第四章 實驗結果與討論
4.2 電子微探儀(EPMA)量測結果
為了暸解成長的晶體是否接近理想的化學劑量,我們利用電子微探儀來進 行晶體的定性定量分析。表 4.2 分別為CsGeBr3、Rb1/4Cs3/4GeBr3、Rb1/2Cs1/2GeBr3、 Rb3/4Cs1/4GeBr3、RbGeBr3的結果,我們在試片上任取五點量測,並取其平均值。
從表中可以看出,雖然經過純化的步驟,但在晶體中仍可以發現到少許氧 的含量,推測其發生原因為在化學合成晶體時,主要原料GeO2,其反應是將Ge由 四價還原成兩價,過程中多少會有些GeO2反應不完全,且鹵素離子沒有置換掉氧 離子,這就會造成殘留的氧原子與Ge原子鍵結在一起,雖然我們在經過純化過程 後,並由X-ray繞射量測結果得知雜質相的存在已不明顯,但是仍有可能有些微 的GeO2殘留,所以量測結果仍有些微氧的存在,且氧在紅外波段會產生劇烈的吸 收,導致紅外穿透光譜的穿透率下降,因此降低氧在晶體中的比例,對應用於中 遠紅外線的晶體而言時極為迫切的。而磷的成分則應該是在將Ge由四價還原成兩 價時,H3PO2與總反應式之中間產物GeBr4反應不完全所造成。
從量測的結果也可以看出晶體之陰離子比例普遍都不足 60%,而中心的 Ge 原子也稍微超出 20%的標準,所以多次的純化是有必要的,亦可使晶體更接近
理想的比例。
4.3 DSC 及 TGA 量測結果:
將合成的粉末,重量約 30mg,升溫速度約每分鐘 10℃/min,置於充滿氮氣 的環境觀察材料的受熱狀態,如果材料發生結晶或相變化時,由於鍵結能量和結 晶形式發生變化,使得材料會有吸、放熱的現象,但此時質量不發生變化。如果 材料發生成份改變的化學變化時,例如分解時,除了吸、放熱為特徵外還有跟隨 著質量的變化。由量測結果可以得知:CsGeBr3在 255.53oC及 352.43℃為相變點,
387.33oC為其分解點。(Rb0.25Cs0.75)GeBr3 在 255.02oC有一個相變點,381.68oC為分 解 點 。 (Rb0.5Cs0.5)GeBr3在 248.31oC 有 一 個 相 變 點 , 380.67oC 為 其 分 解 點 。 (Rb0.75Cs0.25)GeBr3在 231.13oC有一個相變點,376.12oC為其分解點。RbGeBr3 (RGB) 在 93.93oC、230.01oC為相變點,268.39oC為其分解點。將其整理成圖 4.3。從圖 4.3 也可看出,在Rb參雜 25%、50%、75%時之分解點與相變點皆和CGB相近,
此與X-ray繞射結果在結構上偏向CGB有符合之處。
由上敘述可知,晶體中Rb的含量愈高,晶體的分解點所在的溫度就會愈低,
此外由過去的論文記載[21] ,RbGeBr3晶體在 273℃時亦有一相變點,但我並未量 测到,此還需更進ㄧ步的確認此處是否真有像變點的存在。
由此量測結果,我們可以知道晶體在應用上,適當的操作溫度範圍,也就 是必須控制在相變點之下,才能維持原本的晶體結構;而量測到的分解點溫度,
在我們對晶體做熱處理時,熱處理溫度的選擇也有一個判斷依據。
4.4 FTIR 量測結果:
FTIR量測方面,所採用試片是將晶體粉末與KBr粉末以 1:100 的比例壓片製 作,並以純的KBr壓片當作背景,置於FTIR光譜儀中觀察。觀察近紅外範圍如圖 (4.4.1)至圖(4.4.4)所示,實驗結果得知,在考慮到因反射造成的能量損失導致 穿透率下降時,從 0.7μm~ 22.5μm的穿透率大約都在 76%~79%。若我們不考
慮因反射造成穿透率降低的情況下,我們必須修正因反射所造成的穿透率降低。
量測到的Raman譜線的六個峰值依序為 208.76cm-1、158.03cm-1、137.51cm-1、 90.463cm-1、79.01cm-1、50.1cm-1。其中 158.03cm-1、137.51cm-1、90.463cm-1、 79.01cm-1分別為(GeBr3)-1陰離子團的stretched 及anti-stretched modes,且由 表 4.5.1 中可以看出 158.03cm-1應是來自於晶體中的Br原子。而 50.1cm-1是來自 於晶體結構中,外框Cs與Cs原子間的鍵結,見圖 1.1。此外 208.76cm-1應為 50.1cm-1 的倍頻模態,此譜線應是來自於晶體的尺寸影響,因為量測拉曼光譜圖時,是以
粉末去量測,每個晶體粉末大小不一,倍頻模態便是來自於較小顆粒的晶體粉末 所產生,見表 4.5.2。
對於RbGeBr3,由圖 4.5.2 顯示,由於其在常溫下的模態並不明顯,我們將 其與文獻記載的三種結構進行比較,T < 93℃(Pn21a) 、 93℃< T < 230℃(R3m) 、 230℃< T < 293℃(Pm-3m),比對結果發現其振動模態最相似於低溫相Pn21a,但 亦有一些R3m相的存在,推測這是因為RbGeBr3的第一相變點只有 93℃的緣故,因 此當雷射打到樣品上,熱效應導致局部相變所造成的。
對於R14B、R24B及R34B,見表 4.5.2,可以估計紅外光的穿透範圍可以到 達 47μm左右。R14B之峰值 79.402 cm-1,90.068 cm-1,137.56 cm-1,158.58 cm-1, R24B之峰值 78.942 cm-1,90.359 cm-1,137.56 cm-1,158.59 cm-1,R34B之峰值 79.007 cm-1,90.068 cm-1,137.4 cm-1,158.08 cm-1,分別為(GeBr3)-1陰離子團 的stretched 及anti-stretched modes。
由表 4.5.2 可知Rb參雜Cs達 25%、50%、75%所量測到的拉曼振動模態相 當接近CGB晶體,甚至可能具有相同的數值,可見其外圍的Rb和Cs原子對振動模 態的影響不大,這也意謂著Rb參雜Cs在 75%以內可能和CsGeBr3晶體具有相同的 結構。由圖 4.5.4 可知隨著Rb的參雜,拉曼模態的強度會不斷的減弱,最主要的 原因在於其晶格角度愈來愈趨向 90∘的緣故,導致原子間的作用力互相抵消。
對於陽離子取代下的拉曼光譜目前並無文獻可供比較,理論計算也相當困 難,所以只報告量測之結果。
4.6 變溫光激發光量測:
由文獻報導[15] [16]中提及, CsGeBr3在室溫下的能隙值為 2.32(5)eV。為了 更進一步的探討晶體的光激發光現象,我們這次對晶體做了變溫的PL量測,量測 方面,所採用的試片是將晶體粉末壓片製作,模擬部分採用Accelery公司的 Material Studio軟體,CASTEP(Cambridge Sequential Total Energy Package)
計算模式進行能帶結構的理論計算,結果將如下所述。
圖 4.6.1 至圖 4.6.3 為理論計算CsGeBr3(R3m ﹠Pm-3m)、RbGeBr3(Pn21a)能帶 結構之結果。其能隙值分別為 1.49(1)ev、0.49(9)ev、2.10(8)ev。
圖 4.6.6 為發光光譜隨溫度變化的關係圖,可以看出隨著溫度漸漸增加,發 光光譜會有藍位移(Blue Shift)的現象,因此我推測此晶體其膨脹係數有可能為 負的,此還需更近一步的驗證。根據文獻報導[15]記載,有人利用加壓的方式和我 做出雷同的結果,因此我們將其加壓的過程類比成我們降溫的過程,試圖解釋此 一現象發生之原因,晶體結構中心的Ge原子與周圍的鹵素原子之鍵結是由Ge的s 軌域電子與每一個鹵素原子p軌域電子形成反鍵結,此稱為s* level(此為價帶頂 端的成因),以及Ge的p軌域電子與兩個鹵素原子s軌域電子形成反鍵結,此稱為 p* level(此為導帶底端的成因)。能隙的產生便是當s* level低於p* level時所 造成,而s* level要低於p* level的條件,即是Ge的 4s軌域與 4p軌域能量差異 要足夠大,由文獻提供的資料顯示Ge之 4s、4p軌域能量差約為 7eV,符合此條件,
所以此晶體材料會有能帶隙的產生。文獻中也提及,當晶體受到外在因素影響 (如:溫度降低、受到壓力等),導致晶格常數變小時,s* level與p* level能量 皆會提升,但是因為Ge原子與周圍之鹵素原子之s* level反鍵結數目比p* level 多,所以s* level提升的能量會比p* level來的多,導致晶體能隙縮小,也就是 說,隨著溫度的降低或是施加額外的壓力時,能隙值將會變小。將此結果對應到 我們變溫PL的量測結果相當符合,且參考文獻[16]中也有提及CGB在晶格常數變小 的過程中,晶體顏色會從淡黃色變為暗色,在我們的實驗中的確也觀察到此現象。
對於晶體的 PL 發光機制由參考文獻所講述的原理,無法完全正確的解釋其 發光現象,所以仍有待進一步的求證當中。
4.7 二倍頻實驗結果與分析:
我們把晶體置於真空烘箱中加熱烘乾,溫度維持在大約室溫 80∘c 左右,
將烘乾後的晶體粉末取出,用研缽稍微研磨後,將粉末倒入篩網中過篩,篩網的 篩選顆粒分別為 12、20、40、70、140mesh 等五種大小分佈,其平均顆粒大小 為 0.315mm、0.1575mm、0.0895mm、0.0555mm、0.02775mm。將投影片中間打洞 其厚度為 0.31mm,此為填裝粉末樣品的容器,投影片兩邊分別以蓋玻片覆蓋,
然後使用光學膠封裝,以減少實驗進行中與空氣接觸的機會,而造成粉末的變質。
4.7.1 總感應倍頻光強度與平均顆粒大小的關係:
將晶體粉末不同顆粒大小對其感應倍頻光強度做圖,如章節末之圖(4.7.1 ) 至(4.7.5)所示,當我們量測之晶體粉末顆粒大於一定程度時,感應倍頻光強度 為趨近一飽和值,此與公式(2.18)符合,即可相位匹配之粉末樣品在平均顆粒遠 大於平均同調長度時,總感應倍頻光強度與平均顆粒無關。
而對於平均顆粒小於上述範圍時,總感應倍頻光強度會隨著顆粒增加而成線 性遞增,這是與公式(2.19)相符,即可相位匹配之粉末樣品在平均顆粒大小遠小 於平均同調長度時,總感應倍頻光強度與平均顆粒大小成正比關係。
4.7.2 計算非線性材料之有效倍頻係數:
由總感應倍頻光強度與粉末平均顆粒大小關係的實驗結果,可以計算出各 種非線性材料之相對的有效倍頻係數 。經由可相位匹配粉末材料之不同平均
顆粒大小
deff
r 與其相對應的總感應倍頻光強度 的關係圖的結果,利用經驗公式
(2.20、2.21),將 與 A 當作兩未知變數,作平均顆粒大小與其相對總感應倍 頻光強度關係的擬合曲線(fitting curve)。由此,可得到兩個重要參數:(1) : 此參數為當
ω 2 total
I
I
oI
or >>lc時,感應倍頻光強度的飽和值。(2) A:與感應倍頻光強度在多 大的平均顆粒大小位置達到飽和值有關。
以下就粉末平均顆粒大小r >>lc和r <<lc的情形分別討論之:
由實驗得知CGB、R14B、R24B、R34B晶體具有二倍頻非線性效應且可達相位 匹配,至於RGB晶體沒有觀察到二倍頻非線性效應,見圖 4.7.1 至圖 4.7.5。將
標準試片KDP與CsGeBr3、Rb1/4Cs3/4GeBr3、Rb1/2Cs1/2GeBr3、Rb3/4Cs1/4GeBr3及RbGeBr3晶 體做比較,利用公式(2.20)作擬合曲線,得到 :倍頻光飽和值,再利用公式(4.3) 計 算 出 材 料 的 有 效 倍 頻 係 數 比 值 , 此 時 由 PL 可 以 量 測 出 CsGeBr
I
odeff 3、
Rb1/4Cs3/4GeBr3、Rb1/2Cs1/2GeBr3、Rb3/4Cs1/4GeBr3及RbGeBr3晶體在 630nm的倍頻光波 長上會產生吸收,所以我們量測到的值為實際總感應倍頻光乘上一個吸收項,即
z
I I e = ⋅
o − ⋅α ;I為實際量測到的倍頻光飽和值, 為不考慮吸收、散色下所量測 到的總感應倍頻光強度,z為試片厚度。因此我們除了量測厚度為 0.31mm之試片 外,再對CsGeBrI
o3、Rb1/4Cs3/4GeBr3、Rb1/2Cs1/2GeBr3、Rb3/4Cs1/4GeBr3及RbGeBr3作了試 片厚度為 0.62mm的二倍頻量測,由兩種不同厚度之試片量測結果,藉此將吸收 效應修正回來。經過修正後得到CGB的α值約為 0.1324(1/mm) ,R14B的α值約 為 0.1721(1/mm) , R24B 的 α 值 約 為 0.2767(1/mm) , R34B 的 α 值 約 為 0.2641(1/mm)。
再分別從已知各材料的折射率,經過計算後得到各個晶體的有效倍頻係 數,見表 4.1。CGB 的有效倍頻係數約為 KDP 的 11.29 倍,即約為 4.403(pm/v)。
R14B 的有效倍頻係數約為 KDP 的 5.02 倍,即約為 1.958(pm/v)。R24B 的有效倍
R14B 的有效倍頻係數約為 KDP 的 5.02 倍,即約為 1.958(pm/v)。R24B 的有效倍