6.1 結論
矽晶片破壞原因有許多原因,在學期間針對不同的時間點與指導教授進 行討論並且獲得改善成效,如表 6.1 所示。在學期間依據指導教授指示的 研究主題進行探討與改善成果的歸納整理表。每一項討論主題都代表矽晶 片破裂持續被改善,矽晶片破裂的良率從原本的 60%提升至 95.31%成功的 改善矽晶片破裂的問題也達成當時所設定的目標。
表 6.1 研究主題及改善成果
本論文可得出下列幾點結論
(1)頂針機構進行頂起矽晶片時由於是接觸式作業,若頂針於裝置時產生 高低現象容易造成頂起矽晶片時產生破壞,而頂針裝置標準作業流程 需被納入生產線作業規模中供作業人員遵循可降低人員裝設頂針的 異常。
(2)吸取矽晶片所使用的吸嘴採用全平面方式可增加吸取矽晶片的強
晶機頂針機構最佳化設計。
6.2 未來研究方向
本論文的研究主旨為探討將矽晶片頂起的頂針機構設計改良,頂針機構 是藉由頂針頂起並且碰觸於矽晶片背面將晶片自膠膜中取出,雖然目前良 率能已達到一定的水準但由於採取接觸性作業方式對矽晶片仍可能有應力 殘留或是接觸性破壞的疑慮。未來將進一步探討非接觸(無頂針式)方式作 業減少矽晶片接觸破壞的問題,對於產出預期會有更大的改善。
參考文獻
[1] 黃紹庚, 「堆疊晶片封裝體熱變形與熱應力之分析與量測」, 長庚大 學, 碩士論文, 2004。
[ 2 ] J . D . W u , C . Y . H u a n g , C . C . L i a o , “ F r a c t u r e s t r e n g t h characterization and failure analysis of silicon dies", Microelectronics Reliability, 43, pp.269-277, 2003.
[3] K.Subramanian, S.Ramanath, M.Tricad, “Mechanisms of
Material Removal in the Precision Production Grinding of Ceramics", Journal of Manufacturing Sciences and Engineering, 199, pp.509-519, 1997.
[4] I.Inasaki, “Grinding of Hard and Brittle Material", Annals of the CIRP, 36, pp.463-471, 1987.
[5] Yeong.Jyh.Lin, Sheng.Jye.Hwang, “Static Analysis of the Die Picking Process", IEEE, 28, pp.142-149, April 2005.
[6] Atila Mertol, “Application of the Taguchi Method to Chip Scale Package(CSP) Design", IEEE, 23, pp.266-276, May 2000.
[7] 鍾文仁,陳佑任, IC 封裝製程與CAE應用, 初版, 全華, 台北市, 2003。
[8] 郭嘉龍, 半導體封裝工程, 初版, 全華, 台北市, 1999。
[9] 江國寧, 「電子構裝與計算力學高速計算世界」, 電子月刊, 第六卷 第二期, 第19-28頁, 1998年6月。
[10] http://www.lin.com.tw/menu/products/Measuring/2008_Measuring /apply_science/BGA.asp.
[11] http://en.wikipedia.org/wiki/Flip_chip
[12] 陳昭亮, 「IC構裝製程與設備及其他發展趨勢簡介」, 機械月刊, 第 268期, 272-284頁, 1997年11月。
[13] 呂文鎔, 「IC黏晶機技術簡介」, 機械月刊, 第268期, 284-296頁, 1997年11月。
[14] 鄭璧瑩, 產品創新設計備忘錄2007, 初版, 交大電腦整合設計與製 造研究室, 新竹市, 2007。
[15] http://sunrise.hk.edu.tw/~hmliu/1-lct/home.htm
[16] 康 淵,陳信吉, ANSYS入門, 四版, 全華, 台北市, 2007。 月刊,第30期, 31-41頁, 1994年10月。
[20] 李輝煌, 田口方法品質設計的原理與實物, 二版, 高立, 台北縣, 2006。
[21] 蘇朝墩, 產品穩健設計, 中華民國品質管制學會發行, 台北市, 2002。
[22] Glen Stuart Peace, Taguchi Methods, A Hands-ON Approach, pp442-506, 1992.