隨著科技進步快速以及知識經濟時代的號角吹響，智慧資本（Intellectual Capital）與智慧財產權（Intellectual Property Rights）的重要性也逐漸提 升。智慧財產的出現，讓人類對所擁有的財產的觀念，從有形、實體的物品，例 如：房子、汽車、股票等，加入了無實體的腦力產物，此概念的演變對人類社會 產生一定的影響，對產業組織間的行為，也有不小的衝擊。
智慧財產的概念及定義
1980 年代台灣高科技產業開始蓬勃發展的同時，台灣高科技廠商也開始接 二連三的受到外國大廠的侵權控告與訴訟威脅。除此威脅之外，從1974年以來，
美國政府在貿易法中制定三０一條款，主要授權美國總統決定外國是否實施不正 (unjustifiable)，不合理(unreasonable)，或歧視性(discrimination)之措施 以使美國商業(United States commerce)受到限制。倘若美國總統認定外國確有 上等情事之一者，得暫停或終止美國對該國依貿易協定所為之減讓，或對該國貨 品課以額外關稅或採其他進口限制。針對智慧財產權保護，美國政府係參眾二院 所提法，特別在1988年貿易法修正通過有關智慧財產權之部份，修正貿易法一八 二條，通稱特別三０一條款，依該法之所載，其制定智慧財產權保護條款係因某 些美國人須賴智慧財產權之保障，而此保障對於其國際之競爭力頗為重要;且若 外國未對美國之智慧財產權給予適當而有效的保障，並藉此否定美國商業進入其
市場之機會，對依賴智慧財產權保障之美國人之出口能力，將造成極大之損害，
且對美國之經濟利益亦將造成損害。
對於台灣廠商忽視智慧產財權情況下，美國政府以特別三０一條款貿易報復 向台灣當局施加壓力。漸漸地，智慧財產這一詞彙深入台灣地區廠商與居民的知 識中，台灣政府也開始了解，唯有重視與保護智慧財產權方能與國際接軌。因此，
台灣於2002年加入世界貿易組織（WTO）之後，在智慧財產權方面，根據GATT 之
「與貿易相關之智慧財產權協定」（TRIPS）原則，完成了對商標法、專利法及 著作權法的修正，並給予電腦軟體著作權的保護。而在立法方面，則是完成了營 業秘密法及積體電路布局保護法。
智慧財產的定義，廣泛的說法是包含一切人類智慧的結晶，例如：歌曲創作、
繪畫寫作、電影戲劇、各式發明物，甚至是商業手法與企業標章等等。工商企業 更將智慧財產視為公司的資產，稱之為「智慧資產」。然而存於人類腦中無具體 型態的智慧財產，相較於具有實體的實體財產更難以個人力量來作保全，因此，
必須藉助法律的規範以賦予創造出智慧財產的人法律層次上的保護，此即智慧財 產權的出現。然而，智慧財產權到底包括了哪些智慧結晶，賦予多大的權利於權 利擁有人，都會因人而異，定義與認知也會有所區隔。不同國家有不同的法制，
其智慧財產權的內涵也就有所不同。所以智慧財產權的落實，就須藉由國際共 識，方能讓智慧財產順利流通各國各地。
國際對於智慧財產權的共識開始於工業革命，許多工業國家為擴大其經濟市
場而大量向外輸出其產品，國際間貿易往來也日趨頻繁。但隨著工業產品的大量 生產及貿易，許多產業技術的發明與著名的商標也因此而遭受其他競爭者，尤其 是工業落後國家的剽竊與盜用，使得市場的利益受到威脅甚至因此損害了商譽，
其結果便造成了國際間不斷的貿易摩擦。
為了使各國之間維持貿易的公平性，1837 年世界先進工業國在維也納召開 了第一次的工業財產權會議，以期謀求共識與制定出一套國際間共同遵守之規 範。當時將工業財產相等於智慧財產，1873 年，在日內瓦國際發明展期間，許 多國家因害怕他們的創意與發明遭到剽竊而拒絕參展，此時智慧財產權保護的重 要性已正式浮上檯面。對於智慧財產權的保護措施，由於各國意見紛紛不一，期 間經過無數的交換折衝，1883年各工業國才在法國簽署了巴黎公約 ( Paris Convention)，以保護工業財產權，迄今已有192 個國家以上簽署該協定。巴黎 公約其涵蓋範圍包括專利、實用新型（utility models）、工業設計、商標、服 務標章、商號名稱、產地表示或原產地名稱及防止不正當之競爭等。除了防止不 正當之競爭外，巴黎公約所協定的工業財產，可謂最初期國際公認的智慧財產涵 蓋範圍。
1886 年為了讓人類智慧結晶保護更加周延，歐洲各國又在瑞士簽訂了伯恩公 約，以保護著作權，目前已超過一百個國家參予。同樣的，伯恩公約基於各國政 府須將國外人民給予同等於該國國民所受政府的任何保護與規範之國民待遇原
則，亦即各國對於其他公約國的著作必須與本國著作一樣採取同樣的保護手段。
公約中所揭示之重要原則有：
A. 保護條件：成員國對於在其他成員國創作之作品需採取自動保護的措施 而不需任何的通知或註冊 。
B. 保護期間：著作權保障的期限至少在作者在世期間加上五十年，若為法 人則為公開後至少五十年。
C. 保護範圍：著作權保護範圍應至少包含重製權、翻譯權、修改權、公開 演出權、公開展示權、公開廣播權及公開播映權 。
D. 保護區域：著作權的保護基於著作產生之國家，若著作第一次發表的國 家為公約國或著作人為公約國國民但著作第一次發表的國家為非公約 國，則著作皆受到保護。若公約國國民之著作未公開發表，在公約國中 仍受到保護。
由於國際間越來越重視智慧財產，需要一個國際性組織來統整智慧財產與智 慧財產權的流動，因此在 1893 年巴黎公約國與伯恩公約國進一步整合成為一國 際性組織－國際聯合智慧財產保護局(the United International Bureaux for the Protection of Intellectual Property，簡稱 BIRPI )，是為最早關於智 慧財產權的國際組織機構，透過該機構來進一步協調與規範各國對於智慧財產的 共識，以期望達到智慧流動無障礙。
然而由於從巴黎公約到伯恩公約，智慧財產所涵蓋的範圍僅在於工業財產與 著作權。隨著科技越來越進步，人類的智慧結晶已遠遠超過工業財產與著作權原 先的範圍，需要一個更正式的組織來做統整。因此，1967 年依照「成立世界智 慧財產權組織公約」（ Convention Establishing the World Intellectual Property Organization）成立世界智慧財產權組織（World Intellectual Property Organization, WIPO），並大幅度地擴大智慧財產權的範圍。根據成 立世界智慧財產權組織公約的規定，所謂智慧財產權，包括：文學、藝術及科學 之著作；演藝人員之演出、錄音物以及廣播；人類之任何發明；科學上之發現；
產業上之新型及新式樣；製造標章、商業標章及服務標章，以及商業名稱與營業 標記；防止不公平競爭；其他由人類在工業、科學、文學或藝術領域內一切智慧 創作所生之權利等。直至目前，參與世界智慧財產權組織的國家已多達 171 國之 多。
在 1993 年底，在關稅暨貿易總協定所召開之「烏拉圭回合」（Uruguay Round Agreements Act,URAA）談判中，智慧財產權成為了重要的議題，與會各國達成 最終協議，稱為「與貿易有關之智慧財產權協議」（ Agreement on Trade-Related Aspects ofIntellectual Property Rights,Including Trade in Counterfeit Goods，簡稱 TRIPs），。從此 TRIPs 納入關稅暨貿易總協定中，各締約國也達 成共識將智慧財產權再加以擴大，除了原先巴黎公約等之國際共識的權利：著作
開資訊之保護；對授權契約中違反競爭行為之管理之案，更擴充範圍至半導體晶 片、植物新品種等，將智慧之結晶從物體中萃取出來，分別以專利權、商標權、
著作權、營業秘密及積體電路布局法等對工商業的研發成果加以保護。本研究的 目的即在針對專利的申請條件與保護期限而衍生的知識外溢與市場競爭來探討 專利對組織學習與研發的影響。
根據中華民國專利法〈2004〉第一條規定，知道該法目的為鼓勵、保護、利 用發明與創作，以促進產業發展。具有法定的市場獨占壟斷性，專利或積體電路 布局係以公開資訊換取法律保障，換言之，一旦新產品或制程取得專利就應公開 該技術的資訊。專利最初之概念，乃是基於英國1623年之「獨占法規（Statute of Monopolies）」衍生而來。在日本，稱之為「特許」，英語系國家和德語系國家 稱之為Patent。世界智慧財產權組織將 Patent 解釋為：由政府所發給之一紙文 件，其上載明某特定發明，並創設出一種法律狀態，使該發明僅得在文件上所指 發明權人之授權下，方得利用之。專利不若營業秘密為不公開之商業機密，因此，
專利的取得可說是等於將個人或組織的新產品的相關技術公開給大眾，以換取法 律上所提供的市場獨占性的保障。
依中華民國專利法（2004）第二條之規定，專利可分為發明專利、新型專利 及新式樣專利三種，分述如下：
發明專利：根據中華民國專利法第廿一條規定，發明專利係指將利用自然法 則或自然力所產生之技術思想，表現在物或方法上者。而根據中
華民國專利法第廿二條規定，凡新發明具有產業上利用之價值，
且非已經公開於公眾者，得申請發明專利。專利發明係以具有產 業上利用價值為前提，又可分為兩大類：首先，是方法發明，是 指一種或多種之動作過程操作、步驟或手段，用於特定之標的即 可產生具體之結果者，其中又可分為有產品產生之生產或製造方 法(如化學製品之生產或製造方法)及無產品產生之施工或檢測
且非已經公開於公眾者，得申請發明專利。專利發明係以具有產 業上利用價值為前提，又可分為兩大類：首先，是方法發明，是 指一種或多種之動作過程操作、步驟或手段，用於特定之標的即 可產生具體之結果者，其中又可分為有產品產生之生產或製造方 法(如化學製品之生產或製造方法)及無產品產生之施工或檢測