Acetonitrile CH3CN 99.99 Sigma-Aldrich n-Butylamine CH3(CH2)3NH2 98.0 Fluka
1,2-ethanedithiol HS(CH2)2SH 98.0 Sigma-Aldrich PEDOT:PSS poly(3,4-ethylenedioxythiophene
):poly(styrene sulfonate)
Baytron P VP AI 4083
n-Octane CH3(CH2)6CH3 TEDIA
＊Acetonitrile：吸入或吞食有害，導致氰化物中毒。蒸氣可能照成頭痛、困惑、
焦慮、噁心、嘔吐、心跳不規律、食入或嘔吐時可能引起倒吸入肺部。
＊Lead oxide：會刺激黏膜、眼睛、皮膚，損害造血、神經、消化系統及腎臟。
3-2 實驗儀器
穿透式電子顯微（Transmission Electron Microscope，TEM）
廠牌、型號：FEI，TECNAI1G2 ，操作電壓 200 k eV.
掃描式電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，SEM）
廠牌、型號：JEOL，JSM-6500F
的強度而調變。由於試片表面任意點所產生訊號的強度，是對應到 CRT 螢 光幕上對應點的亮度，因此，試片表面的形貌、特徵…等，可藉由此種亮 點同步成像的方式表現出來。
能量散佈光譜儀（Energy Dispersive Spectrometer, EDS）
廠牌、型號：Oxford Instrument 7557
原理及功能簡介：以 X 光能量激發半導體晶體中的電子-電洞對，將所得
傅立葉轉換紅外線光譜儀（Fourier Transform Infrared Spectrometer，FTIR）
廠牌、型號：Perkin-Elmer Spectrum 100
原理及功能簡介：研究某一化學分子或化學物種因吸收（或發射）紅外線 輻射而在某些振動模式下產生振動或振動-轉動能量的變化。此外，紅外線 光譜儀經過傅立葉轉換儀器後可獲得（1）較大能量輸出（2）頻率準確度 及精準度非常高（3）多重性。藉由紅外線光譜的分析，化合物的鑑定與含 量得以鑑定。實驗中使用只經過一次全反射的調減全反射（Attenuated total
reflectance，ATR）法分析。
樣品製備：將樣品旋轉塗佈在 ITO 玻璃表面，待溶劑揮發後即可。
紫外光-可見光-近紅外光光譜儀（Near IR-Ultraviolet-visible Spectroscope）
廠牌、型號：Hitachi，U4100
原子力顯微鏡（Atomic Force Misroscope, AFM）
廠牌、型號：Digital Instruments Nanoscope III
原理及功能簡介：利用 xy 壓電移動平台，使微細的探針在樣品表面來回掃 描偵測，並且利用回饋迴路控制探針在 z 方向上的位置。當探針接觸到樣 品表面時，探針與樣品表面的作用力會造成懸臂簧片之微小偏曲，並將此 偏曲訊號轉換成電流，輸入回饋迴路，可得到樣品的表面形貌。
樣品製備：將樣品旋轉塗佈在 ITO/PEDOT:PSS 上即可觀測。
熱蒸鍍機（Thermal Coater）
廠牌、型號：ULVAC，CRTM-6000
旋轉塗佈機（Spin Coater）
廠牌、型號：Laurell，WS-400B-6NPP/LITE
Vacuum Drying Oven
廠牌、型號：Channel，VO-30L
元件測量設備
＊模擬太陽光源（AM1.5G irradiation (100 mW cm–2)）
廠牌、型號：Newport，66902-150W Xenon Lamp Solar Simulator
原理及功能簡介：由於自然的太陽光源會受到各種因素所干擾，所以使用 模擬太陽光源可以將實驗參數固定在相同的條件下。利用氙氣燈搭配透鏡
可以模擬出光源頻譜強度為 AM1.5 且均勻穩定的光源。
＊光強度偵測計
廠牌、型號：OPHIR Thermalpie
原理及功能簡介：利用熱感應的方式，定量光的強度，用來搭配模擬太陽 光源，可以調整校正光源的強度以達到所要求的強度和頻譜。
＊紅外光光源
廠牌、型號：Newport ，LQN830
＊電性分析儀
廠牌、型號：Keithley，Model 236
原理及功能簡介：能做一電壓源並偵測電壓和電流，靈敏度 10fA，10 V
＊外部量子效率量測（External Quantum Efficiency，EQE）
使用 SPF50 光譜儀量測，並以 Si cell 校正 300-1060 nm 波段的光、以 Ge cell 校正 1060-1800 nm 波段的光。
表面輪廓儀（Surface Profiler）
廠牌、型號：Veeco，Dektak 150
原理及功能簡介：表面輪廓儀又稱為 alfa-step，一般用來量測薄膜厚度。
常應用在量測金屬蝕刻深度、光阻塗佈厚度、半導體化合物元件厚度以及 觀察薄膜成膜性質與缺陷等等。表面輪廓儀是由二維平台、鑽石探針、LVDT、
高放大倍率照相機和電腦控制系統所組成。鑽石針頭輕掠過試片表面，將
試片表面粗糙影響轉換為探針的垂直移動，透過 LVDT（Linear Variable Differential Transformer）產生電子類比訊號，經由類比-數位轉換器將 類比訊號轉換成數位訊號，傳送至電腦系統得到訊號圖，最後利用軟體作 掃描數據分析，可得到薄膜表面的資訊。
樣品製備：將薄膜以鋒利的刀片用力劃一刀刮除即可。