• 沒有找到結果。

結果及討論

在文檔中 中 華 大 學 (頁 37-80)

有限元素模擬分析對於了解封裝結構的力學行為有降低分析成本,縮短分析時 間的優點。封裝科技的發展至今,封裝體已有相當程度的可靠度。封裝體結構屬性 的關係,欲得到非常準確的結果是無法達成的,最主要因素在於封裝體材料特性的 複雜度。故封裝體的有限元素模擬最主要能量化資料,以利於設計人員參考。本文 結果是以位移變化來探討不同模型改變時,全域模型熱-機行為的探討。

針對球柵陣列及銲錫凸塊,因DNP 效應因此取對角線的錫球作為分析的目標,

圖 4-1 表示任一點的位移有三個方向,UY 為封裝體厚度方向的變形,稱為撓曲,

如圖4-2 (a)。將座標轉對 X 軸轉 45 度至對角線位置,X 方向則為對角線方向,如 圖4-2 (b),並攫取兩錫球上下兩層 X 方向位移相減,稱為同平面 (inplane) 變形。

而圖4-2 (c)為球柵陣列與凸塊層剪應變示意。

在此先行定義欲觀察量化資料的物理量,由每顆凸塊或錫球所取得上下層垂直 方向位移值相減,可得其相對翹曲量,如 4.1 式,再由上下層相對的方向位移差相 減,此為相對同平面位移,如4.2 式所示,將 4.2 式除上該層錫球的厚度可得到剪應 變,如4.3 式。

相對撓曲量 =

UY

= UY

top

UY

bot

(4.1)

相對同平面位移 =

UX

= UX

top

UX

bot

(4.2)

剪應變 =

UX thk / BGA Bump .

(4.3)

其中 為銲錫凸塊或錫球上層垂直方向位移, 則為下層垂直方向位移

值, 為上下兩層相差的撓曲量;

UY

top

UY

bot

UYUX

為上下兩層相對對角線之方向位移值,

thk

為該錫球的厚度。該物理量可以預測錫球變型狀態,進而評估有限元素模擬的結果 是否合理與正確。

(a) 銲錫凸塊分析之對角線 X

Z

Y

(b) 錫球分析之對角線

圖 4- 1 銲錫凸塊及錫球分析之對角線

UY

top

BGA & Bump Layer

UY

bot

(a) 上下錫球層相對撓曲變形

UX

top

UX

(b) 上下錫球層相對同平面位移變形

(c) 上下錫球層剪應變 圖 4- 2 錫球層各物理量示意 BGA & Bump Layer thk

(BGA.Bump)

Z

BGA & Bump Layer Y

X

bot

4-1等效全域模型及球柵陣列非等效全域模型比對

等效全域模型為上下兩層複雜的銲錫接點,以等效結構取代原本結構,而球柵 陣列非等效模型為下層球柵陣列依錫球形狀完整建立,而上層銲錫凸塊則建立等效 層,使用有 Tg 效應的填膠材料。因球柵陣列完整建立,為了保持元素連續性因此 在基板中間做為參考面,以下部分依錫球位置建立及以上部分建立銲錫凸塊等效 層,為使元素減少以減少分析時間,吾人在基板中間設定一束制方程界面 (constraint equations interface, CEINTF),所謂束制方程介面是將兩個同位置平面上,其座標在 25 % 範圍內的節點具有相同位移。圖 4-3 為等效全域模型及球柵陣列非等效全域模 型。

經由錫球及銲錫凸塊之相對位移趨勢,圖4-4 所示,圖中水平軸為對角線長度,

垂直軸為相對撓曲量,中間用兩條線分別設定為構裝體中心到晶片外圍及加強環到 基板邊緣以方便了解球柵陣列和銲錫凸塊的相對位置。球柵陣列非等效模型於球柵 陣列層相對位移量比較大,圖4-4 (a) 0-10 mm 位置球柵陣列上層位移比下層小,相 對翹曲量最小值為 -3 μm,此相對位置大約落在銲錫凸塊間距 400 μm,當相對位置 落在銲錫凸塊間距為200 μm,球柵陣列上層位移則比下層來的大,相對翹曲量最大 值為3 μm 左右,而等效模型的相對位移值則非常小。圖 4-4 (b) 顯示等效模型在球 柵陣列層同平面相對位移量,最大值約1.2 μm 比球柵陣列非等效模型 4.7 μm 來的 小。圖 4-5 凸塊層的相對位移及圖 4-6 兩錫球的剪應變來看,也顯示出兩者模型差 異性太大,造成原因為等效模型因球柵陣列層材料設定為等效線性材料,與完整建 立之球柵陣列模型機械性質差異太大,有此可見將底層球柵陣列完整建立是有必要 性的,因此本文接下來並不考慮等效模型。

X

Y Z

(a) 等效全域模型

Y Z X

(b) 球柵陣列非等效全域模型

圖 4- 3 等效模型與球柵陣列非等效全域模型之外觀

0 5 10 15 20 25 Diagonal location (mm)

-4 -2 0 2 4

R elative w arp age ( m)

BGA equivalent BGA nonequivalent

(a) 球柵陣列層相對翹曲量

-2 0 2 4 6

R elati ve inplane de form ation ( m) BGA equivalent

BGA non equivalent

0 5 10 15 20 25

Diagonal location (mm)

(b) 球柵陣列層同平面相對位移量

圖 4- 4 等效模型與球柵陣列非等效全域模型之球柵陣列層相對位移

0 4 8 12

Diagonal location (mm) 16 -0.012

-0.008 -0.004 0 0.004 0.008

R el ati ve w ar pag e ( m)

BGA equivalent BGA non equivalent

(a) 銲錫凸塊層相對翹曲量

-0.2 -0.1 0 0.1 0.2

R eal at iv e i np la ne d ef or m at io n ( m)

BGA equivalent BGA non equivalent

0 4 8 12 16

Diagonal location (mm)

(b) 銲錫凸塊層同平面相對位移量

圖 4- 5 等效模型與球柵陣列非等效全域模型之銲錫凸塊層相對位移

0 5 10 15 20 25 Diagonal location (mm)

-0.005 0 0.005 0.01 0.015 0.02

shea r de formation

BGA

BGA equivalent BGA non equivalent

(a) 球柵陣列層剪應變

-0.002 -0.001 0 0.001 0.002

she ar

Bump

BGA equivalent

0 4 8 12 16

Diagonal location (mm)

de form ation

BGA non equivalent

(b) 銲錫凸塊層剪應變

圖 4- 6 等效模型與球柵陣列非等效全域模型之剪應變

4-1-1 填膠材料對球柵陣列非等效模型全域的影響

將球柵陣列非等效模型分別使用有無Tg 效應的填膠材料,並與非等效模型不考 慮Tg 效應比對,並觀察銲錫接點的物理量變化,由圖 4-7、4-8 顯示等效銲錫凸塊 模型中,是否考慮 Tg 效應的填膠材料所得到球柵陣列撓曲變型量非常接近,而非 等效模型在不考慮 Tg 效應的填膠材料下,所得到的結果也非常接近。然而銲錫凸 塊層的撓曲變形會因模型不同而有所不同,非等效模型比等效銲錫凸塊模型撓曲變 形來的小。由圖4-9 剪應變來看,亦顯示等效銲錫凸塊模型是否考慮 Tg 效應的填膠 材料,球柵陣列的剪應變並不會相差太多,且也與非等效模型不考慮 Tg 點的填膠 材料符合,而銲錫凸塊層的剪應變,非等效模型相對的比等效銲錫凸塊模型來的小。

依分析結果顯示,等效銲錫凸塊模型再使用不同性質的填膠材料,其第一層及 第二層球所得到的物理量非常接近,而非等效模型在不考慮Tg 效應的填膠材料下,

球柵陣列各物理量與等效銲錫凸塊模型相符,並可假設當模型只考慮球柵陣列可靠 度及不考慮 Tg 效應的填膠材料之下,模型可建立為等效銲錫凸塊模型,可大幅減 少建立模型的困難度及分析時間。

0 5 10 15 20 25 Diagonal location (mm)

-8 -4 0 4 8

Rela tive wa rpa ge ( m)

Bump equivalent (Tg) Bump equivalent (No Tg) Bump non equivalent (No Tg)

(a) 球柵陣列層相對翹曲量

-2 0 2 4 6 8

Re la tive in pl ane de fo rma tion ( m)

Bump equivalent (Tg) Bump equivalent (No Tg) Bump noo equivalent (No Tg)

0 5 10 15 20 25

Diagonal location (mm)

(b) 球柵陣列層同平面相對位移量 圖 4- 7 不同填膠材料之球柵陣列層相對位移

0 4 8 12

Diagonal location (mm) 16 -0.012

-0.008 -0.004 0 0.004 0.008 0.012

R eal at iv e w ar pag e ( m)

Bump equivalent (Tg) Bump equivalent (No Tg) Bump non equivalent (No Tg)

(a) 銲錫凸塊層相對翹曲量

-0.2 -0.1 0 0.1

Re lat ive in pl ane de fo rma tion ( m)

Bump equivalent (Tg) Bump equivalent (No Tg) Bump non equivalent (No Tg)

0 4 8 12 16

Diagonal location (mm)

(b) 銲錫凸塊層同平面相對位移量

圖 4- 8 球柵陣列非等效模型於不同填膠之銲錫凸塊層相對位移

0 5 10 15 20 25 Diagonal location (mm)

0 0.004 0.008 0.012 0.016 0.02

sh ea r def or m at io n

BGA Bump equivalent (Tg) Bump equivalent (No Tg) Bump non equivalent (No Tg)

(a) 球柵陣列層剪應變

-0.002 -0.001 0

0.001

Bump

Bump equivalent (Tg) Bump equivalent (No Tg) Bump non equivalent (No Tg)

ef or m at io n d shea r

0 4 8 12 16

Diagonal location (mm)

(b) 銲錫凸塊層剪應變

圖 4- 9 球柵陣列非等效模型於不同填膠之剪應變

4-2 銲錫凸塊等效及非等效比較

當球柵陣列非等效模型,因銲錫凸塊為等效層,把銲錫凸塊材料設定為等效線 性材料,忽略其塑變及潛變行為。因此將與銲錫凸塊完整建立並加入塑變及潛變行 為相互比對,並使用有 Tg 效應的填膠材料。因兩模型球柵陣列皆為非等效,差異 於銲錫凸塊等效和非等效,因此稱該模型為等效及非等效銲錫凸塊模型,如圖4-10 所示。

銲錫凸塊等效及非等效之比較,如圖4-11、4-12 及 4-13 所示,兩模型分析結果 雖然相差頗大,但因銲錫凸塊高度為0.101 mm 及直徑為 0.0714 mm,球柵陣列高度 為0.399 mm 及直徑為 0.33 mm,其中又以銲錫凸塊相對與整體構裝體尺寸相差較 大,因此大多學者只將球柵陣列完整建立,銲錫凸塊部分大多建立為等效層或者在 外圍建立數顆,並無法比對兩模型的可靠度,因此由全域模型分析再進入次結構分 析得到球柵陣列錫球疲勞壽命,配合文獻上Jagadeesh [39] 實驗所得銲錫接點疲勞 壽命來判斷,在本文 4-2-1 節會介紹。由全域模型分析結果,等效銲錫凸塊模型中 凸塊等效層最大應變為0.00039,非等效銲錫凸塊模型中凸塊最大應變為 0.108892,

如圖4-14。可能造成的原因為等效銲錫凸塊糢型在銲錫凸塊與填膠之等效層,並沒 考慮塑變及潛變行為。等效銲錫凸塊模型中凸塊等效層最大應力為5.61 MPa,非等 效銲錫凸塊糢型中凸塊最大應力為19.2 MPa,如圖 4-15。等效銲錫凸塊模型中凸塊 等效層最大應變、應力發生位置皆在間距200 μm、400 μm 交界,而非等效銲錫凸 塊模型中凸塊最大應變、應力發生位置皆落在晶片邊緣。圖 4-16 及 4-17 為非等效 模型球柵陣列層的應變及應力分布,其中最大應變為0.009716,最大應力為 20.895 MPa,而圖 4-18 及 4-19 則為非等效模形球柵陣列層塑變及潛變分布。

X Y

Z

(a) 銲錫凸塊等效模型

(b) 銲錫凸塊非等效模型

圖 4- 10 等效及非等效銲錫凸塊模型之外觀

-4 -2 0 2 4

Rela tive warpa ge ( m)

Bump equivalent Bump non equivalent

0 5 10 15 20 25

Diagonal location (mm)

(a) 球柵陣列層相對翹曲量

0 5 10 15 20 25

Diagonal location (mm) -2

0 2 4 6

R ela tiv e inpla ne de form ation ( m) Bump equivalent

Bump non equivalent

(b) 球柵陣列層同平面相對位移量

圖 4- 11 等效及非等效銲錫凸塊模型之球柵陣列層相對位移

-0.015 -0.01 -0.005 0 0.005 0.01

Re al at iv e w ar pag e ( m)

Bump equivalent Bump non equivalent

0 4 8 12 16

Diagonal location (mm)

(a) 銲錫凸塊層相對翹曲量

0 4 8 12

Diagonal location (mm) -0.2

-0.1 0 0.1

Re lative in pl ane defo rmation ( m)

Bump equivalent Bump non equivalent

(b) 銲錫凸塊層同平面相對位移量

圖 4- 12 等效及非等效銲錫凸塊模型之銲錫凸塊層相對位移

0 0.004 0.008 0.012 0.016

sh ea r

BGA

Bump equivalent Bump non equivalent

for m at io n ed

0 5 10 15 20 25

Diagonal location (mm)

(a) 球柵陣列層剪應變

0 4 8 12 16

Diagonal location (mm) -0.0002

-0.0001 0 0.0001 0.0002

sh ea r def or ma ti on

Bump

Bump equivalent Bump non equivalent

(b) 銲錫凸塊層剪應變

圖 4- 13 等效及非等效銲錫凸塊模型之剪應變

1

MN

MX

X

Y Z

.358E-04 .751E-04

.114E-03 .154E-03

.193E-03 .232E-03

.272E-03 .311E-03

.350E-03 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =10 TIME=7200 EPTOEQV (AVG) DMX =.013496 SMN =.358E-04 SMX =.390E-03

.390E-03

(a) 等效銲錫凸塊模型球銲錫凸塊應變分布

1

MN

MX

X

Y Z

.00281.014597.026384.038171.049957.061744.073531.085318.097105.108892 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =20 TIME=7200 EPTOEQV (AVG) DMX =.004051 SMN =.00281 SMX =.108892

(b) 非等效銲錫凸塊模型之銲錫凸塊應變分布 圖 4- 14 等效及非等效銲錫凸塊之銲錫凸塊應變分布

1

MN

MX

X

Y Z

.491427 1.059

1.627 2.195

2.762 3.33

3.898 4.465

5.033 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =10 TIME=7200 SEQV (AVG) DMX =.013496 SMN =.491427 SMX =5.601

5.601

(a) 等效銲錫凸塊模型球柵陣列之應力分布

1

MN

MX

X

Y Z

17.33717.55317.76917.98518.20118.41818.63418.85 19.066 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =20 TIME=7200 SEQV (AVG) DMX =.004051 SMN =17.337 SMX =19.282

19.282

(b) 非等效銲錫凸塊模型球柵陣列之應力分布 圖 4- 15 等效及非等效銲錫凸塊之銲錫凸塊應力分布

1

MN

MX

X

Y Z

.294E-03 .001341

.002388 .003434

.004481 .005528

.006575 .007622

.008669 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =20 TIME=7200 EPTOEQV (AVG) DMX =.009072 SMN =.294E-03 SMX =.009716

.009716

圖 4- 16 非等效模型球柵陣列應變分布

1

MN

MX

X

Y Z

1.103 3.302

5.501 7.7

9.899 12.098

14.297 16.496

18.696 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =20 TIME=7200 SEQV (AVG) DMX =.009072 SMN =1.103 SMX =20.895

20.895

圖 4- 17 非等效模型球柵陣列應力分布

1

MNMX

X

Y Z

0 .365E-03

.730E-03 .001095

.00146 .001825

.00219 .002555

.00292 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =20 TIME=7200 EPPLEQV (AVG) DMX =.009072 SMX =.003285

.003285

圖 4- 18 非等效模型球柵陣列塑變分布

1

MN

MX

X

Y Z

.115E-03 .00104

.001966 .002891

.003817 .004742

.005668 .006593

.007519 .008444 NODAL SOLUTION

STEP=25 SUB =20 TIME=7200 EPCREQV (AVG) DMX =.009072 SMN =.115E-03 SMX =.008444

圖 4- 19 非等效模型球柵陣列潛變分布

4-2-1 等效與非等效銲錫凸塊糢型之柵陣列次模型結構分析

在Jagadeesh [39] 以大尺寸覆晶封裝進行熱循環實驗,此實驗樣本為封裝大小 37.5×37.5 mm,晶片大小為 10.9×12.9 mm,PCB 厚度為 2.4384 mm,跟本文所探討 的大尺寸覆晶封裝類似。本文所探討封裝尺寸為31×31 mm,晶片尺寸為 18×18 mm,

PCB 厚度為 2.36 mm。材料方面,文獻上第一層及第二層球皆與本文相符為 Eutectic 低鉛錫球,其餘材料文獻上並沒有太多介紹,在此先假設與本文並無相差太大。負 載方面,文獻上為0 ~ 100 °C,初始溫度為 0 °C 升溫 600 秒至 100 °C,恆溫 900 秒,降溫600 秒至 0 °C,恆溫 900 秒此為一個循環,本文負載設定恆溫為 600 秒,

其餘皆與文獻相同。將兩模型在全域模型分析之後,進行次模型分析,兩模型球柵 陣列錫球次結構皆選取7×7 至 10×10 的錫球位置作為次結構模型,如圖 4-20,圖中 虛線為上層晶片相對於球柵陣列的位置。並代入公式 Coffin-Manson 疲勞壽命預測 針對球柵陣列錫球壽命,並與文獻實驗進行比較。

等效銲錫凸塊糢型中球柵陣列次模型分析出來結果最大應變發生在7×7 位置上 為 0.07791,非等效銲錫凸塊糢型中球柵陣列次模型最大應變則在 10×10 為 0.127356,如圖 4-21 至圖 4-24 所示。圖 4-25 至圖 4-28 為兩模型球柵陣列次模型的 應力分佈,分析結果兩模型球柵陣列錫球應力並沒有相差太大。

10 × 10 9 × 9 8 × 8 7 × 7

圖 4- 20 球柵陣列次模型選定位置

在文檔中 中 華 大 學 (頁 37-80)

相關文件