trans 態與 cis 態之能階示意
θ
cos2∝
P ,θ為偶氮苯化合物
電偶矩方向(正二色性偶氮苯化合物分子的電偶矩方向平行分子長軸
方向)和光場方向的夾角,所以偶氮苯化合物分子的導軸方向越平行 光方向,偶氮苯化合物分子越容易受到光場的激發成為激發態。
2.6.3 光致雙折射效應
微觀上,每一個偶氮苯化合物分子均可視為單軸雙折射晶體,當 摻雜在基材中時,若無特殊處理下,其分子長軸方向之分佈為隨機排 列,因此巨觀上,塊材所顯示出之光學性質為各向同性(isotropic), 當我們用其吸收譜段之光去激發塊材時,摻雜在基材之中的偶氮苯化 合物分子會開始發生結構上的變化,由穩定的 trans 態變化至不穩定 之 cis 態,在光致發同分異構過程中,由於電偶極矩(Electric dipole moment)平行或接近平行入射光極化方向的偶氮苯化合物分子有較大 的吸收率,故此部分的分子具較大的機率由 trans 結構轉變成 cis 結 構,因此造成 trans 分子分布角度的不對稱,在平行或接近平行極化 方向的角度,分子大都轉為 cis 結構,而在其他角度,分子仍維持 trans 結構,此過程稱為角度燒孔效應(Angular hole burning effect)
效 (Molecular reorientational effect)[8]。利用此兩種機制排列
之排列便會表現出雙折射效應。
(圖 2-12)[8]。cis 結構分子再經由熱能釋放轉變回 trans 結構,
但偶氮苯化合物分子的電偶極矩並不一定回到原來的方向,即使回到 原方向,其仍會被再激發,經數次重複的激發,分子逐漸旋轉至與激 發光極化方向垂直之方向並形成非均向分布,此過程稱為分子轉向 應
分子的方向,使其產生有序
2.7 光致線性雙折射量值之量測
實驗架構如上圖所示,以史脫克向量 (Stokes vector) 表示 出射偏振片之偏振態,通過光彈調變器(PEM) Detector
PEM
Analyzer Polarizer
DR19/PMM
t
p
= δ
0sin ω t = 2 π Δ
0sin ω
Δ
,Δ
0為相位調變振幅,ω為調變頻率(51k Hz)。將偏振片與析光片分別設在-45 度和+45 度,經矩陣運算後所得到的 Stokes vector 第一項即為光強度,如下:
)
γ
因此我們可以利用一倍頻電流與二倍頻電流強度來求得 和 LB 量值,
在此
(2.29b)
經由(2.29)兩式,我們可以拆解出 LB 與 先歸一化兩倍頻電流之強度:
) ( ) 2 ( ) 2 ( 2
' I
1J Cos Sin LB
I =
f= π Δ γ
(2.29a)γ
的量值,細節將於第四 節闡述。)]
2 (
2
γ
dc
) 2 ( )
( )[
2 ( 2
'
2 2 0 22
I J π Cos LB Cos γ Sin
I
f= I
f= − Δ +
0 1
1f
I
dc
2.8 激發光源強度修正
在調整激發光源入射樣品的角度時,樣品上的照射區域會隨入射 而影響偶氮苯分子受光激發後
會考 素,確保樣品表面之功率密度為一定值。
令雷射功率為 P,則垂直照射時樣品表面之功率密度 D 為:
斜向照射時,入射角為θi,照射面積為A',則樣品表面之功率 密度D'為:
因此若要使 D=D',則入射光功率 P'應調整為:
角變大而擴大,導致功率密度下降,進
之變化,因此為了確保探測區域中之分子在改變角度的情形下,其變 慮角度因 化不受功率密度稀釋之影響,我們在改變入射角時,均
A
θi A’
圖 2-14:照射區域功率密度與入射角之關係 A
) (mW/cm
A P
D =
2 (2-30)) (mW/cm
A cos P' A' P'
D' = =
2 (2-31)θ
(mW)
cos P
P' = θ
(2-32)第三章 實驗步驟
ight Technology 3. Polarizer,Analyzer:Melles Griot 03FPG015 sheet polarizer of
extinction ratio 10-4
4. PEM ( Photoelastic Modulator ):
5. De r:Thorlabs PDA55 silicon pin diode Spectral Range:400~1000 nm
6. DAQ card (Data Acquisition card) 7. BNC Adapter:NI BNC-2110
8. DR19/PMMA:0.2 wt. %,thickness 1.74 mm
3.2 實驗架構 3.2.1 穿透率之量測
我們將樣品置於 crossed 架構下的偏振片與析光片中,在 532nm 綠光雷射持續照射下,觀察其穿透率之變化。
3.1 實驗器材及規格
主要裝置規格為:
1. He-Ne Laser: Melles Griot laser 10 mW 2. Green Laser Module:532 nm 30mW LeadL
Hinds instruments,PEM-90 tecto
:NI PCI-6115
圖 3-1:穿透率量測架構示意圖
之
632.8 nm
532 nm
Polarizer @ -45° Analyzer @ +45°
Detector DR19/PMMA
Polarizer @ 0°
632.8 nm
532 nm
Polarizer @ -45° Analyzer @ +45°
Detector DR19/PMMA
Polarizer @ 0°
3.2.2 LB 量值
度、激發光之強度與偏振態,利用數據擷取卡擷取光強度訊號,分析 其雙折射性質之變化。
之量測
(a)
(b)
圖 3-2:線性雙折射量值量測架構示意圖 (a)斜向激發
(b)垂直激發
將樣品置於光彈調變式橢圓偏光儀之架構下,分別改變樣品角
訊號後可得出樣品受光激發下,
3.3 樣品角度之校正
由於我們會在不同角度下量測樣品之折射率與 LB 值變化,因此 們必須確定樣品之角度,利用 BK7(折射率 1.515)當作校正用之 品,在光彈式橢圓偏光儀架構下,量測並分析其光強度訊號,經由 算後可得其角度。
4 激發光源之穩定度
由於激發光之強度對 DR19/P LB 量值影響很大,因此必須 保綠光雷射維持穩定之輸出,我們使用 ThorLAB 之 PDA55 Detector 偵測綠光光源之穩定性,Gain 調整為 0,Responsivity 約為 0.4328,
計算後可得綠光雷射輸出功率。
我 樣 計
3.
MMA 之 確
來 經
圖 3-3:Detector Responsivity
圖 3-4:Gain Settings
上圖為雷射連續開啟兩小時之功率變化,由圖可知,功率輸出之 平均值落在 20.15mW/cm2, 上下震動幅度均在 0.3%內,因此其穩定
圖3-5:Laser Power Density
度值得信賴。
第四章 實驗結果
實驗樣品 4.1
次實驗之樣品是由交通大學電子物理所林烜輝教授提供,於 PMMA 材中摻雜染料分子 DR19,DR19 之重量百分比為 0.2 wt.%,以 下均以 DR19/PMMA 代稱此樣品。
次實驗之樣品是由交通大學電子物理所林烜輝教授提供,於 PMMA 材中摻雜染料分子 DR19,DR19 之重量百分比為 0.2 wt.%,以 下均以 DR19/PMMA 代稱此樣品。