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圖 3- 1、實驗流程圖

3.1.1 ITO 基板清洗

本篇論文所使用的 ITO 基板為 4 cm x 4 cm,發光面積為 0.09 cm

2

(如圖 3-1)。在基板使用之前,會先經過以下清洗程序,以去除有機、無機等殘留 物,確保表面之清潔。

(1) 將 ITO 基板放入丙酮中清洗,並加以超音波震盪十分鐘,之後以去離子

元件製作流程

ITO 基板清洗

電漿清潔陽極

薄膜蒸鍍

元件封裝

特性及壽命量測

水 (DI water)沖洗。

(2) 將 ITO 基板放入 Detergent 中清洗,並加以超音波震盪十分鐘,之後用 DI water 沖洗。

(3) 將 ITO 基板放入 DI water 中清洗,並加以超音波震盪十分鐘,之後用異 丙醇(異丙醇)沖洗。

(4) 將 ITO 基板放入甲醇中清洗,並加以超音波震盪十分鐘,之後用氮氣吹 乾,把清洗完之 ITO 基板放入烘箱以 75℃烘乾至少一小時。

圖 3- 2、元件發光面積示意圖

3.1.2

電漿清潔陽極

在 ITO 基板置入蒸鍍機之前,必須先放至到電漿處理機中進行前處理。

至於在 OLED 製程中所使用的電漿前處理技術,是以氧氣當作工作氣體進 行所謂乾式清洗的動作,它的目的有三:

(1) 中性的氧原子,會對 ITO 表面的針狀結晶進行物理性的撞擊,可以達到 修飾表面平整度的目的,避免尖端放電所造成的局部電場。

有機層 陰極(Al)

陽極(ITO)

(2) 中性氧原子和氧分子合成為臭氧,而高活性的臭氧會和基板上殘存的碳 氫化合物(可能是溶劑或光阻劑)進行反應而形成水和二氧化碳,之後由 真空幫浦抽走而達到清潔表面的目的。

(3) 氧原子也會打入 ITO 的結晶之內,這樣可以提高它的氧含量並降 低 Sn/In 的比值,藉以提高功函數,達到活化 ITO 的目的。

至此,我們已完成前處理步驟,接著再繼續注入 CHF

3

氣體於電漿處理 機中進行電漿聚合反應,此反應會將(CF

x

)

n

附著在 ITO 基板上作為電洞注入 層,增加元件的電洞注入能力。接下來就可以將 ITO 基板置入蒸鍍機(Coater) 中進行有機層和金屬層的蒸鍍。

3.1.3

薄膜蒸鍍

一般小分子 OLED 製程,多棌用真空昇華(Vacuum Sublimation)技術,

而在蒸鍍薄膜時,腔內環境需達到高度真空(~10

-5

-10

-6

torr)。前置處理結束,

將 ITO 基板置於蒸鍍機載具上,並利用機械手臂傳輸至蒸鍍腔體中,即可 進行薄膜蒸鍍。

本實驗室有機材料加熱方式為使用石墨或鈦(Ti)坩鍋(crucible),利用環 形線圈通以電流加熱,使坩鍋能均勻受熱並維持穩定的蒸鍍鍍率而不會產 生大幅度的跳動。而金屬材料蒸鍍,則是使用鎢舟(Tungsten boat)通以電流 加熱並且可依實驗條件選擇是否使載具旋轉,圖 3-2 為薄膜蒸鍍單元示意 圖。

製作傳統異質接面元件時,有機薄膜之鍍率皆控制在小於 1.0 Å /s,而 常用電極 Al,則是以 4~10Å /s 蒸鍍並旋轉載具使薄膜厚度更佳均勻。而在 多蒸鍍源時,則利用各別之石英振盪器來監控並以體積百分比做摻雜。

製作連續漸進式發光層元件時,則固定蒸鍍源加熱功率,蒸鍍源獲得 少於或多於升溫所需功率,使蒸鍍源產生鍍率逐漸下降或逐漸上升的變化,

使用多蒸鍍源並配合各別之石英振湯器來監控和記錄,就能得知漸進式發 光層各別材料之厚度與濃度變化。

圖 3- 3、薄膜蒸鍍單元示意圖

3.1.4

元件封裝

OLED 元件在長時間的操作下,會因發光區產生黑點或是內部消光機 制而逐漸消退,使得發光效率逐漸下降。產生黑點的原因可能是由於高活 性的陰極與空氣中的水份發光電解反應所致,或是水氣滲入有機層中,發 生了化學反應而使得材料變質。然而,這一部分可以透過更換較穩定的陰

極材料或良好的封裝技術來獲得改善。本篇論文所使用的封裝方法為使用 UV 封裝技術,其步驟如下:

(1) 將封裝蓋使用自動點膠機塗上一圈 UV 固化膠,並放置於可固定位置之 載具上,送入腔體內,並將封裝蓋之環境抽取真空。

(2) 待腔體內真空達到約 10

-5

torr 時,將欲封裝之元件利用機械手臂傳輸至 有封裝蓋之腔體內,再使用液氮破除真空,並同時貼合 OLED 元件及封 裝蓋。

(3) 將貼合之元件取出,使用鋁箔遮住有機材料之區塊,以 UV 光源進行 UV 膠固化,圖 3-4 為封裝單元示意圖。

圖 3- 4、封裝單元示意圖

3.1.5

元件特性及壽命量測

本實驗室的元件特性量測系統為使用電腦和 Labview 程式控制,以 KEITHLEY 2400 提供元件直流電流,並搭配 PR-650 量測元件光譜、亮度

件固定直流電,並以 photodiode 偵測元件的光電流,搭配電腦和 Labview 程式控制,記錄元件亮度及時間變化,見圖 3-5。

圖 3- 5、元件穩定度測試示意圖

3.2 實驗材料

3.2.1

蒸鍍材料

(1) NPB: 電洞傳輸材料

(2) TCTA: 三重態激發子阻擋材料

(3) Alq

3

: 電子傳輸和螢光綠光主發光體材料 (4) BAlq: 電子傳輸材料

(5) BPhen: 電子傳輸材料

(6) CBP: 磷光綠光主發光體材料 (7) EPH31: 磷光綠光主發光體材料

(9) EY53: 螢光黃光客發光體材料 (10) Ir(ppy)

3

: 磷光綠光客發光體材料 (11) LiF: 電子注入材料

(12) Cs

2

CO

3

: n 型摻雜物 (13) Al: 陰極電極材料

3.2.2

基板

(1) Indium Tin Oxide (ITO)/玻璃 3.2.3

其它耗材

(1) Tungsten boat

(2) Ti crucible

(3) N 2

, O

2

, CHF

3

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