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第三章 理論模擬實驗方法與結果與討論

3.2 漫反射器模擬結果與討論

漫反射器具有低溫製成、低成本、高產出的優點,製程方法能使用溶膠-凝膠法 (sol-gel)[13-15],或是其他濕蝕刻製程,相對容易製造出反射鏡,不需要進行微影、蝕 刻。但是仍需要進行更詳細的分析,以了解高反射率背後的設計限制、最佳化及物理。

特別是嵌入的二氧化鈦散射物質,其幾何形狀的設計與最佳化研究非常重要。

因此在這部分的研究中,我們會利用頻域耦合波方法,針對兩種漫反射器進行反射 率的模擬,分別模擬有序陣列的二氧化鈦漫反射器,以及無序陣列的二氧化鈦漫反射器,

接著,利用時域有限差分法計算,進行驗證。漫反射結構如圖 21 所示,包含高折射係 數的二氧化鈦奈米粒子,鑲嵌在低折射率為主的材料中,像是有機聚合物或氧化物介電 質[13]。嵌入的二氧化鈦奈米粒子有超優異的光散射特性,造成高反射率以及光捕捉機 制。設定上,將高折射係數 nH定義為二氧化鈦奈米粒子,低折射係數 nL定義在 1.4 到 1.7 的範圍內。

3.2.1 有序陣列

透過基因演算法(GA)進行結構最佳化後,得到 dV=0.188μm、dH=0.161μm、

D=0.396μm、L=0.2768μm,能得到最佳的寬頻反射率。圖 29(a)呈現出二氧化鈦規則陣 列的漫反射器,經過最佳化後的反射率圖。圖 29(b),1-R 的半對數圖,進一步顯示出 光譜響應的高反射率相對值。由於二氧化鈦散射物質的能隙約為 385nm,因此二氧化鈦 介電鏡的應用會被小於能帶的光子能量給限制。圖 29 無法達到非常寬的高反射率帶,

因此對於規則性陣列的二氧化鈦來說,建設性干涉只能存在於很窄的波段內。1-R 的反 射能帶由 822.5nm 到 902.5nm,1-Ravg=2.9264×10-7,這是很高的反射率,但是高反射率 只限制在很窄的頻寬內,無法達到太陽能光電系統所要求的頻寬。

θ

avg

θ

scatt

=90

o

avg

Reflectance light

Incidence

28

(a) (b)

圖 29(a)二氧化鈦有序陣列的漫反射器經過最佳化後的反射率頻譜圖,(b)1-R 的頻譜對 數圖

3.2.2 無序陣列

透過基因演算法進行結構最佳化後,得到 dH=25 nm、D=0.229μm、L=0.071μm,能 得到最佳的寬頻反射率,而 dV是 64 個參數陣列。圖 30 中,表示出二氧化鈦漫反射器 的反射率的頻譜圖,顯示出反射率、吸收率以及穿透率。可以發現最佳化之後,反射率 在 10nm 到 300nm 的頻譜間大幅降低,在圖 30(b),1-R 的半對數圖,進一步顯示出光譜 響應的高反射率相對值,大部分的反射率會超過 0.99,約佔整個頻譜的 80%,證實漫反 射器能得到超高寬頻。1-R 的反射能帶由 387.5nm 到 1202.5nm,1-Ravg=0.0087,1-Ravg

的反射率值比有序陣列的二氧化鈦散射物質大,表示其反射率比起有序陣列的二氧化鈦 漫反射器更低,但是反射帶卻更寬了許多。雖然反射率會在λ小於 400nm 處迅速降低,

因為在這波長下的光會被二氧化鈦給吸收掉,但對於太陽能電池有興趣的頻譜範圍,是 400nm 到 1200nm,因此,無規則性陣列的二氧化鈦反射鏡,非常適合需要寬頻的光電系 統進行實現與應用。而大部分的反射帶中,無規則陣列的反射鏡頻寬佔了總頻寬的 80%,

反射帶中的反射率皆大於 0.99,代表它具有優秀的光捕捉機制。而他會具有非常寬的反 射帶,是因為沒有金屬吸收造成的損失。

29

(a) (b)

圖 30(a) 二氧化鈦無序陣列的漫反射器,經過最佳化後的反射率頻譜圖反射率(b)1-R 的 頻譜對數圖

3.2.3 時域有限差分法驗證

為了證實時域有限差分法計算結果的合理性,我們使用時域有限差分法來驗證結果,

在本實驗中,模擬的區域很大,包含N=64層的二氧化鈦散射物質陣列,又使用三維結構,

使中央處理器在運行大型結構的時間很漫長,但基於波動光學在未來會需要漫反射器設 計,因此非常需要頻率為主的計算方法。因此,這裡只針對幾個特定頻率的反射率進行 運算,以驗證時域有限差分法的結果。在這項實驗中使用和上一章節3.2.2無序陣列相 同的模擬條件,可以看出圖31整個都處於高反射帶,時域有限差分法模擬也同時呈現非 常高的反射率,接近1,和頻域偶合波的計算分析結果是一致的。

圖 31 在不同頻率下量測到的反射率。

30

3.2.4 隨機性漫反射器

對於無序漫反射器的關鍵問題,是在現實中,最佳化的間距可能無法被實現,這取 決於製程過程控制。為了表示無規則性漫反射器,在不是最佳化的情況之下,二氧化鈦 優秀的反射率特性依舊不會消失,因此進行模擬許數個隨機分佈的漫反射器反射率頻譜。

在這裡,dV(1)、dV(2)、…、dV(N)都是由 10nm 到 300nm 間隨機選取,他們沒有經過基 因演算法進行最佳化。D、L、dH參數則和無序陣列中的最佳結構參數相同。

圖 32 呈現數個反射率頻譜圖,每個結果都是是隨機亂數決定散射體的二氧化鈦之 間的垂直間隔,雖然沒有進行最佳化,但結果仍然顯示出寬能帶反射率。和最佳化的二 氧化鈦漫反射器的反射率頻譜比較後,發現亂數決定的漫反射器,只有在某些波長下反 射率才有些微降低,表示未來非常有希望實現漫反射器製成,,因為現實中二氧化鈦在 低折射係數的主要材料中是隨機分佈的,在無法實現最佳化的情況下,依舊能得到寬反 射能帶。

圖 32 隨機亂數決定的無序漫反射器反射率頻譜圖

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