• 沒有找到結果。

(4) 由 SEM 可知,牙齒浸泡在再礦化溶液中,會有晶體不規則排列的沉積,從

XPS 及 GIXRD 測知這新形成的晶體化學式為 Ca(H2PO4)2H2O,是類似氫氧

磷灰石(HA-like)的晶體。再礦化後的表面為此晶體 Ca(H2PO4)2H2O 和氫氧磷

灰石(HA)的混合結構。

(5) 經酸蝕處理產生相轉換後的氫氧磷灰石及類氫氧基磷灰石混合結構比之前未

經酸蝕處理的牙面更緻密。

(6) 由 AFM 得知:

1.表面粗糙度和浸泡時間無關。

2.牙釉質再礦化後確有硬度增加的情形,但硬度增加或減少和浸泡時間沒有

太大的關聯,且隨著浸泡時間的增加,硬度並未有隨之增加的情形。

3.不同的磷酸濃度對於牙齒表面粗糙度及表面硬度的變化,並無明顯的差別。

(7) 實驗結果和之前的研究假設對照,對於假設一的 ”經由不同磷酸濃度酸蝕後

的牙釉質表面,在浸泡再礦化溶液不同時間下會有不同的再礦化反應”是成立

的。但對於假設二的 ”在特定時間後表面再礦化的顯微結構會和未酸蝕前相

似”是不成立的。因為本實驗裡並未能證實在一個特定的時間下,其表面再礦

化的顯微結構會和未酸蝕前相似的情形發生,而是和浸泡時間呈現不規則的

情形。

未來的研究中對於在特定時間後表面再礦化的顯微結構會和未酸蝕前相

似的此一假設是值得探討的。可使用單一濃度(如牙科臨床最常使用的 37%磷

酸)酸蝕牙釉質後,加長浸泡再礦化溶液時間的觀察(如延長到數週),以及樣

本數的增加,或許對驗證此一假設會有更進一步的發現。

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表格

表二 五組的表面粗糙度比較

表四 B 組的表面粗糙度

4.615 6.098 9.76

16.128

表六 D 組的表面粗糙度

表八 浸泡 0 小時的各組表面粗糙度比較

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面粗糙度(n m )

表十 浸泡 24 小時的各組表面粗糙度比較

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面粗糙度(n m )

表十二 浸泡 72 小時的各組表面粗糙度比較

14.577

38.372

8.664 11.332

29.605

0 10 20 30 40 50

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面粗糙度(n m )

表十三 A 組的表面硬度

z A1:2.054+0.576 A2:2.456+1.513 A3:4.134+2.052 A4:0.973+0.285 A5:1.826+1.065

表十四 B 組的表面硬度

z B1:1.539+0.642 B2:2.19+0.829 B3:0.588+0.087

表十五 C 組的表面硬度

z C1:1.267+0.665 C2:1.688+0.568 C3:0.592+0.040 C4:1.101+0.423 C5:0.661+0.232

表十六 D 組的表面硬度

表十七 E 組的表面硬度

1.872

3.068

2.035 2.107

0.886

0 0.5 1 1.5 2 2.5 3 3.5

0 12 24 48 72

浸泡時間(hr)

表面硬度(nm)

80%

z E1:1.872+0.920 E2:3.068+0.829 E3:2.035+2.216

E4:2.107+0.627 E5:0.886+0.243

表十八 浸泡 0 小時的各組表面硬度比較

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面硬度(Gpa)

z A1:2.054+0.576 B1:1.539+0.642 C1:1.267+0.665 D1:1.666+0.771 E1:1.872+0.920

表十九 浸泡 12 小時的各組表面硬度比較

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面硬度(Gpa)

表二十 浸泡 24 小時的各組表面硬度比較

4.134

0.588 0.592 0.68

2.035

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面硬度(Gpa)

z A3:4.134+2.052 B3:0.588+0.087 C3:0.592+0.040 D3:0.68+0.12 E3:2.035+2.216

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面硬度(Gpa)

z A4:0.973+0.285 B4:1.241+0.459 C4:1.101+0.423

表二十二 浸泡 72 小時的各組表面硬度比較

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面硬度(Gpa)

z A5:1.826+1.065 B5:1.047+0.412 C5:0.661+0.232 D5:4.69+1.998 E5:0.886+0.243

表二十三 浸泡 0 小時與 72 小時的硬度比較

unetched 2% 30% 50% 80%

磷酸濃度(%)

表面硬度 (G pa )

浸泡0小時

浸泡72小時

表二十四 A 組的 GIXRD 圖形:表面晶體為 Ca(H

2

PO

4

)

2

H

2

O

表二十六 C 組的 GIXRD 圖形:表面晶體為 Ca(H

2

PO

4

)

2

H

2

O

表二十八 E 組的 GIXRD 圖形:表面晶體為 Ca(H

2

PO

4

)

2

H

2

O

D1 D2

2 0 3 0 4 0 5 0 6 0 7 0 8 0

Intensity

2

θ

(d eg ree)

E1

E3 E4 E5 E2

強度()

角度 Ca(H2PO4)2H2O

表二十九 XPS 的圖形:未酸蝕處理及酸蝕處理呈現表面鈣 磷的元素狀態。

鍵結能

強度

酸蝕處理 未酸蝕處理

表三十 先前研究中和本實驗選用再礦化溶液的成分比較 2001

Eisenburger

et al.

表三十一 先前研究中和本實驗浸泡再礦化溶液的時間比較 年 代 學 者 浸 泡 時 間

1991

Collys et al.

24 hours

1993

ten Cate et al.

4days, 1,2,and 3 weeks 1998

Iijima et al.

2 and 4 weeks

2001

Eisenburger et al.

1,2,4,6,9 or 24 hours

2003

Yasuo et al.

2 weeks

2004

Lippert et al.

0.5,1,1.5,2,3 and 4 hours 2006

Sato Y. et al.

2 days and 4 weeks

2006

Cecilia P et al.

20 days

2007

本實驗

0,12,24,48,72 hours

圖目錄

圖一 掃瞄式電子顯微鏡的構造示意圖

圖二 x 光光電子光譜儀的原理示意圖

圖三 x 光繞射儀的原理示意圖

圖四 原子力顯微鏡的構造示意圖

(翻自 Albrecht,T.R.,Quate C.F. Microfabrication of cantilever styli for the

atomic force microscope. J.Vac.Sci.Technol. 1990;A 8(4):3386-96)

圖五 A 組 SEM 50000 倍下觀察: 浸泡再礦化溶液後,可見表面 有大量晶體不規則排列的沉積,表面有類似再礦化的反應發 生。

(a) A1 (b) A2 (c) A3 (d) A4 (e) A5

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖六 B 組 SEM 50000 倍下觀察: B1 可見氫氧磷灰石晶體及許 多和晶體大小類似的孔洞形成,隨著浸泡時間的增加,亦可見 表面有大量晶體不規則緻密排列的沉積。B5 所沉積的晶體其 大小較 B1 的大。

(a) B1 (b) B2 (c) B3 (d) B4 (e) B5

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖七 C 組 SEM 50000 倍下觀察: C1 可見氫氧磷灰石晶體及許 多孔洞形成,孔洞相較於 B1 明顯較大,隨著浸泡時間的增 加,亦可見表面有大量的晶體不規則排列後的沉積,且晶體 排列越來越多且緻密,同時孔洞也有逐漸減少的趨勢。

(a) C1 (b) C2 (c) C3 (d) C4 (e) C5

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖八 D 組 SEM 50000 倍下觀察: D1 可見氫氧磷灰石晶體及許 多孔洞形成,孔洞大小和 C1 類似,比 B1 明顯較大。隨著浸 泡時間的增加,亦可見表面有大量晶體不規則排列的沉積。

D5 沉積的晶體呈現細長形。

(a) D1 (b) D2 (c) D3 (d) D4 (e) D5

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖九 E 組 SEM 50000 倍下觀察: E1 呈現整片牙釉質剝落的情 況。隨著浸泡時間的增加,亦可見表面有大量晶體不規則排 列的沉積。E3 再礦化的晶體呈現塊狀,E 組表面的缺陷較其 它組多。

(a) E1 (b) E2 (c) E3 (d) E4 (e) E5

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖十 A 組的 AFM (3-D)圖形: 呈現 1μm X 1μm 的表面圖形

(a) A1 (b) A2 (c) A3 (d) A4 (e) A5

(x 軸: 0-1 μm y 軸: 0-1 μm z 軸 : nm )

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖十一 B 組的 AFM (3-D)圖形: 呈現 1μm X 1μm 的表面圖形

(a) B1 (b) B2 (c) B3 (d) B4 (e) B5

(x 軸: 0-1 μm y 軸: 0-1 μm z 軸: nm )

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖十二 C 組的 AFM (3-D)圖形: 呈現 1μm X 1μm 的表面圖形

(a)C1 (b) C2 (c) C3 (d) C4 (e) C5

(x 軸: 0-1 μm y 軸: 0-1 μm z 軸: nm )

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖十三 D 組的 AFM (3-D)圖形: 呈現 1μm X 1μm 的表面圖形

(a)D1 (b) D2 (c) D3 (d) D4 (e) D5

(x 軸: 0-1 μm y 軸: 0-1 μm z 軸: nm )

(a) (b)

(c) (d) (e)

圖十四 E 組的 AFM (3-D)圖形: 呈現 1μm X 1μm 的表面圖形

(a)E1 (b) E2 (c) E3 (d) E4 (e) E5

(x 軸: 0-1 μm y 軸: 0-1 μm z 軸: nm )

(a) (b)

(c) (d) (e)

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