※ 配位子 ONO2A 溶液之配製
根據送測元素分析儀 Heraeus CHN-O Rapid 的結果(見附錄(6.)),
N%,6.94;C%,28.49;H%,5.29。加上合成 ONO2A 鹽類的過程,
得合理推測合成後 ONO2A 鹽酸應該有 HBr 及結晶水。經過多種的可能組 合推算,鹽類應為 ONO2A‧2HBr‧0.75H2O,計算得分子量為 421.58。
稱取 0.4216 g 的 ONO2A‧2HBr‧0.75H2O (s),溶於少量二次水,加 入定量瓶中,補二次水達 20 ml,為 50.0 mM 的 ONO2A(aq)母液。再取 4 ml 的 ONO2A(aq)母液,定量瓶稀釋達 20 ml,為 10 mM 之 ONO2A(aq)。
※ 配位子 ONO2A 溶液濃度之標定
配好的配位子 ONO2A(aq)為求精準,需以標準程序標定濃度。
* 標定方法:
1. 配製一級標準酸 KHP(potassium hydrogen phthalate)溶液:
取多量的 KHP(s),置於 70 ℃烘箱中 3 小時,乾燥。稱取 2.042 g 之 KHP(s),以二次水溶解,加入 100 ml 定量瓶,配成 0.10 M 的 KHP(aq)
標準液。
2. 配製 TMAOH(tetramethylammonium hydroxide,(CH3)4NOH)溶液:
取 22.73 ml 的 TMAOH(aq)(~1.1 M)母液,加入 50 ml 的定量瓶,
以二次水稀釋,得約 0.50 M 的 TMAOH(aq),為滴定用之鹼液。
配好的鹼液裝置到 702 SM Titrino,Metrohm 中,鹼液瓶的蓋子除了 流通的管線外,還要再接上一瓶的鹼石灰(eg., Sodalime,Merck),
以除去空氣中過多的水氣及二氧化碳,維持鹼液的濃度。另外,滴定 槽接循環水流,控制溫度在 25±0.1 ℃。
滴定槽內加入 0.50 ml 的 KHP(aq)標準液,在補二次水達 5.0 ml,攪拌 子攪拌平衡,以 Metrodata TiNet 2.4,Metrohm 軟體為滴定計量。
TMAOH(aq)與 KHP(aq)之滴定為一般的酸鹼平衡,設定值為 V step:
0.004 ml;signal drift:5 mv/min;equilibrium time:100 s。由 0.50 ml 的 0.10 M KHP(aq)所需的 TMAOH(aq)體積計算標定 TMAOH(aq)的濃 度。
3. 配製 TMACl(tetramethylammonium chloride,(CH3)4NCl)溶液:
取多量的 TMACl (s),置於 70 ℃烘箱中 3 小時,乾燥。稱取 4.38 g 之 TMACl (s),二次水溶解,加入 20 ml 定量瓶,配成 2.0 M 的 TMACl (aq) , 為所需之離子強度劑。
離子強度的計算方法:
2 2 21 2 A a B b C c
[A] 、 [B] 、 [C] …代表該 A、B、C…離子的莫耳濃度;
a 、 b 、 c…則代表 A、B、C…離子的電荷
以 CuONO2A 為例:ONO2A‧2HBr + CuSO4→ CuONO2A + 2Br- + SO42- + 4H+ μ=1/2 [ 2(-1)2 + (-2)2 + 4(+1)2 ]=5
如配 5.0 ml,配位子濃度 2.0 mM,μ=0.10 M 之滴定溶液 需補 2 M TMACl (aq):[(0.10 – 5 × 0.002) × 5.0] ÷ 2=0.225 (ml)
4. 以 TMAOH(aq)標定配位子 ONO2A 溶液:
在滴定槽中加入 1000 μl ONO2A (aq);250 μl TMACl (aq);3750 μl 二 次水,配成體積 5 ml,配位子濃度 2.0 mM,μ=0.10 M 之滴定溶液,
控制溫度在 25±0.1 ℃,攪拌子攪拌平衡。
滴定前,電極先以 pH 7.00;pH 4.01;pH 9.95 三個標準液做校正,
pH(as)=7.0±0.10;slope=0.999~0.985。
滴定超過 5 個 ONO2A 當量的 TMAOH(aq),會在約 3 當量的 TMAOH(aq)
體積,產生一個反曲點(圖 3-1.)。
5. 以 TMAOH(aq)標定配位子 CuONO2A 溶液:
因為合成的過程中,生成配位子溴酸鹽,一個 ONO2A 不一定有整數 個 HBr。為求精確,還要再以 Cu2+錯合標定,以交叉確定 ONO2A (aq)
的濃度。
配體積 5 ml,配位子濃度 2.0 mM,μ=0.10 M 之滴定溶液:取 1000 μl ONO2A (aq)、已標定濃度的 CuSO4(aq)(標定方法及原理見第四章), 過量 5%,即 10.50 mmole、225.0 μl TMACl (aq),補足二次水達 5 ml,
控制溫度在 25±0.1 ℃,攪拌子攪拌平衡。
以 TMAOH(aq)滴定,Metrodata TiNet 2.4,Metrohm 軟體計量,設定 值為 V step:0.001 ml;signal drift:1 mv/min;equilibrium time:200 s。
滴定超過 5 個 ONO2A 當量的 TMAOH(aq),會在約 4 當量的 TMAOH(aq)
體積,產生一個反曲點(圖 3-1.)。
【圖 3-1.】 ONO2A 及 CuONO2A 酸鹼滴定曲線
moles of TMAOH / moles of ligand
0 1 2 3 4 5 6
pH
2 4 6 8 10 12
ONO2A CuONO2A
(例)ONO2A (aq)濃度計算:
ONO2A 在滴定了 0.0601 ml TMAOH,產生反曲點。CuONO2A 則在 滴定了 0.0801 ml TMAOH,產生反曲點。
根據錯合的原理,推測兩者反曲點之間相差 1 個當量的 H+。 標定之 TMAOH(aq)=0.4745 M
( 0.0801 - 0.0601 ) ×0.4745=1 ml ONO2A (aq)的毫莫耳數 ONO2A (aq)=9.4900 mM
如果以 ONO2A 在滴定了 0.0601 ml TMAOH,產生的反曲點做為 3 個當量的 H+,則 ONO2A (aq)=9.5058 mM
兩種方法標定 ONO2A(aq)濃度在誤差範圍內(0.16%),因此認定合成 的配位子包含 2 個溴酸鹽。
※ 配位子質子化常數之滴定原理 constant),而
K
HHnL'為總質子化常數(overall protonation constant),其 關係式為: total ion ligand concentrat concentrat ion ion bound to ligand species
hydrogen
溶液中總氫離子濃度
H
t,包含未鍵結與鍵結(free and bound)的部 份,因此在溶液中的質量平衡式為: H
t i H
iL H
OH
式(6.) i H
iL
:與配位子鍵結的氫離子濃度(the total bound hydrogen ion concentration) H
:從配位子解離出的自由氫離子濃度(the total free hydrogen ion concentration) OH
: 氫離子濃度的校正因子(the correction term for hydrogen ion concentration formed by the dissociation of water)在滴定的過程中,持續將強鹼加入溶液中,所以氫離子的總濃度會下 降,此時
H
t也可以寫成:
V b L H
tn
t
式(7.)n :配位子質子化總數(number of protonation sites on the ligand)
L
t:配位子總濃度(total ligand concentration) H
t:溶液中氫離子總濃度(total hydrogen ion concentration in the solution)V
:體積校正因子(a volume concentration factor for dilution)b
:滴定過程中所加鹼的量 根據式(6.)、式(7.)可得:
i H
iL H
tH OH n L
tb H OH
式(8.)若取 half-integral a 值(mole of base / mole of ligand)為
K
HHnL值,
代入式(5.)便可以得到
ni i n
i i
l theoretica
L H
L H i h
0
1 ,且與實驗值所得到的 htheoretical
存在一個標準偏差值,利用電腦反覆取點運算後可找出最小偏差,同時也 可找出正確的
K
HHnL(質子化常數)。※ 配位子 ONO2A 之質子化常數
將 ONO2A (aq)及 TMAOH(aq)滴定的結果(圖 3-2.),以 Microsoft EXCEL 軟體處理,取前 60~70 點的數據,再輸入 Martell PKAS 程式,鍵入標定 後的 TMAOH(aq)濃度及 ONO2A (aq) 毫莫耳數,即可得到配位子 ONO2A 之質子化常數(LogKi)。
* ONO2A 質子化常數之計算結果:
【圖 3-2.】ONO2A 濃度 2.0 mM,μ=0.10 M(TMACl)體積 5.0 ml,以 TMAOH 滴定之結果
ONO2A Titration
Equivalents
0 1 2 3 4 5 6
pH
2 4 6 8 10 12
0827-1
0827-2
0827-3
實驗值 參考資料30 參考資料34 LogK1
10.61(±0.05)
10.57(±0.01) 10.8LogK2
4.96(±0.15)
4.02(±0.08)LogK3
2.50(±0.03)
1.8(±0.3)LogK4
1.71(±0.02)
<1【表 3-1.】ONO2A 質子化常數
根據 Delgado et al.30,利用 NMR 滴定,找出 ONO2A 的質子化順序
(圖 3-3.),第一個質子化(LogK1)是在 ONO2A 任一個 N 上,第二個質 子化的位置,則是尚未質子化的 N 上的 COO-,再來是另一個 N 上的 COO-, 最後才是另一個 N。
但是根據林玉淳學姐分子模擬 41以及 ONO 本身的質子化常數 30、乙 酸根及三級氮的鹼度,分析結果應該是水溶液下 pH 7 時,大環上的兩個 N 就會部分質子化,最後質子化的則是兩個酸基。
* 不同配位子之質子化常數:
ONO2A
NO2A29 PhNO2A29 ODO2A35 ONO30LogK
110.61 (±0.05) 11.24 (±0.09)
10.69(±0.02)
10.88(±0.02)
9.68LogK
24.96 (±0.15) 6.42 (±0.07)
5.56(±0.07)
5.96(±0.11)
5.45LogK
32.50 (±0.03) 3.03 (±0.13)
3.02(±0.05)
2.85(±0.13)
LogK
4 2.04(±0.10)
ΣpK
a18.07
22.73 19.27 19.69 15.13【表 3-2.】相關不同配位子之質子化常數。
PhNO2A(1-phenethyl-4,7-bis(tert-butoxycarbonylmethyl)-1,4,7-triazacyclononane); ODO2A(1-oxa-4,7,10-triazacyclononane-4,10-diacetic acid)
ONO(1-oxa-4,7-diazacyclononane)
因為如果環上 N 質子化後,會跟尚未質子化的 COO-形成內分子氫鍵
30,會穩定整個分子的結構,因此加了酸基的 ONO2A 之 LogK1會比 ONO 的值來得高。如果就整個分子而言,N 與 COO-產生的氫鍵最強,大於 O。
因此,蔡政憲學長所做的 NO2A 其 LogK1的數值比 ONO2A 來得高。
若與 ODO2A 35相比,因為十二元環的內部質子化的情況影響因子較 多,因此 LogK1又比 ONO2A 數值大些。
第四章 配位子 ONO2A 與鑭系金屬穩定常數之研究
K
ML:金屬離子錯合物的穩定常數(stability constant)K
HMHL:金屬離子錯合物的質子化常數 balance)與質量平衡(mass balance)求得: L
t:配位子總濃度(total ligand concentration)K
n:配位子質子化常數(protonation constant) L
t L HL H
2L H
nL MHL ML
M
t:金屬離子總濃度(total metal ion concentration) M
t ML MHL M ML X
1 M
式(D.) H
t:溶液中氫離子總濃度(total hydrogen ion concentration in the solution)n :配位子質子化總數(number of protonation sites on the ligand)
V
:體積校正因子(a volume concentration factor for dilution)b
:滴定過程中所加鹼的量※ 金屬陽離子濃度之標定方法
配位子對金屬離子的穩定常數,建立在配位子與金屬離子濃度的精準 度,當兩者的濃度被標準化過之後,所得的穩定常數才有意義。第三章已 經有標定配位子濃度的方法,金屬離子的濃度標定通常就是利用配位子與 之錯合前後的反應來決定。
例如 Na2H2EDTA(Disodium ethylene diaminetetraacetic acid),此 配位子試劑有四個酸基及兩個氮原子具有電子供給團,可以與金屬離子形 成穩定的六配位錯合物(圖 4-1.),當所有金屬陽離子皆與配位子反應後,
即達滴定終點(end point),其莫耳比率為 1:1。因此,Na2H2EDTA 時 常被拿來標定金屬離子濃度。
【圖 4-1.】 EDTA 與鈣離子形成六配位錯合物
標定金屬離子濃度的實驗,除了配位子試劑及金屬離子外,尚需金屬 離子指示劑(indicator)及緩衝溶液(buffer)。例如 Eriochrome Black T 在 pH 10.0 的金屬離子水溶液中為酒紅色,而當足量的 EDTA 與金屬離子 螯合反應後,溶液會由酒紅色轉為藍色,此時即達滴定終點。
利用 Na2H2EDTA 來標定金屬離子時,以下三種方法是較常被使用的:
1. 直接滴定法(direct titration method):
大約有四十種的金屬陽離子可利用以知濃度的 Na2H2EDTA(aq)及適合 的指示劑來直接滴定未知金屬離子溶液濃度。
2. 反滴定法(back titration method):
先加過量的 Na2H2EDTA(aq)到金屬溶液中,再利用標準的其他金屬溶 液(Zn2+、Mg2+)滴定過量的 Na2H2EDTA(aq)達滴定終點。此方法適 合以下幾種情況:(A)金屬離子與 Na2H2EDTA(aq)反應速率遲緩;(B)
無適合的金屬離子指示劑;(C)金屬離子容易產生沉澱。
3. 交換反應滴定法(exchange reaction titration method)):
過量的 Zn-EDTA 或 Mg-EDTA 加入金屬溶液中,若欲分析的金屬與 EDTA 形成更穩定的錯合物,則 Zn2+或 Mg2+會游離,再以標準的 Na2H2EDTA(aq)標定其濃度。此法適用於無適合指示劑可用時。
實 驗 中 , 所 有 用 來 與 配 位 子 ONO2A 錯 合 的 金 屬 溶 液 , 濃 度 都 是 以 Na2H2EDTA 直接滴定法標定而得。
※ 金屬陽離子濃度之標定原理
4
K
MY為條件形成常數(conditional formation constant),會隨著 pH 值不同 而有所不同。※ 金屬陽離子濃度之標定步驟
* 配製溶液:
1. 0.10 M Ca2+溶液的配製:
將過量 CaCO3(s)放置在 100 ℃的烘箱 2~3 小時,烘乾後秤取 1.009 g,
溶於少量的二次水中,小心地滴入 12.0 N HCl(aq)將 CaCO3(s)慢慢溶 解,最後以 100 ml 的定量瓶加二次水稀釋成 0.10 M 的 Ca2+(aq),此為 標準濃度的 Ca2+(aq)。
2. 0.10 M Na2H2EDTA 溶液的配製:
秤取 18.613 g Na2H2EDTA(s),將之以二次水溶解後,用 100 ml 的定 量瓶稀釋成約 0.10 M 的 Na2H2EDTA(aq)。
3. 指示劑的配製:
◇ Erichrome Black T(EBT):取 Erichrome Black T(s) 0.20 g,以 20 ml 的定量瓶稀釋成 1.0% Erichrome Black T(aq)。
◇ Murexide:取 Murexide(s) 0.04 g,用 20 ml 定量瓶加二次水稀釋 成 0.2% Murexide(aq)。
◇ Xylenol Orange:取 Xylenol Orange tetrasodium salt(s)0.20 g,
用 20 ml 定量瓶加二次水稀釋成 1.0% Xylenol Orange(aq)。
4. 緩衝溶液的配製:
緩衝溶液的配製根據 Henderson-Hasselbalch equation,
ml ml
mole g L g
M 0 . 50 60 . 05 1 . 049 / 0 . 44 10
. 50 0 . 6
1
的 CH3COOH(aq)調整 pH 值到約 5.0~6.0,再補水至 500 ml。
5. 金屬陽離子溶液的配製:
◇ 過渡金屬離子 Ni2+、Cu2+、Zn2+、Cd2+溶液的配製:
稱取足量的 Ni(NO3)2〃XH2O(s)、Cu(NO3)2〃XH2O(s)、Zn(NO3)2〃 XH2O(s)、Cd(NO3)2〃XH2O(s),加二次水配製成 100 mM 的 100 ml 水溶液。
◇ 鑭系金屬離子 La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、 Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+、Yb3+、Lu3+溶液的配製:
稱取足量的 Ln(NO3)3〃XH2O(s),加二次水配製成 20 mM 鑭系金 屬離子 20 ml 水溶液。
* 標定濃度:
1. 取 5 ml 0.10 M Ca2+(aq)及 15 ml 的 NH3/NH4+0.10 M pH 10.0 緩衝液,
加入小燒杯中,再加入兩滴 1.0% Erichrome Black T(aq)指示劑。以 EDTA(aq)滴定至小燒杯中,達當量點的時候,溶液由紫紅色變藍色。
此時,EDTA 與 Ca2+為 1:1 當量錯合,紀錄 EDTA(aq)滴定的體積。
由多次滴定的當量點體積平均值推算出精確的 EDTA(aq)濃度。
2. 取 1 ml 標定過的 EDTA(aq)及 5 ml NH3/NH4+0.10 M pH 7.0~8.0 緩 衝液,混合於小燒杯中,加入兩滴 0.2% Murexide(aq)指示劑,將過 渡金屬離子等(Ni2+、Cu2+、Zn2+、Cd2+)溶液滴定至燒杯中,到達 當量點時,溶液分別由粉紅色變為藍紫色、藍色、黃色、橙色,紀錄 過渡金屬離子溶液滴定的體積,由多次滴定的當量點體積平均值以 1:
1 當量計算 Ni2+(aq)、Cu2+(aq)、Zn2(aq)+、Cd2+(aq)的濃度。
3. 因為鑭系金屬在高 pH 值的水溶液環境下會產生 Ln(OH)3的沉澱,故 標定其濃度的時候用低 pH 值的緩衝液。取 2 ml 的 Ln3+(aq),加入 8 ml CH3COONa/CH3COOH 0.10 M pH 5.0~6.0 緩衝液,再加入兩滴 1.0% Xylenol Orange(aq)指示劑,此時的溶液為橙色的。以標定過的 EDTA(aq)滴定,到達當量點時溶液變成亮黃色,紀錄 EDTA(aq)滴定 的體積,由多次滴定的當量點體積平均值以 1:1 當量去計算 Ln3+(aq)
的濃度。
※ 配位子 ONO2A 與鑭系金屬之穩定常數
* 實驗方法:
配體積 5 ml,配位子濃度 2.0 mM,Ln3+(aq)濃度 2.0 mM(過量 5%),
μ=0.10 M 之滴定溶液:
計算後取適量標定過已知濃度 ONO2A (aq)、Ln3+(aq),TMACl (aq),補足二
計算後取適量標定過已知濃度 ONO2A (aq)、Ln3+(aq),TMACl (aq),補足二