隨著政府宣示兩兆雙星重點獎勵產業在台灣蓬勃發展，泛半導體與 TFT-LCD 產業及環保節能如太陽能、LED 產業等掘起，台灣已是十二吋 廠密度最高的國家，而 TFT-LCD 的產值也不遑多讓，然而這些科技產業 的生產設備機台皆在高度潔淨的無塵室內，而隨著製程技術複雜化，各模 組製程用到的化學品具有毒性、可燃性、自燃性及腐蝕性等本質危害之特 性，故廠房潛藏了火災、爆炸及氣體外洩等危害，除可能導致設備損壞、
環境污染外，嚴重時可能造成生產中斷或人員傷亡。
在半導體工廠中，使用危害氣體甚多，氣體監測器在安全監控系統上 扮演極重要之角色，而且是相當重要的系統。因應產業發展需求，氣體監 測系統扮演之角色已不僅止作為緊急狀況發生時之警示工具；將監測系統 用於設備附屬機台區，可隨時監視管路區之環境是否有不當洩漏；一旦有 洩漏發生可以第一時間反應至廠區之緊急應變中心，以期將災害程度減至 最低。
半導體廠房製造過程中使用大量毒性、可燃性、腐蝕性氣體，由儲存、
供應及生產後由尾氣排放，但一般廠內只針對原物料進行洩漏監測，對於 製程反應後管路設備洩漏並無特別監測，為確保設備保養人員於設備管路 區作業無安全疑慮，應於該區設置即時且有效之監測系統，本文以半導體 廠化學氣相沉積(CVD)尾氣處理區常見異常案例，評估此系統設置必要性 及最佳設置方法，以期掌握異常狀況並防範氣體洩漏危害所造成的損失，
成為本論文之研究動機。
CVD Utility 區 主 要 設 施 為 PUMP (Line)、Local Scrubber，
(如 圖 1-1)。
圖 1-1 CVD Utility 區 主 要 設 施 為 :PUMP (Line)、 Local Scrubber
1.2 研 究 目 的
本研究目的主要探討 CVD 區機台附屬設備管路區之環境監測，先探討該 環境可能會因製程尾氣管路破損，造成大量的製程反應物(by product)外 洩，或是長時間微量外洩，而造成設備或管路的腐蝕，嚴重者使長時間執 行維設備維護保養的人員(PMO)因長期暴露於有害環境，而造成職業病等 之危害；透過氣體監視系統(GMS)的擴充運用，並細部驗證其佈點與偵測 效率之差別，防範管路區之環境之不良洩漏情形，系統設置完成後，以實 務發生的案例，強化系統之信賴度。
1.3 研 究 範 圍
以晶圓廠 CVD 管路設施區為主要研究範圍，原因如下:
z 發生過異味異常。
z 人員 PM 作業頻繁(每天約 4 台)。
z 相對其他區使用最多危害氣體，如矽甲烷 (SiH4),SiF4,NF3,NH3,ClF3,WF6,DCS,O3等。
z 現場作業環境不佳。
研究結果亦適用於相關產業如 TFT LCD,及相關製程物理氣相沉積 (PVD),或爐管區等。
1.4研究方法與架構
研究方法與架構採 FORD 8D 手法，(如圖 1-2)。FORD 8D 主要用於 全面品質管制，後經發揚光大，而適用於找出偏誤、真因、及建立標準化 的一種手法，其手法包含了 PDCA(plan-do-check-action)，是一個適於探 索問題並獲至解答的研究手法。
圖1-2 研究方法與架構
第二章文獻回顧