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化學需氧量測定儀(COD Analyzer) 生物需氧量測定儀(BOD Analyzer)

高效能液相層析電灑質譜儀

3-2 實驗材料與設備

3-2-1 染料

實驗一以酸性藍1(Acid Blue 1,簡稱 AB1),作為目標污染物,由 Tokyo Kasei Kogyo Co 公司提供(為試藥級,純度 99.9%)。AB1 屬於三苯基甲烷 類之陽離子性染料,結構主要藉由中心碳鍵結三個苯環,其在各個苯環上 對位位置含有胺基團(其上還有 N, N-二甲基或乙基等取代基團)。主要應用 於染整工業,包括尼龍、毛織品、棉與蠶絲,以及商業上的油漆、塑膠、

衣服、化妝品與食物色素之染色等等。

實驗二以結晶紫(Crystal Violet,簡稱 CV),作為目標污染物,由 Tokyo Kasei Kogyo Co 公司提供(為試藥級,純度 99.9%)。CV 是屬於三苯基甲 烷類之陽離子性染料,結構主要藉由中心碳鍵結三個苯環,其在各個苯環 上含有 N,N-二甲基胺基團。主要應用於染整工業,包括尼龍、毛織品、

棉與蠶絲,以及商業上的油漆、塑膠、衣服、化妝品與食物色素之染色等。

各染料的結構、分子量及最大吸收波長λ

max

分別如Table 3-1。 

Table 3-1 TPM 染料之基本物化性質 (1) AB1

Dye Acid Blue1

Abbreviation AB1 Molecular formula C

27

H

32

N

2

O

6

S

2

Molecular weight (mole/g) 544.68 Absorption maximum (nm) 640

Structural formula

N N

SO 3 H

SO 3 H

(2) CV

Dye Crystal Violet

Abbreviation CV Molecular formula C

25

H

30

ClN

3

Molecular weight (mole/g) 407.98 Absorption maximum (nm) 588

Structural formula

N

N H 3 C N

CH 3

CH 3 CH 3

H 3 C CH 3

Cl

3-3 實驗藥品

3-3-1 測試過硫酸鹽高級氧化程序藥品

(1) 過氧硫酸鉀三聚鹽(2KHSO

5

‧KHSO

4

‧K

2

SO

4

):純度>99%,

SIGMA-ALDRICH

(2) 六水合硝酸鈷(II) ((Co(NO

3

)

2

‧6H

2

O):純度>99%,ACROS 3-3-2 測試染料廢水藥品

(1) 酸性藍 1(Acid Blue 1):純度>99%,Tokyo Kasei Kogyo Co.

(2) 結晶紫(Crystal Violet):純度>99%,Tokyo Kasei Kogyo Co.

(3) 氫氧化鈉(NaOH):Merck Co.

(4) 硝酸(HNO

3

):Merck Co.

3-3-3 合成奈米級鎢酸鉍觸媒

(1) 硝酸鉍(Bi(NO

3

)

3

.5H

2

O):純度>99%,Aldrich (2) 鎢酸銨(NH

4

)

10

W

12

O

41

.5H

2

O):純度>99%,Aldrich (3)

乙二醇(CH 2 OHCH 2 OH):Panreac 

(4) 氫氧化銨(NH

4

OH):島久藥品

3-3-4 高效液相層析電灑質譜(HPLC-ESI-MS)分析藥品 (1) 醋酸銨(CH

3

COONH

4

):Merck Co.

(2) HPLC 級甲醇(CH

3

OH):J. T. Baker Co.

去離子水:由 Milli-Q water ion-exchange system (Millipore Co.)純化。 

3-4 實驗設備

(1) 迴流設備:循環水溫度:25±1℃。

(2) 照光設備:使用 Chromato-VueR 之 C-75 型照光箱,內有兩組 UV-365nm 紫外光燈管(15W)來進行照光實驗,如 Fig.3-1[51]。

   

 

Fig.3-1. 照光設備:(1) Chromato-Vue C-75 型照光箱、(2) UV 燈管 15W(365nm)、(3)磁石攪拌器,(4)磁石,(5) 100mL 定量瓶。

(3) 數位式多功能離心機:CN-2060 (4) 抽氣過濾裝置

(5) 熱風循環烘箱、高溫爐

 

 

 

3-5 實驗步驟

3-5-1 過硫酸鹽高級氧化程序(實驗一)

本實驗以 AB1 染料作為目標污染物,

(1) 取 0.1 g AB1 溶於 100 mL 之去離子水,配置成 1000 mgL

-1

貯存液 (可保留 6-12 個月)。

(2) 取適當的體積,以去離子水稀釋至 50 mg/L,其體積約為 95 mL。

(3) 分別調整 pH 值至 3 至 9,定量至 100 mL,使其濃度為 50 mgL

-1

(4) 測試不同莫耳濃度比 Co

2+

:PMS,其操作參數與範圍列於 Table 3-7。

(5) 本實驗主要以中性環境下進行氧化還原反應,每隔 5 分鐘,取 1 mL 樣 品。

(6) 反應最終產物以 HPLC-ESI-MS 分析。

Table 3-2. 過硫酸鹽高級氧化程序操作參數與範圍

操作參數 操作範圍

Co

2+

(mM) 0.25-1

PMS (mM) 0.25-1

pH 值 3-9

溫度 (℃) 室溫

3-5-2 合成 Bi 2 WO 6 光觸媒(實驗二)  

(1) 水熱法合成奈米鎢酸鉍

1. Bi(NO

3

)

3

.5H

2

O (4 mmol;1.94 g)加入 H

2

WO

4

(0.17 mmol;0.042 g)。

2.加入 Ethylene glycol 20ml 及 D.I. water 70ml 。 3.將溶液置入三角錐型瓶內,並裝置迴流設備。

4.以水熱法(200℃)分別加熱迴流 24 h、48 h、及 72 h。

5.冷卻後,將濾液以 0.45 μm 過濾。

6.以 85℃烘乾 72h。

7.將粉末以研缽研磨備用。

 

(2) 微波水熱法合成奈米鎢酸鉍

1. Bi(NO

3

)

3

.5H

2

O (4 mmol;1.94 g)加入 H

2

WO

4

(2.04 mmol;0.51g)。

2.加入 Ethylene glycol 20ml 及 D.I. water 70ml。

3.將溶液置入鐵氟龍管內,每管 30 ml 。

4.以微波水熱溫度 160℃維持 0.25 h、0.5 h、1 h 及 1.5 h 。 5.冷卻後,將濾液以 0.45 μm 過濾。

6.以 85℃烘乾。

7. 將粉末以研缽研磨。

3-6 照光程序

實驗項目裡,每次依條件配製染料溶液濃度和調整pH值,再定量至100 ml,取5 ml是為C

0

,將製備好的Bi

2

WO

6

光觸媒取0.05 g加入CV染料中,反

應溶液置於可見光或紫外光照光箱或暗箱中,於開放系統下內進行催化反 應。遮光攪拌30分鐘後,取0小時(5 ml),每8小時定時取樣5ml,光催化實 驗於每次取5 ml後離心(轉速:3000 rpm,離心至少30分鐘)。

 

Table 3-3. 各項實驗參數

實驗二

(1) 使用染料 CV

(2) 使用觸媒 Bi

2

WO

6

(3) 反應溶液pH值 3, 5, 7, 9 (5) 觸媒克數 (gL

-1

) 0.05 (6) 染料濃度(gL

-1

) 0.01 (8) 照光光源類型

UV /Dark

 

 

3-7儀器與分析方法

3-7-1分離與鑑定

實驗一與二使用HPLC-ESI-MS:Waters W3100 LC/MS系統,裝備有一 個二進制泵浦、光電二極管列陣偵測器(Photo-Diode-Array; PDA)、自動採樣 器和微質量偵測器,用於分離與鑑定使用。並於實驗一和二中使用PDA UV-Vis光譜儀:Scinco S-3100系統。測定Co

2+

/PMS和Bi

2

WO

6

降解AB1及CV 染料樣品溶液的殘留量。每次取樣後,由PDA UV-Vis光譜儀測定其樣品紫 外光/可見光吸收值,以測定其樣品中染料的殘留量;或由HPLC(Waters 2998) 分離測定染料的殘留量。沖提液則為Solvent A-25 mM醋酸銨(CH

3

COONH

4

, pH = 6.9)緩衝溶液0.1 M (pH 4.66)和Solvent B-甲醇;流速為1 mL min

-1

其中,

分離管柱使用Atlantis

TM

dC18 column (250 mm × 4.6 mm i.d., dp = 5 μm)。分 離條件如Table 3-4。

Table 3-4. HPLC 分離過程中各時間的溶劑比例

梯度時間 CH

3

COONH

4

(ml min

-1

) CH

3

OH (ml min

-1

)

t = 0 min 0.95 0.05

t = 20 min 0.50 0.50

t = 40 min 0.10 0.90

t = 48 min 0.05 0.95

t = 50 min 0.95 0.05

3-7-2 表面特性分析

實驗二研究以SEM/EDS、XRD、XPS來觀察以水熱法及微波水熱法合成 的奈米晶體Bi

2

WO

6

之表面型態、結構組成及結晶構造、粒徑大小。使用的 儀器如下所述:

(1) 場 發 射 槍 掃 描 式 電 子 顯 微 鏡 (Field Emission Scanning Electron Microscopy, FE-SEM):JEOL JSM-7401F,JEOL, JSM-6330F。

(2) X射線粉末繞射儀 (X-ray Powder Diffractometer, XRPD):MAC Sience, MXP18 X-ray diffractometer with Cu Κα radiation (λ=1.54178 A), 使用 WAG廣角繞射(20-80度),其工作電壓與電流為40 kV和80 mA,掃描速 度為每分鐘4度。

(3) 電子能譜儀:高解析電子能譜儀(High resolution X-ray Photoelectron Spectrometer, HRXPS):ULVAC-PHI XPS, PHI Quantera SXM。化學分析 電子光譜儀(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA):Fison (VG) ESCA 210。

3-7-3 需氧量測定設備

(1) 化 學 需 氧 量 測 定 儀 (Chemical Oxygen Demand, COD Analyzer) : ROCKER/LOCAL

(2) 生物需氧量測定儀(Biological Oxygen Demand, BOD Analyzer):LTI-601

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