3.1 製作實驗用模型的模具
1.利用基底板蠟(Paraffin wax, Shofu Inc., Kyoto, Japan)堆出一個長寬高分別為 70x20x22mm 的長方體蠟塊，之後取一個幻燈片塑膠盒的盒底置於析量器的平台 上，將蠟塊以平行析量器(surveyor)置入幻燈片塑膠盒，調整高度使得蠟塊的上長 寬面與盒口邊緣齊平並與水平面平行，然後固定析量器與塑膠盒，以確保蠟塊在 塑膠盒中的位置。接著將加成式矽膠印模材（additional silicone）注入蠟塊與塑膠 盒間的空隙中，直至印模材高度到塑膠盒口為止再加以刮平，並靜待印模材凝固
（圖11）。待印模材凝固之後，蠟塊長寬面平行於水平面的位置即可保持不變。
2. 將植體（OSSEOTITE® Parallel Walled Implants, BIOMET 3i, Palm Beach Gardens, USA ）與implant pick-up impression post(Implant EP® Pick-Up Coping, BIOMET 3i, Palm Beach Gardens, USA)相連，固定於析量器的夾頭(chuck)上，使得 植體長軸與蠟塊的長寬面垂直。之後將蠟塊相對應於植體大小尺寸的區域融化，
並將植體埋入蠟塊之中，確認植體平台(platform)平面高於蠟塊上長寬面1mm並與 之平行（圖11）。
3. 將埋在蠟塊中的植體與析量器分開，並移除pick-up impression post後，換鎖上 pick-up impression coping。之後將塑膠盒蓋頂端相對應pick-up impression coping上 方鑿開一個約4cm x 3cm的洞，讓盒蓋蓋上時，impression coping 的頂端可露出盒 蓋之外。之後再將塑膠盒蓋與底端蓋緊並固定，並從洞口注入超硬石膏(Silky Rock Type IV improved stone ,Whip Mix Corporation, Louisville, KY, USA )，並靜待24 小 時等石膏硬化（圖12）。
4. 旋鬆並取出印模用螺絲柱(impression post)之後，將盒蓋與底端分開。接著將留 在塑膠盒中的蠟塊去除，並將塑膠盒的側壁鑿出洞，使得蠟塊留下的空隙對外相 通，就完成了製作實驗用模型的模具（圖12）。
3.2. 實驗用模型的製作
將實驗用的植體與固定在塑膠盒蓋端的impression coping相連，鎖緊
impression post固定後，再將盒蓋與盒身蓋牢並固定，並從塑膠盒側壁的洞中注入 環氧樹脂（EPOXICURETM RESIN, BUEHLER Technologies, Ratingen, Germany），
等待八小時後樹脂硬化，再旋鬆並移除impression post、打開塑膠盒盒蓋、並取出 塑膠盒中的樹脂模型，則可得到一體積為70x20x22mm 的長方體，並且正中央包 埋有一垂直上長寬面、平台高於表面1㎜的人工植體之樹脂模型（圖13）。
3.3實驗用模型設計
實驗選用外、內接式各2種不同平台尺寸的植體，直徑分別為5.0㎜、6.0㎜，長 度均為13mm，共4支植體（OSSEOTITE® Parallel Walled Implants, OSS613, OSS513, IOS613, IOSS513, BIOMET 3i, Palm Beach Gardens, USA）。分別將植體依前述方 法包埋在長寬高分別為70x20x22 mm 的環氧樹脂塊之中，露出至植體平台下1mm 的部分，製作步驟如3.1與3.2所述。再使用合於樹脂塊尺寸的夾具，將所有的實驗 模型分別用樹脂黏著劑固定。接下來取四組單軸電阻應變規(EA-00-031CE-350, terminal tab type; Measurement Group, Raleigh, North Carolina, USA )並使用甲基-2-氰丙烯酸鹽黏著劑(M-bond 200, Measurement Group, Raleigh,North Carolina, USA ) 於樹脂表面於預黏貼部位經過酸鹼處理後，緊貼於植體平台周圍的近心，舌側、
遠心及頰側的樹脂表面分別將之黏貼並固定（圖14）。總共製作出四個組別模型，
每一組別依其頰舌方向性做對調後分成模型一（mode l）與模型二（mode 2）討 論之（圖17）。
3.4實驗數據的輸出與紀錄
應變計經由焊接墊(soldering pad)接上訊號放大器(2310 Amplifier ;
Measurement Group, Raleigh, North Carolina, USA ) （圖15），將實驗所得的訊號
放大一千倍( Gain = 1000 )後，再經過類比/數位訊號轉換器(A/D converter ; CED 1401, Cambridge Electronic Design, Cambridge, England ) （圖15） 以200 Hz 的採 樣頻率輸入電腦中，以便觀察訊號的產生是否正常，同時監視實驗中所產生雜訊 的大小。
3.5支台齒的製作與施力
在實驗中使用的牙冠是螺絲固持式補綴物（screw-retained prosthesis），長寬 高模擬自然牙下顎第一大臼齒平均尺寸10＊10＊10.5㎜，牙冠平台直徑在5mm植體 分成二種：5㎜（控制組）、4㎜（實驗組）；在6mm植體分成三種：6㎜（控制組）、
5㎜（實驗組一）、4㎜（實驗組二）（圖17）；材質為TiAl6V4，製作方式利用TDS 數位齒雕系統（TDS CAD-CAM system, Pou Yuen Technology Co.,LTD,
Taiwan）製作客製化支台（custom-made abutments）（圖16），當金屬冠需固定
在每一組模型以進行實驗時，均對金屬冠施以35N-cm的扭力。之後利用夾具將模 型固定在施力器(loading machine)上。在每一組實驗模型上，分別施以3組不同方向 力量：（1）正中垂直力量：模型正放，在支柱牙冠正中央（screw hole位置）垂直 往下施力，（2）舌側方垂直力量：模型正放，在距離支柱牙舌側邊緣1mm垂直往 下施力，（3）水平力量：模型平放，在距離支柱牙冠側邊緣1mm，由頰側往舌側 施力（圖18）。每組力量分三種不同程度施與，分別是(10N; 30N；50N),每次力量 每次施以五秒鐘，每組力量共施予10次。3.6實驗數據的分析
施力應變計測得的訊號輸入電腦後，利用Spike 2 軟體( Cambridge Electronic Design, Cambridge, England )進行訊號的轉換，將應變計電阻測得的電位類比變化 數位化，在軟體中的力量及應變量均是以伏特(voltage)來表示，四組應變計所得的 數據均加以紀錄，分析施力與應變計的數值變化時，取施力前0.5~0.6秒為基準，
與停止施力前的1 ~ 2秒做比較（圖19），並將兩個區間所得之差異值，記錄後藉 由公式轉換成微應變量（microstrain），公式如下：
ε：量測應變； ε c：校正應變； d p：量測電壓； d c ：校正電壓
3.7統計方法
使用「Student’s T test」來比較對植體周圍環氧樹脂表面應變的影響，傳統支 台組別與platform-switching 支台組別是否有統計學上的顯著差異。在 5 ㎜尺寸植 體，P value<0.05 視為具有統計上的差異。在 6 ㎜尺寸植體，為使統計學上型一誤 差（type I error）的機率仍維持在 0.05，使用「Bonferroni 修正」調整各組別個別 比較的顯著水準，P value＜0.017 視為有統計學上顯著差異。