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斜入射量測 GRIN Lens 之折射率分佈

4.1 引言

折射率漸變透鏡(GRIN lens)在電信通訊(telecommunication)、工業、醫學以 及生醫感測(biomedical sensing)等應用上扮演重要的角色[1,2],因此在設計、製 作及評估GRIN lens 的功能及品質主要依據其折射率分佈的均勻性。以非破壞性 的方式精確量測GRIN lens 的折射率分佈是一項重要且基礎的工作。有許多方法 [3-8]被提出來,都有良好的結果。其中以 Dragomir 等人的方法[3]結果較佳,他 們以Quantitative Phase Tomography (QPT) 的方法量測出 GRIN lens 的三維折射 率分佈,且解析度可達10-4。然而,QPT 雖然能夠得到很好的結果,但在量測時 必須將樣品浸泡在與GRIN lens 表面的折射率相配的匹配液中進行量測,這就表 示GRIN lens 表面的折射率必須事先被精確的知道或猜測[9]。除此之外,QPT

雖然可以量測3D 的折射率分佈,但其需要將樣品旋轉並記錄多組數據,增加實

驗的複雜度及處理時間。在本文中,提出一種不同的方式,可快速並精確得到 GRIN Lens 表面的二維折射率分佈。一從旋光外差光源而來的光束入射至 GRIN lens,反射光通過一檢偏板,由快速 CMOS 相機來擷取二維干涉信號,每個相素 都記錄一組取樣過後的弦波信號,其相位與GRIN lens 的折射率有關。接著這些 弦波信號經由最小平方弦波擬合法[10-12],可得到最佳的擬合弦波及其相位。將 所得到的干涉信號的相位,代入以Fresnel’s equations [13]所計算得到特別公式,

可以得到GRIN lens 的二維折射率分佈。我們也利用此法量測一個 GRIN lens,

證實了本方法的可行性。本方法同時具有共光程干涉術[14]及全場外差干涉術[15]

的優點,即高穩定性、架設容易、量測快速、高解析度等優點。

4.2 原理

本方法的實驗架構如Fig. 4.1 所示。為了方便起見,z 軸設定為光前進的方

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Fig. 4.1 本方法的光學系統架構圖。LS: 雷射光源; EOM: 電光晶體調制器; FG: 函數產生 器; LVA: 線性電壓放大器; Q: 四分之一波片; G: 折射率漸變透鏡(GRIN Lens); AN: 檢偏 鏡; IL: 成像透鏡; MO: 顯微物鏡;DL: doublet; C: 快速 CMOS 相機。

向,而y 軸則為垂直紙面向外的方向。來自旋光外差光源的光束,其電場的 Jones vector 可寫成[15]

0 0

2 2

1 1 1

1

2 2

i f t i f t

i ft i f

CHLS

E e e i e e

i

   

     

    , (4.1)

其中f0則為入射光的頻率。由Eq. (4.1)可知,第一項為右旋光分量及第二項為左 旋光分量且它們之間具有 f 的差頻。此光束以45入射至折射率分佈為 n(x,y)的 GRIN lens (G)上,反射光通過透光軸與 x 軸夾角為 45°的檢偏板(AN)、由顯微物 鏡(MO)與藕合透鏡(DL)所組成的成像透鏡組(IL);IL 將 G 成像於 CMOS 相機(C)

之感測面上,並將光強度記錄下來。因此到達C 處光的電場可表示為

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- 45 - He-Ne 雷射光源(LS,波長為 632.8nm)、電光晶體 (EOM,New Focus/Model 4002)、函數產生器(FG)及線性電壓放大器(LVA)所組成。EOM 的半波電壓

148V

V  ,驅動EOM 的鋸齒波其電壓的振幅及頻率分別為V 120 V, 30

fHz; IL 的放大率(magnification)為 4 倍。灰階數g8bit、畫素為600×600

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Fig. 4.2 GRIN Lens 的二維折射率分佈圖@632.8 nm

Fig. 4.3 GRIN Lens 的折射率等折射率圖@632.8 nm

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的CMOS 相機(Baslar/A504K)在取樣頻率fs 450Hz,曝光時間 t 1ms,拍照 時間T 1sec的條件下擷取干涉信號。實驗中所取得的干涉圖形被送入個人電 腦,並且以Matlab (MathWorks Inc.)軟體做分析。將量測到的相位結果 ( , ) x y 代 入Eq. (4.7),可以得到折射率二維分佈圖,如 Fig. 4.2 所示。Fig. 4.3 則為二維折 射率「等折射率線」圖。

4.4 討論

為了得到此方法的解析度,將Eq. (4.7)對及 微分,可得

n n

n  

 

 

    

  , (4.8)

其中n為折射率誤差;為入射角度誤差,其來源主要為光學系統在架設時對 入射角的偏差。在本實驗中, 的大小由所使用的旋轉平台(SIGMA/

SGSP-160YAW)來控制,其解析度約為 0.01°;接著, 為相位解析的誤差,其 

Fig. 4.4 n 對 n 的關係曲線

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Fig. 4.5 以垂直入射方式量測 GRIN Lens 之二維折射率分布量測結果

4.5 小結

本方法是基於共光程干涉術及全場外差干涉術。一從HLS 而來的光束經過

Q 後入射至 G 上,而後反射光通過 AN,最後由 C 來擷取二維干涉信號,並且經 由最小平方弦波擬合法,得到最佳的擬合弦波及其相位差。將所得到的干涉信號 的相位差,代入以Fresnel’s equations 所計算得到特別公式,最後可以得到 GRIN lens 的二維折射率分佈。本方法的正確性被証實。本方法同時具有共光程干涉儀 及外差干涉儀的優點。

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4.6 參考文獻

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