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例 3.10:

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Academic year: 2022

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(1)

第 3 章 MOSFET 講義與作業

一、MOSFET

— 何謂場效:

¾ 經由外加垂直半導體表面的電場來調變半導體的傳導性或電流

— 重要性

¾ 70 年代實現,比起 BJT,可以做的很小

¾ 數位電路可以只含 MOSFET,不用電阻及二極體,所以可以製成高密 度 VLSI

¾ 引發第二次電子革命,使高密度 VLSI 可行

— 金屬-氧化物-半導體(MOS) 結構(MOSFET)

— 金屬:鋁或其他金屬,很多是用高導的多晶矽

— 氧化層:厚度 tox,介電常數εox

— N-MOS

(2)

— P-MOS

— n-MOSFET

„ 臨界電壓 VTN的含意:可看成 D-G 所形成之電位障(VD-VG),VGD恰抵 銷此電位障,則剛好通與不通之間

1. VDS與 IDS的關係如同一個線性電阻

(3)

2. 增加 VDS即 D 極電壓增加

3. VDS增加至飽和電壓 vDS(sat)= vGS-VTN

„ iD對 vDS之斜率為零

„ vGS-vDS(sat)= VTN:可想成 VTN= vGD(sat)

(4)

4. vDS>vDS(sat) :飽和區:理想 MOSFET 有固定之 D 極電流

— I-V 曲線 (n-MOSFET)

(5)

1. vDS<vDS(sat)為非飽和(三極)區:

„ vGS增加則 iD 對 vDS的起始斜率增加

„ 且 vDS(sat)增加(如圖虛線)

„

2. 飽和區

„ 理想上,增量(小訊號)電阻為無限大(因 iD與 vDS無關)

(6)

„

例 3.1:

n 通道 MOSFET 之參數為 VTN=0.75V,W=40μm,L=4μm,

μn=650cm2/V-s,εox = (3.9)(8.85×10-14)F/cm。求當電晶體在飽和區,

VGS = 2VTN之 iD電流。

解:

算出導電參數

假設在飽合區 vGS=2VTN

(7)

— MOSFET 電路符號

„ n-MOSFET

„ p-MOSFET

— n-MOSFET 與 p-MOSFET 的比較

„ 以上討論為長通道元件下的 I-V 特性曲線

‹ 通道長度大於 2 μm

(8)

‹ 在通道中的水平電場是由 vDS 所造成

‹ 在通道中的垂直電場是由 vGS 所造成

‹ 兩電場間之間互為獨立不受影響

„ 短通道效應

‹ 現今元件中通到長度大多在 0.2 μm 範圍或更短

‹ 臨界電壓 ---VT 正比 L 反比 vDS

‹ 通道導電常數---Kn` 正比 μn 反比 EG

‹ 與反轉層的垂直電場(正比於 vG)成正比

‹ 漂移速度飽和

‹ 當通道水平電場(正比於 vDS)持續增加,則水平飄一速度會達到一 個固定值後不再增加

‹ 造成較低的 vDS(sat) ⎝ 在較小的 vDS下,iDS就會達到飽和電流

‹ iDS - vG 在飽和區形成線性關係(長通道下圍二次曲線關係)

— 非線性電流電壓特性

„ 有限輸出阻抗

(9)

二、MOSFET 直流電路分析

例 3.3:

一個 n 通道增強型 MOSFET 之共源極電路,求其 ID 和 VDS。如圖(a) 之電路,

R1 = 30kΩ,R2 = 20 kΩ,RD=20 kΩ,VDD= 5V,VTN= 1V,Kn = 0.1mA/V2。

解:

假設電晶體偏壓於飽和區,汲極電流為

汲-源極電壓為

大於

Vds,sat = Vgs-Vtn = 2-1=1 Î 符合飽和區的假設

(10)

例 3.4:

電路如圖 3.26(a), 設 R1=R2=50kΩ,VDD=5V,RD=7.5 kΩ,VTP= -0.8V,

KP=0.2mA/V2

解:

假設電晶體偏壓於飽和區中,則汲極電流

源-汲極電壓為

小於

Vsd,sat = VSG + VTP = 2.5 – 0.8=1.7 V

(11)

重算汲極電流

解一元二次方程式, 得

源-汲極電壓為

VSD<VSD(sat)確認電晶體於非飽和區中

例 3.10:

如下圖之電路,電晶體參數 VTN=0.8V,Kn=0.05mA/V2,求 ID、VGS

解:假設電晶體偏壓於飽和區,直流汲極電流為

直流汲極到源極電壓為

解上兩聯立方程式

其兩解分別為

(12)

可解出

例 3.11:

其電晶體參數為 VTND = VTNL = 1V, KnD = 50μA/V2, and KnL = 10μA/V2, 並假設λnD = λnL = 0。

(下標 D 所指的是驅動電晶體,而 L 所指的為負載電晶體) 試算出當輸入為 VI=5V 與 VI=1.5V 時,輸出值 V0為何 ?

(a) 輸入為 VI=5V 時:

若 VI 為高電位,VO則降為低準位 ÎVDSD 應為較低電位

Î假設驅動電晶體將偏壓在非飽和工作區域 但 負載電晶體將偏壓在飽和工作區域

在負載電晶體的 IDL應當等同於驅動電晶體的 IDD

(13)

利用二次方程式的求解公式

由於 VDSD = V0 = 0.349 V < VGSD – VTND = 5 – 1 = 4 V,則驅動電晶體偏壓在非飽 和區,如同起始假設工作狀態

工作電流

(b)輸入為 VI=1.5V 時:

由於驅動電晶體 VTN = 1V 且 VI=1.5V Î IDD 應當相對較小ÎVo 應當相對較大 . 我們假設驅動電晶體將偏壓在飽和工作區域 在負載電晶體的 IDL應當等同於驅動電晶體的 IDD

(14)

可求得 Vo=2.88V

由於 VDSD = Vo = 2.88 V > VGSD – VTND= 1.5 – 1 = 0.5 V,

驅動電晶體將如同前述設定的偏壓工作在飽和區 而工作電流為

參考文獻

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