本論文利用具譜線解析之近場掃描顯微術研究D0 結構光子晶 體微共振腔雷射之光學特性。首先從變功率微螢光光譜量測得知，增 加激發功率使缺陷模態強度增加、半高寬變窄及模態波長藍移。當激 發功率超過臨界功率，產生居量反轉且發光機制轉為受激輻射時，載 子會立刻藉由受激輻射轉換成光子，使得載子濃度被箝住於一定值。
藉由譜線解析近場光學掃描系統，可觀察光子晶體共振腔產生雷射過 程中的光強度、半高全寬及波長的空間分布。從半高寬分布的結果可 以發現光子晶體共振腔皆由缺陷中心開始產生雷射；並隨著激發功率 增加，產生雷射的區域逐漸擴大。區域性的激發導致激發的平衡載子 濃度在不同位置都不盡相同，電場強的地方輻射複合機率高，故平衡 載子濃度高。此外，從高於臨界功率的波長分布，我們可以得知在不 同區域達到臨界載子濃度的條件不同。在我們的研究中發現，雙重模 態具有空間上的競爭效應，也就是說空間上並非兩個模態都能產生，
若能控制激發的區域，也就能控制雷射產生的模態。
藉由譜線解析近場光學掃描系統，可以有效的了解光子晶體雷射 產生以及載子的空間分布分布情形，進而能夠研究光子晶體雷射微觀 光學性質。
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