第二章 文獻回顧
2.5 固態燒結理論
固態燒結可分為三個階段,分別為初期階段(Initial Stage)、中期階段
(Intermediate Stage)與末期階段(Final Stage),如圖 2-16 所示。生胚狀態下,
其鬆散的粉末相互碰撞導致接觸的部份可能有變形的情況;在初始階段時,由於 總表面能(Surface Free Energy)比其內部自由能還要高,為了使整個系統的自 由能趨於最小值,粉末為減少其表面能而有互相連結的現象,此即燒結之驅動力
(Driving Force),為驅使原子移動的主要來源,此時粒子的接觸面積會迅速增 多並降低其總表面積;而當胚體中的孔洞圓化且粒子接觸面變多之後,即進入中 期階段,此時之開放性孔洞仍藉由粒子間的間隙相互連接而直通表面,孔洞內的 氣體便由此路徑排出胚體,且孔洞與晶界相連範圍大,而晶界為孔洞擴散至外界 最快之路徑,因此可有效消除固相與氣相的界面,以達到緻密化(Densification)
的效果。胚體緻密化的機構為原子在晶體中移動所造成晶粒重新排列、變形與成 長,而原子的移動最主要是擴散現象,其擴散路徑有所不同會引起頸部成長或收
粒子間的頸縮、晶粒成長與孔洞收縮等效應,最終形成圓形的封閉孔洞,且陷於 其內之氣體將難以移除。開放性孔洞具有阻止晶粒成長的效應,在後期燒結過程 中因缺乏了該阻力,所以晶粒會快速成長。一般而言,晶格擴散所需之活化能大 於晶界擴散所需之活化能,而這些擴散機構是同時進行,但由貢獻最大的機構來 決定其燒結控制機構。
圖2-16. 燒結過程中晶粒與孔洞在各階段之變化情形[33]。
圖2-17. 燒結過程中可能之擴散機構[34]。
2.6 研究動機
目前 MLCC 技術之趨勢為降低製程成本以及體積縮小化以適用於下一代積 體電路產品;在降低成本方面,BaTiO3之燒結溫度太高,使得在 MLCC 中需使 用貴金屬當內電極才能承受此高溫,不符合經濟效益,一般以摻雜技術來改良 之。有許多文獻報導不同的摻雜物對 BaTiO3之介電性質的影響,敝實驗室亦曾 探討許多BaTiO3的系統:首先嘗試將粉末奈米化,並得到相當理想的介電性質;
添加鍶(Sr)於奈米 BaTiO3可再提升其室溫下之介電常數,但是介電損失卻相 對變差;因此嘗試摻雜La2O3於(Ba,Sr)TiO3系統,發現能夠有效地提高介電常數,
同時降低其介電損失。
然而添加CeO2之BaTiO3顯示其似乎無法有效提升介電常數,但相關文獻均 為微米級粉體之研究,為使介電陶瓷之研究能更趨完備,本研究係以敝實驗室既 有之成果為基礎,將CeO2和BaTiO3研磨成奈米級粉體後,進行燒結、微觀結構 與介電性質之分析以與實驗室現有成果與既往研究成果比較。
第三章
實驗方法
3.1 粉體的製備 3.1.1 粉體製備流程
首先將BaTiO3(純度 = 99.99%,粒徑 = 100 nm,供應商為 Seedchem)與 CeO2(純度 = 99.99%,粒徑 = 100 nm,供應商為 Seedchem)以不同莫耳百分 比之比例混合,比例種類如表3-1 所示,接著加入去離子水配置成重量百分比濃 度約30 wt.%的漿料,再加入 3 wt.%的 PMAA-Na(Poly(Methacrylic Acid, Sodium Salt)水溶液,30 wt.%水溶液,供應商為 Aldrich)分散劑混合,並置入濕式球磨 機(MiniZeta 03,製造商 NETZSCH),利用氧化鋁(Al2O3)磨球以3600 rpm 轉 速研磨15 分鐘,並取少量之漿料進行粒徑分析。將配置完成的漿料置入恆溫烘 箱以85°C 烘乾後,以 Al2O3研缽搗磨過篩(Mesh 100),完成粉體製備,另外也 準備未經任何前置處理之 BaTiO3(純度 = 99.5%,粒徑 = 1 μm,供應商為 Seedchem,以 μm-BTO 表示之),以比較奈米級和微米級之BaTiO3的介電性質。
整體實驗流程如圖3-1 所示。
表3-1. 試樣配方表。(mol.%)
試片代號 BaTiO3 CeO2
μm-BTO 與 nm-BTO 100 0
BTC4 90 4
BTC6 94 6
BTC10 96 10
圖3-1. 實驗流程圖。
3.1.2 粒徑分析
本實驗利用雷射粒徑分析儀(Zeta Sizer(1000) HSA,Malvern)進行粒徑分 佈量測(量測範圍:0.009 至 1.06 μm)。取少量的漿料置入量測槽,以純水為溶
3.2.2 燒結
將製備完成之生胚置於Al2O3坩堝,放入高溫爐中進行燒結,升溫速率控制 在 3°C/分鐘,並且持溫在 700、800、900、1000、1100 與 1200°C,持溫時間為 6 小時,最終高溫爐程式設定仍以每分鐘 3°C 的降溫速率冷卻至室溫。
3.3 性質分析與量測 3.3.1 燒結密度
本實驗利用阿基米德式液體排開法進行燒結密度之量測。首先量測燒結過後 之塊材試片在空氣中的乾重,接著將燒結體放入去離子水中以 100°C 煮沸 1 小 時,待其冷卻至室溫後,量測其於水中的懸浮重,最後拭去燒結體表面的水分,
量測其飽和含水重,並代入燒結體體密度之計算公式:
3 2
1
W W
W l
−
= ×ρ
ρ (3-1)
其中
ρ
為燒結體之體密度(g/cm3),W1為試片在空氣中之乾重(g),W2為試片 之飽和含水重(g),W3為試片飽和含水後於水中之懸浮重(g),ρ
l為D.I. water 密度(g/cm3);將燒結體之體密度除以其理論密度即可得相對燒結密度。3.3.2 XRD 分析
將燒結過後的塊材試片以X 光繞射儀進行分析(X-ray Diffractometer,M18 XHF,MacScience)進行分析,X 光源為波長為 0.154 nm 的 Cu-Kα輻射光源,
工作電流與電壓分別為200 mA 及 50 kV,掃描角度為 20 至 60 度,掃描速率為 3°/分鐘,以
θ
-2θ
連續掃描,並採用Joint Committee on Powder Diffraction Standards(JCPDS)資料庫來分析試片之晶體結構。
3.3.3 微觀結構與成分分析
首先將試樣表面以BOE 進行蝕刻,並且利用鍍金機在試片表面鍍上一層鉑
(Pt ), 再 以 熱 場 發 射 式 電 子 顯 微 鏡 ( FE-SEM Hitachi S-4700 或 FE-SEM JSM-6500F)觀察試片之表面形貌,並且利用 ImagePro 5.0 平面影像處理軟體(國 家同步輻射中心提供)首先定義在 2000 與 5000 倍之倍率下,SEM 照片上比例 尺之長度,接著以 90°和 180°的直線估算至少 80 顆晶粒的實際長度並取平均,
即可得晶粒之平均粒徑;以穿透式電子顯微鏡(TEM,Jeol 2010)觀察試片之顯 微組織與擇區繞射(Selected Area Diffraction,SAD)圖案,以確認晶體結構及 晶 格 常 數 , 並 利 用 附 設 於 TEM 之 能 量 分 散 光 譜 儀 ( Energy Dispersive Spectrometer,EDS,Link ISIS 300)進行元素之化學定性分析。
3.3.4 電性量測 3.3.4.1 介電性質
每個實驗條件取三顆表面未損壞之塊材,並於其上塗佈適量的銀膠(spi
#5002,Structure Probe),置入恆溫烘箱以 85°C 烘乾後,利用 HP 4194 A 阻抗分 析儀(Impedance Analyzer)在交流電壓 1 V 之條件下,量測頻率 1、10、100 kHz 與1 MHz 時之電容值C 和介電損失 tan
δ
,再藉由C 0k Ad
=ε ⎛ ⎞⎜ ⎟⎝ ⎠之關係式換算出塊材
之相對介電常數值k,接著利用 HP 4291 B 阻抗分析儀量測頻率 10、100 MHz 與 1 GHz 時之k 值和 tan
δ
值;利用如圖3-2 所示之實驗裝置,以 LCZ Meter(Model 2343,NF Electronic Instruments)在交流電壓 1 V 之條件下,量測 1 kHz 時 nm-BTO 與BTC 系列具最佳介電性質的試片之介電常數隨溫度的變化,以測定其TC值。示差掃描熱量計(Pyris Diamond DSC,PerkinElmer)也同時被使用以測定其TC
值,實驗係在流量20 ml/分鐘的氮氣保護下,從室溫加熱到 150°C,加熱速率為 10°C/分鐘進行量測,定出塊材之 TC值,並藉由TC前後之基線(Baseline)偏移 [35]以及熱力學原理判定其相變化的階數。
圖3-2. 量測介電常數隨溫度變化之實驗裝置圖。
3.3.4.2 電滯曲線
本實驗利用 RT66A 鐵電測試系統(清大材料系甘炯耀實驗室提供)量測特 定正負電壓區間內,外加電場與極化量之間的關係,電壓最高可設定至±20 V,
並取 200 點作圖;同時亦可得到矯頑電場(Ec)、飽和極化量(Ps)與殘餘極化 量(Pr),並且藉由比較nm-BTO 與 μm-BTO 的極化量,對應介電常數隨燒結體 的晶粒大小之關係,以及比較 BTC 系列隨不同燒結溫度,其極化量與介電常數 之間的關係。
第四章
結果與討論
4.1 粉末性質分析 4.1.1 XRD 結構分析
將購得之奈米BaTiO3與CeO2粉體進行XRD 結構分析,其結果分別如圖 4-1
(a)與 4-1(b)所示,與 JCPDS 79-2263 和 81-0792 資料比對後,發現兩種粉 體均為 Cubic 結構,而不是非結晶態(Amorphous),因此粉末樣品不再經過煆 燒(Calcination),直接進行所規劃的實驗。
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 0
5 10 15 20 25
3wt.%
particle size (µm)
number (%)
圖4-2. 添加 3 wt.%分散劑之粒徑分佈情形。
4.2 塊材性質分析 4.2.1 結晶相之鑑定 4.2.1.1 XRD 結構分析
爲了解經過高溫燒結所得到之塊材的晶體結構,故對不同摻雜量之塊材進行 XRD 分析。圖 4-3(a)至 4-3(e)依序為 μm-BTO、nm-BTO、BTC10、BTC6 與BTC4 以 700 至 1200°C,持溫燒結 6 小時後之 XRD 圖譜。與 JCPDS 83-1880 資料比對後,於 μm-BTO 和 nm-BTO 的試片只觀察到 Tetragonal 結構,並且在 2
θ
≈ 45°時(200)與(002)繞射峰隨著燒結溫度越高其分裂(Split)的情況更趨明 顯,表示 BaTiO3 之正方性(Tetragonality = ca)隨著燒結溫度越高則逐漸變大 [37];而 BTC 系列經比對後,發現僅有 Tetragonal BaTiO3與Cubic CeO2之結構,
並 無 其 它 結 晶 相 存 在 , 表 示 燒 結 溫 度 並 沒 有 高 到 使 兩 者 產 生 固 溶 (Solid Solution),因此CeO2應以第二相的形式存在於BaTiO3基材當中,此結果和Ang Chen 等人以 1540°C 燒結 6 小時後得到固溶相的研究不甚相同,可能因為本實驗 之操作溫度不夠高使兩者達到固溶溫度;此外,隨著摻雜量減少,CeO2 的強度 越弱,故其繞射峰強度在BTC4 的圖譜中極微弱。
20 30 40 50 60
圖4-3. 不同溫度下進行燒結所得之(a)μm-BTO(b)nm-BTO(c)BTC4(d)
BTC6(e)BTC10 之 XRD 圖譜。(下頁續)
μm-BaTiO3 (Tetragonal)
nm-BaTiO3 (Tetragonal)
2
θ
(°)20 30 40 50 60
圖4-3. 不同溫度下進行燒結所得之(a)μm-BTO(b)nm-BTO(c)BTC4(d)
BTC6(e)BTC10 之 XRD 圖譜。(下頁續)
20 30 40 50 60
圖4-3. 不同溫度下進行燒結所得之(a)μm-BTO(b)nm-BTO(c)BTC4(d)
BTC6(e)BTC10 之 XRD 圖譜。
4.2.1.2 TEM/EDS 分析
XRD 分析顯示以 1200°C 進行不同摻雜量之 BTC 試片燒結 6 小時並不足以 使兩者產生固溶;本實驗亦利用TEM 觀察其微觀結構,並搭配於 TEM 上之 EDS 進行化學元素之定性分析以佐證此一結果。圖4-4 為 BTC10-1200°C 之 TEM 明 視野影像(Bright-field Image),由圖中可發現有明顯的兩種晶粒存在,分別標示 為A 和 B。對於此兩個區域進行擇區繞射得到圖 4-5(a)與 4-5(b)兩張不同的
圖4-4. BTC10-1200°C 之 TEM 明視野影像。
4.2.2 燒結密度分析
燒結進行之驅動力主要為降低過多的表面能,通常藉由:(1)增大顆粒尺寸 來降低總表面積或(2)消除固相與氣相的界面,利用此兩種機制來達成降低表 面能之目的,其中(1)又稱為粗化機構,(2)則稱之為緻密化機構,在燒結過 程中此兩種機構均有所貢獻,但須依燒結變數來決定燒結的主導機構。
本實驗之 μm-BTO、nm-BTO 與 BTC 系列的燒結密度分析結果如圖 4-7 所 示。從圖中可知,μm-BTO 即使燒結溫度提高至 1200°C,其燒結密度值也只有
本實驗之 μm-BTO、nm-BTO 與 BTC 系列的燒結密度分析結果如圖 4-7 所 示。從圖中可知,μm-BTO 即使燒結溫度提高至 1200°C,其燒結密度值也只有