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混成含 Ti-O-Si 前驅物反應單體的交聯固態離子液體聚合物熱物理性

第三章 溶膠-凝膠法製備混成交聯固態離子液體聚合物

3.3 離子液體聚合方式

3.6.3 混成含 Ti-O-Si 前驅物反應單體的交聯固態離子液體聚合物熱物理性

利用熱重損失分析(TGA),了解物質隨著溫度上升,產生重量變化及 熱裂解溫度。圖 3-16〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 聚合複合物及圖 3-17

〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 聚合複合物 TGA 結果,顯示添加越多無 機 Ti-O-Si 前驅物反應單體,顯示在此添加比例範圍中因有機物含量減少,

反而使聚合物提早裂解,可能在添加超過一定範圍時,才會提升裂解溫度 [44]。當溫度達 650℃時殘留重量也越高。其數據統整在表 3-3 及表 3-4。

接 下 來 以 Doyle’s method 積 分 程 序 分 解 溫 度 (Integral procedure decomposition temperature, IPDT)方法[45]分析〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 及〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 聚合複合物添加不同比例 Ti-O-Si 前驅物 反應單體之熱穩定性。此方法用來修正聚合物之易揮發部分,並且能判斷

由圖 3-15 可發現,主導 IDPT 值上升,是由 S1、S2占重要的部分,而 S1組成的組成又與 S3成對比性成長,S3則在 S2的焦炭部分占有很大的因素。

經過此公式計算後由表 3-5 及表 3-6 所示,〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 及〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 聚合複合物隨著添加越多 Ti-O-Si 前驅物 反應單體,IPDT 越高,熱穩定性越好。

圖 3-15. 計算 IPDT 之 S1、S2、S3示意圖

圖 3-16. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 TGA 圖:(━) 無添加 Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 1.99 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 3.89 wt% Ti-O-Si 前驅 物反應單體 (━) 5.11 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體。

表 3-3. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構的〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 Td及殘留重量。

圖 3-17. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 TGA 圖:(━) 無添加 Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 2.07 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 4.00 wt% Ti-O-Si 前驅 物反應單體 (━) 5.62 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體。

表 3-4. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構的〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 Td及殘留重量。

表 3-5. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構的〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 IPDT 數值。

表 3-6. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構的〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 IPDT 數值。

示差掃描量熱儀(DSC)為利用溫度改變,量測物質進行相變化吸收或 釋放的熱量,可以提供了解該物質熔點、玻璃轉移溫度、結晶溫度、ΔH 及熱穩定性等資訊。本研究以示差掃描量熱儀升溫至裂解溫度之前,再降 溫至-50℃,兩者分別再以 5℃/min 速率升溫。由圖 3-18 及圖 3-19,觀察

到兩者未有結晶放熱峰及熔融吸熱峰,表示無結晶且可能 Tm非常接近熱

裂解溫度。主要由聚合物鏈段和網絡的運動情形來決定 Tg 大小,依據自

由體積理論,影響離子導電度的其中原因為聚合物主體的平均自由體積 [48]。在圖 3-18〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 系統中,發現未添加混成 複合物的 Tg,隨著添加越多 Ti-O-Si,自由體積越小,Tg越大,添加 5.11 wt%

Ti-O-Si 時 Tg溫度最高為 10℃。但在 3.89 wt% Ti-O-Si 之 Tg有稍微降低,

可能是因為其自由體積稍比 1.99 wt% Ti-O-Si 大所導致。在圖 3-19〔ILMC8〕

TFSI/〔BVD〕TFSI 系統中,因為八個碳鏈分子的側基團使得聚合物間的 自由體積較大,因此各成分比例的 Tg皆比〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 系統小。隨著添加越多 Ti-O-Si,自由體積越小,Tg越大。但添加 5.62 wt%

Ti-O-Si 時,自由體積比 4.00 wt% 大,反而降低 Tg。其數據統整在表 3-7 及表 3-8。

圖 3-18. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 DSC 圖:(━) 無添加 Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 1.99 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 3.89 wt% Ti-O-Si 前驅 物反應單體 (━) 5.11 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體。

表 3-7. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構的〔ILMC4〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 Tg

圖 3-19. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 DSC 圖:(━) 無添加 Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 2.07 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體 (━) 4.00 wt% Ti-O-Si 前驅 物反應單體 (━) 5.62 wt% Ti-O-Si 前驅物反應單體。

表 3-8. 含 Ti-O-Si 前驅物反應單體結構的〔ILMC8〕TFSI/〔BVD〕TFSI 複合物之 Tg

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