實驗設備介紹

3.1.1 純化系統-管式高溫爐 (Tube-Furnace)

在材料製備成元件前，可以利用真空昇華純化法消除材料中可能 成為電荷陷阱(trap)的雜質，提高材料的純度，避免雜質影響元件的 效率及穩定性(圖 3-1)。

圖 3-1 純化系統-管式高溫爐(Tube-Furnace)

3.1.2 超音波震盪機 (Ultrasonic Cleaner)

使用廠牌 DELTA 型號為 DC150 / DC150H (DC 強力型)的超音波 震盪機，超音波震盪機是藉由液體做為介質經過高速震盪，使液體內 的分子間產生無數微小真空氣泡，這些微小的真空氣泡在震盪受壓破 裂時，會產生強大的衝擊力，轟擊欲清潔的物品，使清洗物之表面及 細縫死角的汙物剝離，藉以達到清洗的效果。

3.1.3 紫外可見光光譜儀(UV-Visible Spectro photometer)：

Hitachi U-3010 型光譜儀進行測量，使用紫外光/可見光光譜儀來 量測吸收光譜 (圖 3-2)^[10]，本實驗利用來測量固態薄膜各色共參雜之 吸收圖譜。

圖 3-2 吸收光譜^[10]

3.1.4 螢光光譜儀(Fluorescence Spectrofluorometer)

使用 Hitachi F-4500 型光譜儀進行測量，利用 UV 吸收得知各色 共摻雜薄膜激發光源，利用其激發固態薄膜以掃描速率為 240 nm/min，

測量範圍由 200 nm 至 700 nm，可得知各色參雜濃度之放光強度有利 於濃度的選擇。

3.1.5 磷光光譜儀(Phosphoresce Spectrofluorometer)：

在本研究中使用 Hitachi F-4500 型光譜儀進行測量，在 77K 下測 量固態磷光，是利用蒸鍍法在石英片上蒸鍍薄膜(300 Å )後以掃描速率 為 240 nm/min，測量範圍由 200 nm 至 700 nm。

3.1.6 紫外光臭氧清洗機 (UV-ozone)

機台自組裝，利用紫外光以及由其產生的臭氧(ozone)，對有機物 質所起的光敏氧化分解作用會產生可揮發性氣體(H2O、CO2、CO 等)，

以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物 (圖 3-3)^[34]。光清洗後的 表面並不會有損傷或晶格缺陷的現象產生。

圖 3-3 紫外光臭氧清洗機^[34]

3.1.7 手套箱(Glove Box)

使用廠牌 MBRAUN 型號 MB10，因大氣環境下的水氧容易造成 有機材料的劣化，當製作成元件時會使元件特性產生變化，所以元件 製備完成後需送入手套箱以確保元件特性的穩定性，製程時也易與大 氣產生氧化作用，所以也應避免暴露於大氣中。

3.1.8 橢圓偏光儀(Ellipsometer)

使用廠牌為 SOPRA 型號 GE5 (中山大學張美熒老師實驗室)，橢 圓偏光儀是利用橢圓偏光術（Ellipsometry）進行分析量測，橢圓偏 光術是指一種光偏極態入/光偏極態出的測量方法，藉由比較反射光 與入射光的振幅及相位的改變，以決定表面特性及薄膜的光學常數及 厚度。

3.1.9 高真空蒸鍍系統(Vacuum Deposition System)

使用廠牌為 Ishi vacuum 型號 OLED-500，真空蒸鍍法(Vacuum Deposition)是一種物理氣相沉積法，在真空下利用高溫穩定熱源，將 欲沉積成膜之材料加熱至高溫使之氣化，當飄散上升時，遇冷凝結後 沉積在基板(substrate)表面(圖 3-4)^[34]。

欲沉積之材料如金屬或有機分子材料需盛裝在坩鍋或在鎢舟內，

掛在鎢籃上或直接夾在加熱源上作為蒸鍍源；一開始先使用機械幫浦 (Mechanical Pump)將腔體壓力抽至 4 10^-2torr，避免冷凍幫浦(Cryo Pump)在高壓力時運作，再利用冷凍幫浦細抽腔體壓力，待壓力到達 1 10^-6 torr，即達到蒸鍍金屬及有機材料的條件，才可開始加熱沉積 材料。

圖 3-4 高真空熱蒸鍍系^[34]