水平衡圖、製程回收率、全廠回收率及全廠排放率

本實驗室在經過建築師事務所、總顧問、工安顧問、工程公司等專業人員討論，

將各製造設備方面依實驗室特殊研究所需求之水資源作最完善之規劃與設計，可將

製程回收率、全廠回收率及全廠排放率達到科學工業園區之設計要求標準，其設計

5.2.2 研究運轉階段

實驗室潔淨室進行奈米科技之製程研究與生產，經過規劃設計階段進行廠房 建築、廠務設備進駐運轉、製程設備遷入測試系統調整等，一個半導體實驗室就開 始進行奈米計劃的執行。也就因為實驗室之特殊性，所以產生之廢水也就與一般半 導體廠有所不同，在運轉開始接著計算各項水質、水量、水平衡、製程回收率、全 廠回收率及全廠排放率等重新確認，觀察與原規劃設計階段之差異性隨時進行調整 與適當改善，以符合科學工業園區之排放標準等各項規定。

在進行觀察之後，發現運轉有一些數據與原設計仍有進步空間，然而因為空 間之限制改善就顯得較為辛苦，在侷限的空間與有限經費許可下，仍應改善工程進 行之初，先做好妥善規劃與整體之風險評估與其效益，方可進行。目前已將實驗室 大部份可以回收再利用的水資源逐一改善完成，當然水平衡圖、製程回收率、全廠 回收率及全廠排放率隨之進行修正如圖 5-2-2 與表 5-2-2。

雖然在此階段經過審慎考量及改善過後，實驗室之製程回收率、全廠回收率 及全廠排放率雖未達到原設計之標準，經過討論整理過後大致可以歸納為以下原 因：原建廠時規劃以參考 8 吋晶圓廠無塵室需求之規模來評估設計，但本實驗室卻 非一個固定生產流程來量產 wafer 之晶圓廠，而是一個研究開發各單元操作的實驗 室，因此在純水使用量就不是很穩定；規劃設計階段時無塵室面積 880 坪包括 class 10 及 class 10000 兩種，但實際建置在研究與經費特殊考量現制下，只有建置無 塵室約 610 坪；同時亦因奈米生物科技的蓬勃發展，實驗室亦進入生物科技的研究 領域，亦變更設計從事生物科技的實驗室約 130 坪，因此在生物實驗室規劃設計時 考量與半導體無塵室建置與需求之差異性，所以包括空調、廢水、廢氣等均須重新 建置一套廠務設施，來配合此項研究任務的需求。

基於上述之改善過後發現，本實驗室在經過第一階段針對逆滲透膜濃縮水、

真空脫氣塔之真空泵冷卻水、外氣空調箱及辦公室送風機冷凝水、限外濾膜之濃縮 水、離子交換樹脂之再生廢水、化學機械研磨廢水之上層液、半導體機台廢水、純 水製造設備再生反洗之時間等進行改善過後，雖然回收再利用有明確的進步之外，

但由於任務與產業界的不同、研究種類多元化，仍需持續進行水資源回收的改善與 製程回收率＝

全廠回收率＝

全廠排收率＝

r1+r2+r3＋r4

＝85.2％

P

A1+r1+r2+r3+r4＋S＋K

C+A1+r1+r2+r3+r4＋S＋K-V ＝71.9％

D

C ＝53.2％

評估方案，相信唯有如此不僅能節約水資源及運轉經費，更希望藉此推動水資源回

d7：廢水廠排放 2045 k1:製程循環水量 180

C+d5+P+r1+r2+r3+r4+s1+s2-v1-v2-v3-v4 =48.5％

D

C+d5 =55.48％